專利名稱：狹縫噴嘴清洗裝置和涂覆裝置的制作方法
技術領域：
本發明涉及無旋轉方式的涂覆裝置，特別涉及用于清洗無旋轉法的涂覆處理中使用的狹縫噴嘴的噴出口周邊部的狹縫噴嘴清洗裝置。
背景技術：
IXD等的平面顯示器(FPD)的制造工藝中的圖像平版印刷工序中，較多使用無旋轉的涂敷法，該使具有狹縫形狀的噴出口的長尺型狹縫噴嘴涂敷法相對于玻璃基板等的被處理基板進行相對移動，在基板上涂覆處理液或藥液等的涂覆液例如抗蝕劑液。在典型的無旋轉涂覆法中，對固定載置在工作臺上的基板，通過狹縫噴嘴噴出帶狀的抗蝕劑液，并使狹縫噴嘴在與噴嘴長邊方向正交的水平方向移動。這樣，從狹縫噴嘴的噴出口向基板上溢出的抗蝕劑液在噴嘴后方平坦地延伸，在基板的一個表面上形成抗蝕劑涂覆膜(例如，專利文獻1)。作為其他的代表的無旋轉涂覆法，多使用在工作臺上在使基板懸浮在空中的狀態下沿著水平方向進行輸送的(工作臺長邊方向)的懸浮輸送方式。在該種方式中，設置在懸浮工作臺的上方的長尺型的狹縫噴嘴朝向通過其正下方的基板噴出帶狀的抗蝕劑液，由此在基板的輸送方向從基板的前端部向著后端部在基板上的一個表面上形成抗蝕劑涂覆膜(例如，專利文獻2)。通常，在狹縫噴嘴中，停止噴出動作時，噴出口附近容易附著或殘留抗蝕劑液，如果其原樣放置而干燥凝固，則在下一次涂覆處理時妨礙或擾亂抗蝕劑噴出流，有可能引起抗蝕劑膜厚的變動。因此，與涂覆處理部鄰接設置的噴嘴待機部上，為下一次涂覆處理做準備，設置有用于清洗的狹縫噴嘴的噴出口周邊部的狹縫噴嘴清洗裝置(例如，專利文獻3)。現有的狹縫噴嘴清洗裝置具有，被定位在噴嘴待機部內的規定位置的、在狹縫噴嘴下方沿著噴嘴的長邊方向掃描移動的噴嘴清洗頭或滑動架，該滑動架上搭載有分別向著狹縫噴嘴的噴出口周邊部分內噴射清洗液(例如稀釋液)和干燥用氣體(例如N2氣體) 的清洗噴嘴和干燥噴嘴。滑動架沿著狹縫噴嘴的噴出口周邊部沿著噴嘴長邊方向掃描移動，并向著狹縫噴嘴的噴出口周邊部的各部，清洗噴嘴首先吹出清洗液，接著干燥噴嘴吹出干燥用氣體。專利文獻專利文獻1日本特開平10-156255號公報專利文獻2日本特開2005-236092號公報專利文獻3日本特開2007-111612號公報
發明內容
上述現有的狹縫噴嘴清洗裝置，通過一次清洗掃描難以全面清掃狹縫噴嘴的噴出口周邊部，因此要反復數次清洗掃描(滑動架的掃描移動)，存在噴嘴清洗處理周期時間長，清洗液的消耗量多的問題。
本發明解決上述現有技術的問題點，提供提高清洗效率和清洗能力，實現清洗周期時間的縮短化和清洗液消耗量的節儉的狹縫噴嘴清洗裝置和具備該狹縫噴嘴清洗裝置的涂覆裝置。本發明的狹縫噴嘴清洗裝置，用于對涂覆處理中使用的具有狹縫狀的噴出口的長尺型狹縫噴嘴的噴出口周邊部進行清洗，其包括沿著上述狹縫噴嘴的噴出口周邊部在與上述狹縫噴嘴的長邊方向平行的水平的清洗掃描方向移動的滑動架；搭載在上述滑動架上、在上述清洗掃描方向移動并向上述狹縫噴嘴的噴出口周邊部吹出清洗液的第一清洗單元；和在上述清洗掃描方向，位于上述清洗單元之后，搭載在上述滑動架上，在上述清洗掃描方向移動并擦去附著在上述狹縫噴嘴的噴出口周邊部的液體的第一擦拭單元。上述的結構中，在清洗掃描方向，相對于狹縫噴嘴的各位置的噴出口周邊部，首先，第一清洗單元噴出清洗液，由此將附著在該噴出口周邊部的污垢溶解在清洗液中，污垢液殘留在噴出口周邊部。隨即，第一擦拭單元通過該噴出口周邊部，擦去附著在此的污垢液。本發明的涂覆裝置包括具有在涂覆處理中對被處理基板帶狀噴出涂覆液的狹縫狀的噴出口的長尺型狹縫噴嘴；在涂覆處理中向上述狹縫噴嘴供給涂覆液的涂覆液供給部；支撐上述基板的基板支撐部；在涂覆處理中，以上述狹縫噴嘴在上述基板上進行涂覆掃描的方式，在上述狹縫噴嘴和上述基板之間在水平方向進行相對移動的涂覆掃描機構； 和用于在涂覆處理的間歇對上述狹縫噴嘴的噴出口周邊部進行清洗的上述狹縫噴嘴清洗裝置。根據本發明的狹縫噴嘴清洗裝置，通過上述結構和作用能夠提高狹縫噴嘴的清洗效率，實現清洗周期的時間的縮短和清洗液消耗量的降低。此外，根據本發明的涂覆裝置， 通過具備本發明的狹縫噴嘴清洗裝置，能夠提高對狹縫噴嘴的清洗功能的清洗能力，改善涂覆處理的品質、成品率、維修成本。
圖1為表示能夠適用本發明的狹縫噴嘴清洗裝置的抗蝕劑涂覆裝置的一個結構例的立體圖。圖2為表示上述抗蝕劑涂覆裝置中的狹縫噴嘴的內部結構和基板上形成抗蝕劑涂覆膜的情形的截面圖。圖3為表示上述抗蝕劑涂覆裝置中狹縫噴嘴的外觀結構和基板上形成抗蝕劑涂覆膜的樣子的主視圖。圖4為表示上述抗蝕劑涂覆裝置具備的噴嘴恢復部的結構的局部截面主視圖。圖5為表示組裝在上述噴嘴恢復部的狹縫噴嘴清洗部的結構的立體圖。圖6為表示從清洗掃描的斜前方觀察的上述狹縫噴嘴清洗部的結構的立體圖。圖7為表示組裝在上述狹縫噴嘴清洗部的擦拭單元的主要部分的結構的圖。圖8為表示上述狹縫噴嘴清洗部中進行與狹縫噴嘴的對位的機構的結構的截面圖。圖9A為示意性地表示上述狹縫噴嘴清洗部的作用的側視圖。圖9B為示意性地表示上述狹縫噴嘴清洗部的作用的側視圖。
圖IOA為表示在上述狹縫噴嘴清洗部搭載在滑動架上的單元的組成的變形例的圖。圖IOB是表示上述狹縫噴嘴清洗部中的搭載在滑動架上的單元的組成的變形例的圖。圖IlA是表示上述狹縫噴嘴清洗部中以單觸式安裝在滑動架上安裝擦拭單元的結構例的圖。圖IlB是表示上述狹縫噴嘴清洗部中以單觸式在滑動架上安裝擦拭單元的另一結構例的圖。圖12為表示上述狹縫噴嘴清洗部的第二實施方式的結構的俯視圖。圖13為上述狹縫噴嘴清洗部的第二實施方式的干燥單元的截面圖。圖14為圖12的B-B的截面圖符號說明32狹縫噴嘴52狹縫噴嘴清洗部60Y方向移動部70、74清洗單元72、76擦拭單元78干燥單元
具體實施例方式
以下，參照附圖，說明本發明的最佳實施方式。圖1為表示本發明的能夠適用狹縫噴嘴清洗裝置的抗蝕劑涂覆裝置的一個結構例。該抗蝕劑涂覆裝置包括通過氣體的壓力使被處理基板例如FPD用的玻璃基板G 懸浮在空中的懸浮工作臺10 ；在該懸浮工作臺10上沿著懸浮工作臺長邊方向(X方向)輸送懸浮在空中的基板G的基板輸送機構20 ；向在懸浮工作臺10上進行輸送的基板G的上表面供給抗蝕劑液的狹縫噴嘴32 ；和在涂覆處理的間歇恢復狹縫噴嘴32的噴嘴恢復部42。在懸浮工作臺10的上表面設置有向上方噴射規定的氣體(例如空氣)的多個氣體噴射孔12，通過從這些氣體噴射孔12噴射的氣體的壓力，使基板G距離工作臺上表面懸浮在一定高度上。基板輸送機構20具有夾持懸浮工作臺10在X方向延伸的一對導軌22A、22B，沿著這些導軌22A、22B能夠往復移動的一對滑塊M ；和在懸浮工作臺10上以能夠裝卸地保持基板G的兩側端部方式設置在滑塊M上的吸附墊等的基板保持部件(未圖示)，通過直進移動機構(未圖示)在輸送方向(X方向)移動滑塊對，由此，在懸浮工作臺10上進行基板G的懸浮輸送。抗蝕劑噴嘴32構成為沿著與輸送方向(X方向)正交的水平方向(Y方向)橫跨在懸浮工作臺10的上方，通過狹縫狀的噴出口對通過其正下方的基板G的上表面(被處理面)噴出帶狀的抗蝕劑液R。此外，狹縫噴嘴32構成為，通過例如包括滾珠絲杠機構和導引部件等的噴嘴升降機構26，能夠與支撐該噴嘴的噴嘴支撐部件28 一體地沿著鉛直方向(Z方向)可移動地升降。此外，狹縫噴嘴32通過抗蝕劑供給管30與由抗蝕劑液容器和送液泵等構成的抗蝕劑供給部(未圖示)連接。與狹縫噴嘴32鄰接，在懸浮工作臺10的上方設置有噴嘴恢復部42。該噴嘴恢復部42的詳細參照圖4和圖5在后面詳述。在此，說明該抗蝕劑涂覆裝置中的抗蝕劑涂覆動作。首先，從前段的單元例如熱處理單元(未圖示)，通過分發機構(未圖示)將基板G搬入設定在懸浮工作臺10的前端側的搬入區域，在此，待機的滑塊M接受并保持基板G。在懸浮工作臺10上，基板G受到由氣體噴射孔12噴射的氣體(例如高壓空氣)的壓力，在大約水平的姿勢保持懸浮狀態。如此，基板G在水平姿勢下以一定速度在輸送方向(χ方向)移動，同時，狹縫噴嘴 32向著正下方的基板G以規定的壓力或流量噴出帶狀的抗蝕劑液，由此，如圖2和圖3所示，從基板G的前端側向后端側，形成膜厚均勻的抗蝕劑液涂覆膜。如果基板G的后端通過狹縫噴嘴32的下方，則在基板的一表面上形成抗蝕劑涂覆膜。接著，基板G通過滑塊M，在懸浮工作臺10上被懸浮輸送，由設定在懸浮工作臺10后端的搬出區域，通過分發機構(未圖示)送到后段的單元(未圖示)。 如圖2所示，狹縫噴嘴32由在噴嘴長邊方向(Y方向)平行延伸的前肋33F和后肋 33R構成、將這些一對肋33F、33R對接并用螺栓結合成一體，具有狹縫狀的噴出口 32a。與狹縫噴嘴32的噴出口 3 平行延伸的兩側的噴嘴側面32f、32r，形成為朝向噴出口 3 從上向下逐漸變細的錐形狀。抗蝕劑涂覆時，不僅僅是噴出口 32a，兩側的噴嘴側面32f、32r 的下端部也被抗蝕劑液R浸潤，完成抗蝕劑液涂覆處理后的噴出口 3 和噴嘴側面32f、32r 的下端部殘留有抗蝕劑液R的污垢。圖4表示噴嘴恢復部42內的結構。噴嘴恢復部42在一個箱體44內，併設有向狹縫噴嘴32噴出少量抗蝕劑液以為下次涂覆處理做準備、并卷在啟動輥46上的啟動處理部48 ；用于以防止干燥為目的而將狹縫噴嘴32的噴出口保持在溶劑蒸汽的氣氛中的噴嘴浴室50 ；用于清洗狹縫噴嘴32的噴出口周邊部(噴出口 32a、噴嘴側面32f、32r)的狹縫噴嘴清洗部52。結束一次涂覆處理的狹縫噴嘴32，最初接受由狹縫噴嘴清洗部52進行的清洗處理，接著，在噴嘴浴室50內待機，在下一個涂覆處理即將開始之前接受由啟動處理部48進行的啟動處理。使狹縫噴嘴32進入噴嘴恢復部42內的各部(48、50、52)，在未圖示的控制器的控制下，例如通過由滾珠絲杠機構構成的X方向移動部54，使噴嘴恢復部42整體，即箱體44 在基板輸送方向(X方向)移動，并且通過噴嘴升降機構26(圖1)，在鉛直方向(Z方向)移動狹縫噴嘴32。組裝在噴嘴恢復部42上的狹縫噴嘴清洗部52，是本發明一實施方式中的狹縫噴嘴清洗裝置。以下，詳細說明狹縫噴嘴清洗部52的結構和作用。如圖5所示，狹縫噴嘴清洗部52具有通過連接部件62與Y方向移動部60結合， 并沿著狹縫噴嘴32的噴出口周邊部在與狹縫噴嘴的長邊方向平行的水平的清洗掃描方向 (Y方向)移動的滑動架64。Y方向移動部60，由例如齒條和小齒輪機構構成，具有在Y方向延伸的齒條66和內設有在該齒條66上轉動的齒輪(未圖示)的可動單元68。滑動架 64相對與狹縫噴嘴32的噴出口周邊部進行對位后，在清洗掃描方向(Y方向)移動。
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狹縫噴嘴清洗部52在清洗掃描方向，按照第一清洗單元70為始，以下為第一擦拭單元72、第二清洗單元74、第二擦拭單元76和干燥單元78的順序使這些單元并排成一列地搭載在滑動架64上。各個單元70 78，以盒式能夠裝卸的方式安裝在滑動架64上。圖6是表示從清洗掃描的斜前方觀察狹縫噴嘴清洗部52的主要部分的結構。第一和第二清洗單元70、74分別具有在上表面具有凹形的槽部的塊狀的噴嘴保持部7(^、7如；從該噴嘴保持部7(^、743的兩側的內壁突出的多對(或者一對)清洗噴嘴70b、74b ；和通過噴嘴保持部70a、74a內的流路與清洗噴嘴70b、74b連接的配管連接器 70c、74c。配管連接器70c、7k分別與來自于清洗液供給部(未圖示)的清洗液供給管(未圖示)連接。干燥單元78分別具有在上表面具有凹形槽部的塊狀的噴嘴保持部78a ；從該噴嘴保持部78a的兩側的內壁突出的多對(或一對)干燥噴嘴78b ；和通過噴嘴保持部78a內的流路與干燥噴嘴78b連接的配管連接器78c。配管連接器78c與來自于干燥氣體供給部 (未圖示)的氣體供給管(未圖示)連接。第一和第二擦拭單元72，76分別具有在上表面具有V型槽部的塊狀的擦拭保持部72a、76a ；和橫臥安裝在該噴嘴保持部72a、76a的兩側傾斜面的一對(或多對)長邊形擦拭部件(72f、72r)、(76f、76r)。如圖6所示，擦拭部件(72f、72r)、(76f、76r)俯視時以V字狀延伸。模仿擦拭部件 (72f、72r)、(76f、76r)的V形狀，噴嘴保持部72a、76a的前部俯視時形成V形狀的缺口，該形狀缺口部72d、76d下方，通過滑動架64的貫通孔，接通箱體44的底的排水箱80 (圖4)。 這樣，V形狀缺口部72d、76d，構成狹縫噴嘴清洗部52的排出口。圖7表示第一和第二擦拭單元72、76中，擦拭保持部72a、76a的單側一半和單側擦拭部件72r、76i 的結構。圖7 (a)為立體圖，圖7 (b)、(c)是圖7(a)中從箭頭A、B的方向觀察的視圖。擦拭部件72r(76r)由例如扎拉庫(注冊商標名)等的含氟彈性體構成，具有埋入擦拭保持部72a(76a)的傾斜面的基部P ；從該基部P向擦拭保持部72a(76a)的傾斜面上方突出延伸的葉片部Q。對狹縫噴嘴32進行清洗時，葉片部Q的上邊緣部以幾乎均勻的壓力沿著整個長度抵接狹縫噴嘴32的噴出口周邊部(噴出口 32a、噴嘴側面32f、32r)。擦拭保持部72a (76a)的傾斜面上形成有能夠裝卸地收納擦拭部件72r (76r)的基部P用的槽部M。葉片部Q以相對于擦拭保持部72a(76a)的傾斜面傾斜立起的角度突出。該立起角度α優選30° 60°的范圍，最優選在45°附近。此外，擦拭部件72r(76r)在清洗掃描方向以相對于水平面傾斜立起的角度安裝在擦拭保持部72a(76a)的傾斜面。該立起角度β優選15° 45°的范圍，最優選在30° 附近。擦拭保持部72a、76a的另一側的一半和另一個的擦拭部件72f、76f也為與上述同樣的結構。圖8表示該實施方式的狹縫噴嘴清洗部52具備的對位機構。狹縫噴嘴32到達狹縫噴嘴清洗部52，如上所述，通過X方向移動部M使噴嘴恢復部42整體在基板輸送方向(X方向)移動(圖4)，并且，通過噴嘴升降機構沈(圖1)在鉛直方向(Z)方向移動狹縫噴嘴32。這樣，如圖8所示，在狹縫噴嘴32和狹縫噴嘴清洗部52 之間自動進行對位，使得狹縫噴嘴32的兩噴嘴側面32f、32r和噴出口 3 分別以適度并且均勻的壓力與第一和第二擦拭單元72、76的擦拭部件72f(76f)、72r(76r)接觸。如圖8所示，滑動架64具有與Y方向移動部60的連接部件62 —體結合的基礎板 64a、和在與噴嘴長邊方向(Y方向)正交的水平方向(X方向)和鉛直方向(Z方向)能夠變位地安裝在該基礎板6 上的可動板64b，在可動板64b上，按照下述順序排列搭載有第一和第二清洗單元70、74、第一和第二擦拭單元72、76和干燥單元78。在基礎板6 和可動板64b上，在與第一和第二擦拭單元72、76的V形狀缺口部72d、76d對應位置分別形成有排出用的貫通孔64c、64d。在此，可動板64b通過從上到下貫通基礎板64a的多個柱塞82，在鉛直方向(Z方向)能夠彈性變位，并且通過從外側到內側貫通固定在基礎板6 上表面的塊板84的多個柱塞86，能夠在X方向彈性變位。各柱塞82、86，在軀體(螺栓)中內設有彈簧(未圖示)， 以點接觸的方式加壓接觸可動板64b的球狀的頭部通過彈力彈性引退。如上所述，通過X方向移動部M(圖4)和噴嘴升降機構沈(圖1)，狹縫噴嘴32 到達狹縫噴嘴清洗部52時，以模仿狹縫噴嘴的噴出口周邊部(噴出口 32a、噴嘴側面32f、 32r)的方式，第一和第二擦拭單元72、76還有可動板64b通過柱塞82、86，在X方向和Z方向彈性變位。由此，第一和第二擦拭單元72、76的擦拭部件(72f、72r)、(76f、76r)沿著其整個長度，以適度均勻的壓力緊貼在狹縫噴嘴的噴出口周邊部(噴出口 32a、噴嘴側面32f、 32r)。在擦拭部件(72f、72r)、(76f、76r)中，不僅能夠個別地更換擦拭前肋33F的噴出口 3 與噴嘴側面32f的擦拭部件72f、76f以及擦拭后肋33R的噴出口 3 與噴嘴側面 32r的擦拭部件72r、76r，還能夠分別選定各自的材質，也能夠分別設定或調整各自的材質 (特別是彈性體)的硬度。例如，如圖2所示，平流方式的抗蝕劑涂覆處理中使用的狹縫噴嘴32，比起前肋 33F的噴嘴側面32f，后肋33R的噴嘴側面32r由于抗蝕劑液R迂回，污垢比較多。因此，污垢多的后肋33R側的擦拭部件72r、76r，基于增大接觸摩擦，提高擦拭力的原因而優選其材質硬度較大的材料。另一方面，污垢少的前肋33F側的擦拭部件72f、76f，材質硬度比較小， 能夠使接觸摩擦小，提高耐久性。同樣，在第一和第二擦拭部件72、76之間，在清洗掃描方向位于前方的第一擦拭單元72的擦拭部件72f、72r的材質硬度選定的高，位于后面的第二擦拭單元76的擦拭部件76f、76r的材質硬度選定的低。下面，參照圖9A和圖9B，說明該實施方式的狹縫噴嘴清洗部52的清洗作用。狹縫噴嘴清洗部52中，上述與狹縫噴嘴32的對位完成之后，維持該對位狀態(圖 8的狀態)，并在未圖示的控制器的控制下，使Y方向移動部60動作，滑動架64在清洗掃描方向(Y方向)以一定速度移動。在此，狹縫噴嘴32剛完成一次(一個基板)的抗蝕劑涂覆處理，在該噴出口周邊部(噴出口 32a、噴嘴側面32f、32r)附著抗蝕劑液R，被污染。在滑動架64開始掃描移動的幾乎同時，搭載在滑動架64上的全部的單元開始各自的動作。更詳細而言，第一清洗單元70在滑動架64上的最前面位置，通過清洗噴嘴70b 噴出清洗液例如稀釋液S，一邊向狹縫噴嘴32的噴出口周邊部(噴出口 32a、噴嘴側面32f、
932r)噴出稀釋液S，一邊在清洗掃描方向(Y方向)移動。第一擦拭單元72，緊接著第一清洗單元70，一對擦拭部件72f、72r滑動接觸狹縫噴嘴32的噴出口周邊部(噴出口 32a、噴嘴側面32f、32r)，在清洗掃描方向(Y方向)移動。第二清洗單元74，緊接在第一擦拭單元72之后，由清洗噴嘴74b噴出清洗液例如稀釋液S，一邊向狹縫噴嘴32的噴出口周邊部(噴出口 32a、噴嘴側面32f、32f)噴出稀釋液S，一邊在清洗掃描方向(Y方向)移動。第二擦拭單元76，緊接在第二清洗單元74之后，一對擦拭部件76f、76i 滑動接觸狹縫噴嘴32的噴出口周邊部(噴出口 32a、噴嘴側面32f、32r)，在清洗掃描方向(Y方向) 移動。干燥單元78，緊接在第二擦拭單元76之后，通過干燥噴嘴78b噴出干燥用氣體，例如N2氣體，一邊向狹縫噴嘴32的噴出口周邊部(噴出口 32a、噴嘴側面32f、32r)吹出N2 氣體，一邊在清洗掃描方向(Y方向)移動。圖9A和圖9B以一定的時間間隔(t1 t2，t3，……)示意性的表示如上述的狹縫噴嘴清洗部52中，通過清洗掃描，在清洗掃描方向(Y方向)上從一端向另一端連續清洗并清掃狹縫噴嘴32的噴出口周邊部(噴出口 32a、噴嘴側面32f、32r)的情形。該清洗掃描中，如果著眼于各位置(例如圖的P6的位置)的狹縫噴嘴32的噴出口周邊部(噴出口 32a、噴嘴側面32f、32r)，首先，通過第一清洗單元70向該噴出口周邊部吹出稀釋液S，附著在該噴出口周邊部的抗蝕劑液R溶解在稀釋液S中，混合有兩液體R、S 的污垢液殘RS留在噴出口周邊部。隨即，使第一擦拭單元72的一對擦拭部件72f、72r滑動接觸地通過該噴出口周邊部。擦拭部件72f、72i —邊朝向行進方向以傾斜的角度β立起，并以適度的壓力與該噴出口周邊部滑動接觸，一邊向下掃落污垢液RS—邊前進。掃落的污垢液RS，從排出口 72d落入下方的排水箱80。第一擦拭單元72進行的擦拭效果充分，即使擦拭的污垢液RS附著在第一擦拭單元72通過的路徑上，也是少量的。緊接著，第二清洗單元74向該噴出口周邊部吹出稀釋液S，由此，在該噴出口周邊部附著的擦拭殘留的污垢液RS被稀釋液S稀釋，相對地稀釋液S的比率大且污垢少的液體 &殘留在噴出口周邊部。隨即，使第二擦拭單元76的一對擦拭部件76f、76r滑動接觸地通過該噴出口周邊部。擦拭部件76f、76r朝向行進方向以傾斜的角度β立起，并以適度的壓力與該噴出口周邊部滑動接觸，一邊向下掃落污垢液& 一邊前進。掃落的液體&，從排出口 76d落入下面的排水箱80。第二擦拭單元76進行的擦拭效果充分，即使擦拭的殘留液&附著在第二擦拭單元76通過的路徑上，也是少量的。緊接著，干燥單元78向該噴出口周邊部吹出N2氣體，由此，用風力除去附著在該噴出口周邊部的擦拭殘留液體&，該噴出口周邊部成為潔凈并且干燥的狀態。從狹縫噴嘴32的一端到另一端沿著全長，在狹縫噴嘴32的清洗掃描方向(Y方向)的各位置的噴出口周邊部進行上述那樣一連串的處理(第一次的清洗一第一次的擦拭 —第二次的清洗一第二次的擦拭一干燥)。通過進行一次(一個去路)清洗掃描，沿著貫穿狹縫噴嘴32的全長，在各位置充分除去噴出口周邊部(噴出口 32a、噴嘴側面32f、32r)的抗蝕劑污垢。因此，滑動架64達到設定在狹縫噴嘴32的另一端附近的終點時，在此完成噴嘴清洗處理。隨即，在控制器的控制下，噴嘴升降機構38(圖1)和X方向移動部M(圖4)動作，使狹縫噴嘴32從狹縫噴嘴清洗部52移向鄰接的噴嘴浴室50。如上所述，該實施方式的狹縫噴嘴清洗部52，將第一和第二清洗單元70、74、第一和第二擦拭單元72、76以及干燥單元78按照上述規定順序依次搭載在與狹縫噴嘴32的長邊方向平行的水平的清洗掃描方向(Y方向)移動的滑動架64上，在清洗掃描方向(Y方向)的移動中，第一和第二清洗單元70、74向狹縫噴嘴32的噴出口周邊部吹出清洗液，第一和第二擦拭單元72、76擦去附著在狹縫噴嘴32的噴出口周邊部的液體(污垢)，干燥單元78向狹縫噴嘴32的噴出口周邊部吹出干燥氣體。由此，特別是通過擦拭單元72、76的作用，大大改善了清洗效率，通過一次(一個去路)的清洗掃描，能夠充分清洗、清掃狹縫噴嘴32的噴出口周邊部，容易達成清洗周期時間的縮短化和清洗液消耗量的節減。此外，該實施方式的抗蝕劑涂覆裝置，在噴嘴恢復部42具備上述狹縫噴嘴清掃部 52，由此，能夠提高對狹縫噴嘴32的清洗功能的清洗能力，能夠改善抗蝕劑涂覆處理的品質、成品率、維修成本。以上，說明了本發明的最佳實施方式，本發明不限于上述實施方式，在其技術思想的范圍內能夠進行各種變形或變更。例如，能夠對搭載在滑動架64上的單元的組成方式(清洗單元、擦拭單元和干燥單元的個數、排列順序等)進行各種變形和變更。例如，如圖IOA的變形例(a)所示，能夠縱向接續配置三組清洗單元和擦拭單元 [70、72]、[74、76]、[90、92]，最后配置干燥單元 78。如圖IOA的變形例(b)所示，縱向接續配置2組清洗單元和擦拭單元[70、72]、 [74,76]的結構與上述實施方式相同，但例如第一擦拭單元72內能夠設置2對擦拭部件 72f、72r。如圖IOA的變形例(c)所示，也能夠為在滑動架64上搭載1組清洗單元和擦拭單元[70、72]和干燥單元78的結構。此外，如圖IOA的變形例(d)所示，也能夠為省略干燥單元78，在滑動架64上僅搭載1組清洗單元和擦拭單元[70、72]的結構。此外，不限于上述變形例(a) (d)，上述實施方式中，多次反復移動滑動架64，反復多次進行清洗掃描也可以。此外，如圖IOB所示，能夠在滑動架64上搭載去路用的擦拭單元72和回路用的擦拭單元94，進行去路清洗掃描和回路清洗掃描。這種情況下，在去路的清洗掃描方向，去路用擦拭單元72之前配置去路用的清洗單元70和干燥單元96，回路的清洗掃描方向中，在擦拭單元94之前配置回路用的清洗單元98和干燥單元78，在兩個擦拭單元72、94之間配置去路/回路兼用的清洗單元74。進行去路的清洗掃描時，通過例如壓氣缸使回路用的擦拭單元94下降，從狹縫噴嘴32分離或退避(即成為不使用的狀態)，并且行進方向前部的回路用干燥單元96和行進方向后部的回路用清洗單元98為關閉狀態(即成為不使用狀態)。進行回路的清洗掃描時，通過例如壓氣缸使去路用的擦拭單元72下降，從狹縫噴嘴32分離或退避(即成為不使用的狀態)，并且行進方向前部的去路用干燥單元78和行進
11方向后部的回路用清洗單元70為關閉狀態(即成為不使用狀態)。圖IlA和圖IlB表示幾個以單觸式能夠裝卸地安裝在滑動架64上的擦拭單元(作為代表例有擦拭單元72)的結構例。圖IlA的(a)、(b)所示的結構例，滑動架64構成為上表面開口的截面為-字型的箱體或殼體形狀，能夠從上面對于滑動架64插拔擦拭單元72。優選在滑動架64設置定位用的錐形壁面64a(圖IlA(a))或定位銷64b (圖IlA(b))。優選采用在滑動架64的兩側壁 6 安裝柱塞100，在擦拭單元72側的槽口 72η上卡合柱塞100的頭部的結構。或者，代替柱塞100，可以采用如圖IlB的(a)、(b)所示，在滑動架64的兩側壁6 上安裝板簧102， 在擦拭單元72的肩部卡止板簧102的結構。下面，說明狹縫噴嘴清洗部的第二實施方式。與上述實施方式相同的內容省略說明。圖12為狹縫噴嘴清洗部152的俯視圖。狹縫噴嘴清洗部152，在清洗掃描方向以第一清洗單元179為始，以下為第一擦拭單元72、第二清洗單元180、第二擦拭單元76、干燥單元 78和第二干燥單元178，以該順序并列排成一列，搭載在滑動架64上。各單元178 180、 72,76以盒式能夠裝卸地安裝在滑動架64上。圖13為圖12的A-A截面圖。干燥單元78的相面對的一個面上設置干燥噴嘴78b 1、 7油2，從干燥噴嘴78bl、78l32噴出干燥用氣體，例如隊氣體。干燥單元78的另一個面也同樣。此外，干燥單元178的相面對的一個面設置干燥噴嘴178bl、178b2，從干燥噴嘴178bl、 178b2噴出干燥用氣體，例如隊氣體。干燥單元178的另一個面也同樣。在此，如圖13所示，對位于上側的干燥噴嘴78bl和干燥噴嘴178bl的高度位置進行比較時，干燥噴嘴78bl比干燥噴嘴178bl設置的高。此外，干燥噴嘴7油2和干燥噴嘴 178b2的高度位置設置在相同高度。如此，干燥噴嘴78bl設置在比干燥噴嘴178bl高的位置，相對于噴嘴側面32f、 32r從上依次吹附氣體，因此附著在噴嘴側面32f、32r的擦拭殘留液體能夠更有效的流向下方，進行干燥。此外，如圖12所示，第一和第二清洗單元179、180具有上表面具有凹形槽部的塊狀的噴嘴保持部179a、180a ；和從該噴嘴保持部179a、180a的兩側的內壁突出的多對清洗噴嘴 179b、180b。從上方觀察時，清洗噴嘴179b、180b相互錯開配置，因此，例如，在狹縫噴嘴32不在凹形的槽部的狀態下，即使從清洗噴嘴179b噴出清洗液，從清洗噴嘴179b噴出的清洗液之間也不會相對沖突而飛散。接著，圖14為圖12的B-B截面圖(第二清洗單元180的截面圖)。從噴嘴保持部 180a的內壁上下兩列配置清洗噴嘴180b。此外，第一清洗單元179上也同樣，上下兩列配置清洗噴嘴179b。此外，不限于本實施例，第一擦拭單元72、第二擦拭單元的擦拭保持部72a、76d能夠容易從滑動架64取下，能夠僅交換擦拭部件(72f、72r)、(76f、76r)，通過將每個擦拭保持部72a、76d交換為新的，能夠更容易進行擦拭的交換。此外，擦拭部件72r(76r)的立起角度β優選在15° 45°的范圍內，最優選在 30°附近，但以立起角度β為30°和44°進行實驗時，30°的擦拭性能好。考察該結果可知，為了擦拭噴嘴側面32f、32i 的規定區域，立起角度β越小擦拭部件72r(76r)的全長需要越長。因此，立起角度β =30°比立起角度β =44°擦拭長，在擦拭噴嘴側面32f、32r 的相同區域的情況下，由于擦拭長因此立起角度β =30°的擦拭性能高。但是，立起角度 β比30更小時，則擦拭的全長過長，擦拭阻力增加，不能有效擦拭。因此，立起角度β最優選在30°附近。 作為本發明的涂覆液，除了抗蝕劑液以外，也可以是例如層間絕緣材料、電介質材料、配線材料等的涂覆液，也能夠是各種藥劑、顯影液、漂洗液等。本發明的被處理基板不限于LCD基板，其他的平面顯示器用基板、半導體晶片、CD基板、光蝕刻掩膜、印刷基板等也可以。
權利要求
1.一種狹縫噴嘴清洗裝置，用于對涂覆處理中使用的具有狹縫狀的噴出口的長尺型狹縫噴嘴的噴出口周邊部進行清洗，該狹縫噴嘴清洗裝置的特征在于，包括沿著所述狹縫噴嘴的噴出口周邊部與所述狹縫噴嘴的長邊方向平行地在水平的清洗掃描方向上移動的滑動架；搭載在所述滑動架上的、在所述清洗掃描方向上移動得同時向所述狹縫噴嘴的噴出口周邊部噴出清洗液的第一清洗單元；和，在所述清洗掃描方向上位于所述清洗單元之后并搭載在所述滑動架上的、在所述清洗掃描方向上移動的同時擦去附著在所述狹縫噴嘴的噴出口周邊部的液體的第一擦拭單元。
2.如權利要求1所述的狹縫噴嘴清洗裝置，其特征在于具有干燥單元，其在所述清洗掃描方向上位于所述第一擦拭單元之后，并搭載在所述滑動架上，在所述清洗掃描方向上移動的同時對所述狹縫噴嘴的噴出口周邊部吹出干燥用氣體。
3.如權利要求1所述的狹縫噴嘴清洗裝置，其特征在于，具有在所述清洗掃描方向上位于所述第一擦拭單元之后并搭載在所述滑動架上的、在所述清洗掃描方向上移動的同時對所述狹縫噴嘴的噴出口周邊部噴出清洗液的第二清洗單元； 和在所述清洗掃描方向，位于所述第二清洗單元之后，并搭載在所述滑動架上，在所述清洗掃描方向移動并對所述狹縫噴嘴的噴出口周邊部附著的液體進行擦拭的第二擦拭單元。
4.如權利要求3所述的狹縫噴嘴清洗裝置，其特征在于具有干燥單元，其在所述清洗掃描方向上位于所述第二擦拭單元之后，并搭載在所述滑動架上，在所述清洗掃描方向上移動的同時對所述狹縫噴嘴的噴出口周邊部吹出干燥用氣體。
5.如權利要求1所述的狹縫噴嘴清洗裝置，其特征在于在所述狹縫噴嘴的與噴出口平行地延伸的兩側的噴嘴側面，形成為向著噴出口從上到下逐漸變細的錐形形狀，所述清洗單元具有從兩側向所述錐形形狀的噴嘴側面吹附清洗液的多個清洗噴嘴，所述擦拭單元具有以相對于水平面傾斜立起的角度從兩側分別個別地與所述錐形形狀的噴嘴側面滑動接觸的一對或多對長尺形擦拭部件。
6.如權利要求5所述的狹縫噴嘴清洗裝置，其特征在于相對于水平面的所述擦拭部件的立起角度為15° 45°。
7.如權利要求5或6的狹縫噴嘴清洗裝置，其特征在于所述擦拭單元具有塊狀的擦拭保持部，該擦拭保持部具有分別與所述狹縫噴嘴的噴出口和噴嘴側面平行相對的底部和傾斜面，在所述擦拭保持部的傾斜面安裝有所述擦拭部件。
8.如權利要求7所述的狹縫噴嘴清洗裝置，其特征在于所述擦拭部件具有埋入所述擦拭保持部的傾斜面的基部；和從所述基部向所述保持部的傾斜面上方突出的葉片部。
9.如權利要求8所述的狹縫噴嘴清洗裝置，其特征在于所述擦拭部件的葉片部以相對于所述擦拭保持部的傾斜面傾斜立起的角度突出。
10.如權利要求9所述的狹縫噴嘴清洗裝置，其特征在于相對于所述擦拭保持部的傾斜面的所述葉片部的立起角度為30° 60°。
11.如權利要求10所述的狹縫噴嘴清洗裝置，其特征在于在所述擦拭保持部的傾斜面形成有槽部，該槽部用于能夠裝卸地收納所述擦拭部件的基部ο
12.如權利要求5或6所述的狹縫噴嘴清洗裝置，其特征在于 所述擦拭部件由含氟彈性體構成。
13.如權利要求1 6中任一項所述的狹縫噴嘴清洗裝置，其特征在于 所述擦拭單元能夠裝卸地安裝在所述滑動架上。
14.如權利要求1 6中任一項所述的狹縫噴嘴清洗裝置，其特征在于在所述滑動架上具有對位機構，使所述擦拭單元順著所述狹縫噴嘴的噴出口周邊部能夠彈性變位。
15.一種涂覆裝置，其特征在于，包括具有在涂覆處理中對被處理基板帶狀地噴出涂覆液的狹縫狀的噴出口的長尺型狹縫噴嘴；在涂覆處理中向所述狹縫噴嘴供給涂覆液的涂覆液供給部； 支撐所述基板的基板支撐部；在涂覆處理中，以所述狹縫噴嘴在所述基板上進行涂覆掃描的方式，在所述狹縫噴嘴與所述基板之間在水平的一個方向上進行相對移動的涂覆掃描機構；和用于在涂覆處理的間歇對所述狹縫噴嘴的噴出口周邊部進行清洗的權利要求1 6中任一項所述的狹縫噴嘴清洗裝置。
全文摘要
本發明提供一種狹縫噴嘴清洗裝置，能夠短時間有效清洗狹縫噴嘴的噴出口周邊部。該狹縫噴嘴清洗部(52)具有沿著狹縫噴嘴(32)的噴出口周邊部在與狹縫噴嘴的長邊方向平行的水平的清洗掃描方向(Y方向)移動的滑動架(64)。狹縫噴嘴清洗部(52)，在清洗掃描方向，以第一清洗單元(70)為始，以下為第一擦拭單元(72)、第二清洗單元(74)、第二擦拭單元(76)和干燥單元(78)，以該順序排成一列地搭載在該滑動架(64)上。
文檔編號B05C5/02GK102161028SQ20111004126
公開日2011年8月24日 申請日期2011年2月17日 優先權日2010年2月17日
發明者元田公男, 宮崎文宏, 小笠原幸雄 申請人:東京毅力科創株式會社