涂敷裝置及其涂敷位置修正方法

專利名稱：涂敷裝置及其涂敷位置修正方法
技術領域：
本發明涉及液晶面板等平面面板制造用的涂敷裝置，特別涉及備有門形架的涂 敷裝置及其涂敷位置修正方法。在該涂敷裝置中，門形架設有可移動的涂敷頭，一邊使 這些涂敷頭在X、Y軸方向移動，一邊從涂敷頭往基板上涂敷粘接劑等漿料，在基板上描 繪出預定的漿料圖案。
背景技術：
在LCD (液晶顯示裝置)面板等平面面板領域中，為了提高面板的制作效率，為 了從一塊玻璃基板上得到多個面板基板，玻璃基板的尺寸日益大型化。隨之，為了制作 該平面面板，用于往玻璃基板上涂敷粘接劑等漿料的涂敷裝置也日益大型化。在這樣的 涂敷裝置中，使用設有多個涂敷頭的門形架，一邊使這些涂敷頭同時沿相同軌跡移動， 一邊涂敷漿料，這樣，在同一塊玻璃基板上同時形成相同的漿料圖案。作為這樣的涂敷裝置的現有例，已知有如下的技術在架臺上設置保持基板用 的基板保持部，設置跨越該基板的、能在一個方向(X軸方向)往復移動的2臺門形架， 在各門形架上設置沿其長度方向(Y方向)配列、可在該方向移動的多個涂敷頭，這些涂 敷頭在門形架的長度方向(Y軸方向)移動，各門形架在垂直于其長度方向的方向(X軸 方向)移動，這樣，這些涂敷頭一邊噴出漿料一邊沿相同軌跡移動，在同一個基板上描 繪出多個相同的漿料圖案(例如參見專利文獻1)。另外，作為另一個現有例，提出有如下的涂敷裝置該涂敷裝置設有帶多個涂 敷頭的2臺門形架，一個門形架是固定的，另一個門形架可以移動，通過使該門形架移 動，可用規定的間隔設置2臺門形架，在該狀態下，使基板在2個方向移動，從各門形架 的涂敷頭噴出漿料，這樣，在該基板上同時描繪出多個相同的漿料圖案(例如參見專利 文獻2)。在該專利文獻2記載的涂敷裝置中，在設在門形架上的每個涂敷頭上還設置了 使其噴嘴在平行于門形架移動方向的方向(Y軸方向)移動的機構，當相對于基板有θ軸 方向的偏差時，用該機構使各涂敷頭相對于門形架在Y軸方向變位(位置調節)，據此， 補償基板的θ軸方向的偏差。另外，作為再一個現有例，提出了一種漿料涂敷器，在框架(門形架)上設置多 個頭組件(涂敷頭)，使這些頭組件的噴嘴能在XYZ三個方向移動，該框架是固定的，使 基板在平面上的XY軸方向移動，這樣，描繪出多個漿料圖案(例如參見專利文獻3)。在該專利文獻3記載的技術中，框架的長度方向是X軸方向，與框架的長度方向 垂直的方向是Y軸方向，噴嘴相對于基板的高度方向是Z軸方向，在更換頭組件時，對 于更換的新的頭組件，使其噴嘴在XY軸方向移動，據此，修正因頭組件的更換而造成的 新的頭組件的噴嘴的位置偏差。該更換噴嘴的位置偏差的修正方法，是在載置基板的臺上的規定位置設置計測 機構，把多個噴嘴中的更換噴嘴以外的一個噴嘴作為基準噴嘴，使該計測機構向規定位
4置移動，檢測該位置的計測機構和基準噴嘴的位置偏差，求出計測機構的修正位置，使 計測機構移動到該修正位置后，移動到與更換噴嘴對應的規定位置，檢測出該規定位置 與更換噴嘴的位置偏差，求出該更換噴嘴的修正位置，這樣，不必進行在虛設基板上涂 敷漿料的操作，可以對更換噴嘴的位置偏差進行修正。專利文獻1 日本特開2002-346452號公報專利文獻2 日本特開2003-225606號公報專利文獻3:日本特開2005-7393號公報

發明內容
為了制造LCD面板等，用設在多個門形架上的多個涂敷頭在同一塊大型基板 上同時地描繪出多個相同的漿料圖案時，考慮到從該基板分割成多個面板等后工序的操 作，在描繪了漿料圖案的各個基板上，這些各個漿料圖案必須總是描繪在基板上的預定 位置。為此，設在同一門形架上的多個涂敷頭之間必須總是保持正確的位置關系，即使 設在不同門形架上的涂敷頭之間也必須總是保持正確的位置關系，門形架之間必須總是 保持正確的位置關系。為此，監視各涂敷頭的噴嘴的位置，當產生了位置偏差時，必須 將其修正。尤其是，收納在涂敷頭的注射器(漿料收納筒)內的漿料用完后、更換新的 涂敷頭時，在該噴嘴可能產生位置偏差，所以必須要進行噴嘴的位置調節。與此相對，在上述專利文獻1中公開了如下技術采用設有多個涂敷頭的2臺門 形架，固定基板，利用門形架的移動和涂敷頭相對于門形架的移動，在該基板上同時地 描繪出多個相同的漿料圖案。但是，該專利文獻1卻并未對各涂敷頭的噴嘴位置偏差的 調節有任何記載，也并未對門形架間的位置偏差的調節有任何記載。在上述專利文獻2記載的技術中，在與基板面平行且與門形架長度方向垂直的 方向，設置了對設在門形架上的涂敷頭進行位置調節的機構，可進行涂敷頭的位置調 節。但是，該位置調節是用涂敷頭的配列來修正基板的θ軸方向的偏差，是根據設在基 板上的定位記號的位置偏差的檢測結果進行調節。但是，由于使用涂敷裝置，因在門形架上安裝多個涂敷頭或更換涂敷頭等，涂 敷頭的位置有時會產生偏差，雖然根據基板的θ軸方向的偏差來調節涂敷頭的配列，但 是，在上述專利文獻2的方法中，并未考慮到涂敷頭間的位置偏差。另外，在上述專利文獻2記載的發明中，一個門形架固定，另一個門形架可以 移動，通過使該門形架移動來設定另一個門形架相對于固定的一個門形架的位置關系。 但是，該專利文獻2卻并未考慮到如何調節這些門形架間的位置偏差。用設在多個門形架上的多個涂敷頭在同一基板上描繪多個漿料圖案時，如上專 利文獻1中記載的技術那樣，使2臺門形架都可以移動時，為了使各門形架相對于基板的 位置關系為規定的關系而設定這2臺門形架的位置關系是非常困難的。另外，在專利文獻3記載的技術中，在更換頭組件時，對于更換的新的頭組 件，使其噴嘴(更換噴嘴)在XY軸方向移動，對更換噴嘴的位置偏差進行修正，為此， 設置了可移動的計測機構，該計測機構移動到更換噴嘴的位置，從該計測機構的移動距 離檢測出該更換噴嘴的位置偏差，需要有計測機構和使其移動的機構、以及移動所需的 處理等。
另外，在專利文獻3記載的技術中，只使用一臺門形架(框架)，而且該門形架 是固定的，不存在調節門形架之間位置關系的問題。本發明的目的是，解決上述問題，提供涂敷裝置及其涂敷位置修正方法，在描 繪漿料圖案時，使用多臺移動的門形架，可以修正這些門形架的位置關系的偏差、設在 這些門形架上的涂敷頭間的位置偏差。為了實現上述目的，本發明提供如下的涂敷裝置，在基臺上設置能在第1方向 移動的多個門形架，在每個門形架上設置能在沿著門形架的長度方向的第2方向移動的 多個涂敷頭，利用門形架朝第1方向的移動和涂敷頭相對于門形架朝第2方向的移動，涂 敷頭一邊在該第1、第2方向移動，一邊對載置在基板載置臺的基板上涂敷漿料，由每個 涂敷頭在基板上描繪漿料圖案，該基板載置臺設在架臺上，其特征在于，涂敷頭分別備 有照相機；在基板載置臺上，對每個門形架設置用于對設在門形架上的多個涂敷頭進行 對位的模擬(捨t打用玻璃基板，并且，設置多個門形架對位用的基準位置記號；在 模擬用玻璃基板上，由同一門形架上的多個涂敷頭涂敷漿料，描繪漿料記號；該涂敷裝 置備有第1機構和第2機構；上述第1機構，通過用照相機對描繪在模擬用玻璃基板上的 漿料記號進行拍攝、檢測出漿料記號的描繪位置，從而檢測出門形架上的多個涂敷頭間 的位置偏差，根據檢測出的位置偏差，進行多個涂敷頭相互間的對位；上述第2機構， 通過使多個門形架分別在第1方向移動到基板載置臺上的基準位置記號被照相機拍攝的 位置，檢測出各個門形架移動到基準位置記號的位置的移動距離，對門形架的每一個檢 測相對于用于描繪漿料圖案而預定的待機位置在第1方向的位置偏差，根據檢測出的位 置偏差，將門形架的每一個對位到待機位置。另外，在本發明的涂敷裝置中，基準位置記號是設在基板載置臺的中央部附近 的基板保持用的吸附孔。另外，在本發明的涂敷裝置中，涂敷頭可在門形架移動的第1方向移動，可進 行第1方向的對位。另外，在本發明的涂敷裝置中，對門形架的每一個，把設在門形架上的多個涂 敷頭中的一個作為基準涂敷頭；基準涂敷頭相對于第1方向位置固定，除基準涂敷頭以 外的涂敷頭能在第1方向移動；除基準涂敷頭以外的涂敷頭相對于基準涂敷頭能進行第1 方向的對位。為了實現上述目的，本發明提供如下的涂敷裝置的涂敷位置修正方法，在涂敷 裝置中，在基臺上設有能在第1方向移動的多個門形架，在每個門形架上設置能在沿著 門形架的長度方向的第2方向移動的多個涂敷頭，利用門形架朝第1方向的移動和涂敷 頭相對于門形架朝第2方向的移動，使得涂敷頭一邊在第1、第2方向移動，一邊對載置 在基板載置臺上的基板上涂敷漿料，由每個涂敷頭在基板上描繪漿料圖案，該基板載置 臺設在架臺上；該方法的特征在于，對每個門形架，在基板載置臺上設置模擬用玻璃基 板；在模擬用玻璃基板上，由設在與其對應的門形架上的多個涂敷頭的每一個描繪漿料 記號，用照相機對描繪的各漿料記號進行拍攝，檢測其位置，從而檢測出多個涂敷頭相 互間的位置偏差，根據檢測出的位置偏差，進行多個涂敷頭的對位；在基板載置臺上設 置基準位置記號；使多個門形架分別移動到基準位置記號的位置，對多個門形架的每一 個，檢測門形架的預定的待機位置相對于基準位置記號在第1方向的位置偏差，根據檢測出的位置偏差，將多個門形架對位在待機位置。另外，在本發明的涂敷裝置的涂敷位置修正方法中，基準位置記號是設在基板 載置臺的中央部附近的基板保持用的吸附孔。另外，在本發明的涂敷裝置的涂敷位置修正方法中，涂敷頭可在門形架移動的 第1方向移動，可進行第1方向的對位。另外，在本發明的涂敷裝置的涂敷位置修正方法中，對門形架的每一個，把設 在門形架上的多個涂敷頭中的一個作為基準涂敷頭；基準涂敷頭相對于第1方向位置固 定，除基準涂敷頭以外的涂敷頭能在第1方向移動；除基準涂敷頭以外的涂敷頭相對于 基準涂敷頭能進行第1方向的對位。根據本發明，在基板載置臺上設置模擬用玻璃基板，僅通過用設在門形架上的 多個涂敷頭在該模擬用玻璃基板上涂敷漿料記號，就檢測出這些涂敷頭間的位置偏差， 因此，可以在短時間內正確地檢測出各門形架上的涂敷頭之間的位置偏差，進行修正。 另外，根據設在基板載置臺上的位置基準記號檢測各門形架的位置偏差，因此，可在短 時間內正確地檢測出門形架間的位置偏差，可修正該位置偏差。因此，可在短時間內正 確地設定全部門形架上的涂敷頭間的位置關系，大幅度地提高基板上的漿料圖案的涂敷 精度。


圖1是表示本發明的涂敷裝置的一實施方式的立體圖。圖2是表示圖1中的基板搭載臺8的一具體例的立體圖。圖3是表示圖1中的涂敷頭的一具體例的側視圖。圖4是表示控制圖1和圖3的各部動作的控制系統的一具體例的構成框圖。圖5是表示圖1中的門形架和涂敷頭的位置偏差的修正(對位)順序的一具體例 的流程圖。1...架臺，2a、2b...線性軌，3、3R、3L...門形架，4Ra、4Rb、4La、4Lb...線性 驅動機構，5、5Ra 5Rc、5La 5Lc...涂敷頭，6...注射器(漿料收納筒)，7...CCD照 相機，8...基板搭載臺，9...基準位置記號，10a、10b...模擬用玻璃基板，11a、lib...連接 部件，12a、12b...槽部，13...涂敷頭安裝臺，14...Z軸臺支承部，14a...連接部，15…Z軸 臺，16a 16c...線性導引機構部，17...驅動線圈，18...線性軌，19a、19b...直線排列球， 20...馬達載置部，21...X軸驅動馬達，22...軸，23...軸承，24...凸輪，25...貫通孔，26...Z 軸驅動馬達，27...Z軸驅動部，28...上下移動臺，29...光學測距儀，30...噴嘴，31...基 板，32...主控制部，33...副控制部
具體實施例方式下面，參照

本發明的實施方式。圖1是表示本發明的涂敷裝置的一實施方式的立體圖。1是架臺，Ia是前面，Ib 是上面，Ic是右側面，Id是左側面，Ie是背面，2a、2b是線性軌，3R、3L是門形架， 4Ra、4Rb、4La、4Lb是線性驅動機構，5Ra 5Rc、5La 5Lc是涂敷頭，6是注射器 (漿料收納筒)，7是CCD照相機，8是基板搭載臺，9是基準位置記號，10a、IOb是模
7擬用玻璃基板。在圖1中，把與架臺1的前面Ia及背面Ie平行的方向作為X軸方向，把與架臺 1的右側面Ic及左側面Id平行的方向作為Y軸方向，把與架臺1的上面Ib垂直的方向 作為Z軸方向。在架臺1的上面lb，沿架臺1的前面Ia側的邊，在X軸方向設有線性 軌2a，另外，沿架臺1的背面Ie側的邊，在X軸方向設有線性軌2b。這些線性軌2a、 2b從右側面Ic延伸到左側面Id。在線性軌2a上設有線性驅動機構4Ra，在線性軌2b上設有線性驅動機構4Rb。 門形架3R跨設在線性軌2a、2b之間，門形架3R的一個端部載置在線性驅動機構4Ra 上，門形架3R的另一個端部載置在線性驅動機構4Rb上。線性驅動機構4Ra、4Rb分 別與線性軌2a、2b 一起構成線性馬達(X軸線性馬達)。線性驅動機構4Ra、4Rb沿著 線性軌2a、2b移動，據此，門形架3R在X軸方向移動。這時，因該移動，無論門形架 3R位于X軸方向的任何位置，也都平行于架臺1的右側面Ic (即，與Y軸方向平行)， 這樣，線性驅動機構4Ra、4Rb總是被位置控制。同樣地，在線性軌2a上設有線性驅動機構4La，在線性軌2b上設有線性驅動機 構4Lb。門形架3L跨設在線性軌2a、2b之間，門形架3L的一個端部載置在線性驅動機 構4La上，門形架3L的另一個端部載置在線性驅動機構4Lb上。線性驅動機構4La、4Lb 分別與線性軌2a、2b—起構成線性馬達(X軸線性馬達)。線性驅動機構4La、4Lb沿著 線性軌2a、2b移動，據此，門形架3L在X軸方向移動。這時，因該移動，無論門形架 3L位于X軸方向的任何位置，也都平行于架臺1的左側面Id(即，與Y軸方向平行)， 這樣，線性驅動機構4La、4Lb總是被位置控制。因此，門形架3R和門形架3L總被控制為在Y軸方向延伸的相互平行的狀態。在門形架3R的與門形架3L相對側的面上，沿門形架3R的長度方向(Y軸方向) 配列著多個(這里是3個)涂敷頭5Ra、5Rb、5Rc,并且，這些涂敷頭可沿門形架3R移 動。同樣地，在門形架3L的與門形架3R相對側的面上，沿門形架3L的長度方向(Y軸 方向)配列著與門形架3R同樣個數(這里是3個)的涂敷頭5La、5Lb、5Lc,并且，這 些涂敷頭可沿門形架3L移動。這里，只對設在門形架3L上的涂敷頭5La進行說明。在該涂敷頭5La上，設有 收納有要往基板(未圖示)涂敷的漿料的注射器6和用于拍攝由該涂敷頭5La涂敷的漿料 的狀態的CCD照相機7。另外，雖然未圖示，但還設有用于把來自注射器6的漿料噴到 基板上的噴嘴、測定噴嘴與基板之間的間隔的傳感器、使噴嘴朝上下方向(Z軸方向)移 動的Z軸驅動機構等。該Z軸驅動機構使注射器、CCD照相機、傳感器等與噴嘴一起在 Z軸方向移動。另外，該CCD照相機也與涂敷頭5La—起移動。其它涂敷頭5Ra 5Rc、5Lb、5Lc的結構與涂敷頭5La相同，其說明從略。在架臺1的上面lb，在線性軌2a、2b之間，設有用于載置基板(未圖示)的基 板載置臺8。在該基板載置臺8上，雖然未圖示，但設有用于把被載置的基板固定在該基 板載置臺8上的基板吸附機構。另外，在該基板載置臺8上，還設有用于調節被載置的 基板的X、Y軸方向位置的未圖示的XY軸方向位置調節機構、修正被載置的基板的θ 軸方向偏差的未圖示的θ軸方向修正臺。圖2是表示圖1中的基板搭載臺8的一具體例的立體圖，8a是上面，8b是左側面，8c是右側面，11a、lib是連接部件，12a、12b是槽部，與圖1中對應的部分注以相 同標記。在圖2中，在基板載置臺8的上面8a，在X軸方向相向的左側面8b側的邊和右 側面8c側的邊，分別設置了模擬用玻璃基板10a、10b。這些模擬用玻璃基板10a、IOb 在Y軸方向相互平行。這些模擬用玻璃基板10a、IOb的一方端部由連接部件Ila連接， 另一方端部由連接部件lib連接。另外，在基板載置臺8的上面8a，從右側面8b延伸到左側面8c地、以與2個連 接部件11a、lib的間隔相等的間隔設置了 2個槽部12a、12b。這些槽部12a、12b的橫 截面的形狀、尺寸與連接部件11a、lib的橫截面的形狀、尺寸相等。將連接部件Ila嵌入槽部12a，將連接部件lib嵌入槽部12b，據此，用連接部件 11a、lib連接著的模擬用玻璃基板10a、IOb被安裝在基板搭載臺8的上面8a。這時， 以模擬用玻璃基板IOa沿著上面8a的左側面8b側的邊地被定位、模擬用玻璃基板IOb沿 著上面8a的右側面8c側的邊地被定位的方式，將連接部件11a、lib分別嵌入槽部12a、 12b 內。模擬用玻璃基板IOa用于檢測設在圖1中的門形架3L上的涂敷頭5La 5Lc的 XY軸方向的位置偏差。這時，把這些涂敷頭5La 5Lc中的任一個涂敷頭作為基準涂 敷頭(下面，把涂敷頭5La作為門形架3L側的基準涂敷頭)，檢測涂敷頭5Lb、5Lc相 對于該基準涂敷頭5La的XY軸方向的位置偏差。在該位置偏差的檢測中，用這些涂敷 頭5La 5Lc把漿料涂敷在模擬用玻璃基板IOa上，并描繪預定的漿料記號(例如十字記 號)，用設在基準涂敷頭5La上的CCD照相機7 (圖1)對這些漿料記號進行拍攝，檢測 這些漿料記號的中心位置，據此，把這些中心位置的檢測位置作為涂敷頭5La 5Lc的 位置(更具體地說，是這些噴嘴的漿料噴出口位置)，從這些檢測位置能夠檢測出涂敷頭 5Lb、5Lc相對于基準涂敷頭5La在XY軸方向的位置偏差。模擬用玻璃基板IOb用于檢測設在圖1中的門形架3R上的涂敷頭5Ra 5Rc的 XY軸方向的位置偏差。這時，與上述同樣地，把這些涂敷頭5Ra 5RC中的任一個涂 敷頭作為基準涂敷頭(下面，把涂敷頭5Ra作為門形架3R側的基準涂敷頭)，用這些涂 敷頭5Ra 5Rc在模擬用玻璃基板IOb上描繪漿料記號，用基準涂敷頭5Ra的CCD照相 機對這些漿料記號進行拍攝，檢測這些漿料記號的中心位置，從而與上述同樣地檢測出 涂敷頭5Rb、5Rc相對于該基準涂敷頭5Ra在XY軸方向的位置偏差。根據上述位置偏差的檢測結果，修正門形架3L的涂敷頭5La 5Lc的XY軸方 向的位置偏差(即，涂敷頭5Lb、5Lc相對于基準涂敷頭5La的位置偏差)，這些涂敷頭 5La 5Lc的噴嘴的漿料噴出口成為沿Y軸方向以預定間隔配列的狀態。同樣地，也對門 形架3R的涂敷頭5Ra 5Rc修正XY軸方向的位置偏差，據此，這些涂敷頭5Ra 5Rc 的噴嘴的漿料噴出口，成為沿Y軸方向以預定間隔配列的狀態。在基板載置臺8的上面8a的中心位置設有基準位置記號9。該基準位置記號9 用于檢測2臺門形架3L、3R間的位置偏差。為了修正門形架之間的位置偏差，門形架 3L、3R能分別獨立地在X軸方向移動，為了修正該位置偏差，圖1中，使門形架3L從現 在的位置朝右方向(X軸方向)移動，并且，使基準涂敷頭5La在Y軸方向移動，使得設 在該基準涂敷頭5La上的CCD照相機7成為拍攝基準位置記號9的狀態。然后，對該基
9準位置記號9進行拍攝，求出其中心位置。移動前的基準涂敷頭5La的位置與該基準位 置記號9的檢測位置在X軸方向的差，是門形架3L相對于基準位置記號9的位置(到門 形架3L的距離)，根據與預設距離的差，檢測出該門形架3L的X軸方向的位置偏差。同樣地，對門形架3R，也能夠通過使用設在其基準涂敷頭5Ra上的CCD照相 機，檢測出該門形架3R的X軸方向的位置偏差。然后，用檢測出的位置偏差量修正這 些門形架3L、3R的X軸方向的位置偏差。據此，這些門形架3L、3R被位置設定成相對 于基準位置記號9對稱的位置(即，以基準位置記號9為中心，在相反側相互等距離的位 置)，而且，由于該位置距離基準位置記號9是上述的預定距離，所以，門形架3L、3R 之間的間隔是預先決定的距離，作為用門形架3L的涂敷頭5La 5Lc描繪的漿料圖案、 和用門形架3R的涂敷頭5Ra 5Rc描繪的漿料圖案在X軸方向的間隔。在圖2中，雖然未圖示，但是在基板載置臺8的上面8a設有多個從真空泵(未 圖示)供給負壓的吸附孔，據此，如前所述，被載置的基板(未圖示)被吸附到上面8a， 不產生位置偏差地被固定住。這里，作為基板載置臺8上的基準記號9，可以在基板載置臺8上特別地設置， 也可以把這些吸附孔之中的位于基板載置臺8的中央位置的吸附孔作為基準記號。基板載置在基板載置臺8的上面8a的模擬用玻璃基板10a、IOb之間。在該基 板上的4個角等的預定位置設有位置記號，如上所述，這些由進行了位置偏差修正的預 定涂敷頭(例如涂敷頭5La、5Lc、5Ra、5Rc)的CCD照相機7拍攝，其中心位置被檢測 出來，據此，檢測出XY軸方向、θ軸方向的位置偏差，根據該檢測出的位置偏差調節 基板載置臺8的XY θ軸方向的位置，使基板的各邊與XY軸方向平行，并且，把相對 于位置修正后的門形架3L、3R的基板的中心位置設定在與相對于該位置調節前的門形架 3L、3R的基準位置記號9的位置相同的位置。另外，可以把連接部件11a、lib從槽部12a、12b取下，通過將它們取下，可以 用新的模擬用玻璃基板10a、IOb更換位置調節中用過的模擬用玻璃基板10a、10b。圖3是表示圖1中的涂敷頭的一具體例的側視圖(表示局部剖面)，3是門形架 (門形架3L、3R的總稱)，5是涂敷頭(涂敷頭5La 5Lc、5Ra 5Rc的總稱)，13是 涂敷頭安裝臺，14是Z軸臺支承部，14a是連接部，15是Z軸臺，16a 16c是線性導引 機構部，17是驅動線圈，18是線性軌，19a、19b是直線排列球，20是馬達載置部，21是 X軸驅動馬達，22是軸，23是軸承，24是凸輪，25是貫通孔，26是Z軸驅動馬達，27 是Z軸驅動部，28是上下移動臺，29是光學測距儀，30是噴嘴，31是基板，與圖1中對 應的部分注以相同標記。在圖3中，對門形架3設有橫截面為L字形的涂敷頭安裝臺13。該涂敷頭安裝 臺13覆蓋門形架3的上面的一部分和涂敷頭5側的側面的一部分。在該涂敷頭安裝臺13 的平面狀部分的下面側設有驅動線圈17。該驅動線圈17與設在門形架3的上面并沿其 長度方向(Y軸方向)延伸的線性軌18相向。另外，以夾著該驅動線圈17的方式設有各 規定個數的線性導引機構部16a、16b。這里，圖中表示在驅動線圈17的兩側各設有一個 線性導引機構部16a、16b，但實際上各設置了 2個以上。這些線性導引機構部16a、16b 分別備有輪，這些輪為置于門形架3的上面的狀態。另外，在該涂敷頭安裝臺13的垂直狀部分的門形架3側的面上，設有線性導引機構部16c，該線性導引機構部16c與線性導引機構部16a、16b是同樣的結構。線性導 引機構部16c的輪與門形架3的與涂敷頭安裝臺13相對的側面相接。如上所述，涂敷頭安裝臺13，通過線性導引機構部16a 16c，可沿著門形架3 在Y軸方向移動地安裝著。另外，門形架3上的線性軌18、和與其相向地設在涂敷頭安 裝臺13上的驅動線圈17，構成了用于使涂敷頭5沿著門形架3的長度方向在Y軸方向移 動的線性馬達(Y軸線性馬達)，通過驅動驅動線圈17，涂敷頭安裝臺13沿著門形架3在 Y軸方向移動。在涂敷頭安裝臺13上設有Z軸臺支承部14，該Z軸臺支承部14在圖中的剖面 形狀是倒Z字形。該Z軸臺支承部14的上側的平面狀部分安裝在涂敷頭安裝臺13的上 述平面狀部分上，該Z軸臺支承部14的垂直狀部分安裝在涂敷頭安裝臺13的上述垂直狀 部分上，該Z軸臺支承部14的下側的平面狀部分安裝在該垂直狀部分的下端部。在該Z軸臺支承部14的上側設有Z軸臺15，該Z軸臺15在圖中的剖面形狀同 樣是倒Z字形。在該Z軸臺15的上側的平面狀部分的下面側設有配列成直線的多個球 (直線排列球)19a，其上側的平面狀部分夾著該直線排列球19a地配置在Z軸臺支承部14 的上側的平面狀部分上，另外，在該Z軸臺15的下側的平面狀部分的下面側設有同樣的 直線排列球1%，該下側的平面狀部分夾著該直線排列球19b地配置在Z軸臺支承部14的 下側的平面狀部分上。該Z軸臺15的垂直狀部分與Z軸臺支承部14的垂直狀部分隔開 一定間隔地配置著。借助上述結構，Z軸臺15相對于Z軸臺支承部14、乃至門形架3，可在X軸方 向移動。另外，該Z軸臺15的X軸方向的移動是為了修正涂敷頭5的上述X軸方向的位 置偏差，用于進行該修正的X軸方向的位置調節量以mm為單位。為此，以Z軸臺支承 部14的垂直狀部分與Z軸臺15的垂直狀部分通過該位置調節也不碰撞的程度，設置了這 些垂直部分的上述間隔。在Z軸臺支承部14上，經由連接部14a設置了馬達載置部20。在該馬達載置 部20設置了 X軸驅動馬達21。據此，該X軸驅動馬達21處于配置在Z軸臺15的上側 的狀態。該X軸驅動馬達21的朝下的旋轉軸穿過設在Z軸臺15上側的平面狀部分的貫 通孔25，并且與軸承23及軸22連接。軸承23設在Z軸臺支承部14的下側的平面狀部 分的側面。軸22由設在上述馬達載置部20上的未圖示的軸承可旋轉地支承著。另外， 在該軸22上，在與Z軸臺15的下側平面狀部分的側面相向的位置，可與該側面相接地設 有凸輪24，X軸驅動馬達21起動時，軸22旋轉，從而該凸輪24也旋轉，Z軸臺15相 對于Z軸臺支承部14在X軸方向移動，其移動的量相當于凸輪24的變位量。另外，貫 通孔25的直徑設定為Z軸臺15在X軸方向的移動范圍內移動時軸22不碰到該貫通孔25 的壁面的大小(另外，該Z軸臺15的X軸方向的移動范圍是數mm左右)。在Z軸臺15的垂直面狀部分安裝著涂敷頭5，通過Z軸臺15在X軸方向的移 動，使涂敷頭5在X軸方向移動。在各門形架3L、3R側的基準涂敷頭5La、5Ra上，不設置該X軸驅動馬達21， 不能相對于門形架3L、3R在X軸方向移動。因此，在基準涂敷頭5La、5Ra中，Z軸臺 15固定設置在Z軸臺支承部14上，涂敷頭5安裝在該Z軸臺15上。在以下說明的結構中，關于基準涂敷頭5La、5Ra也是同樣。涂敷頭5備有Z軸驅動部27和上下移動臺28。Z軸驅動部27安裝在Z軸臺15 的垂直面狀部分上，備有Z軸驅動馬達26。上下移動臺28安裝在Z軸驅動部27上，借 助Z軸驅動馬達26的驅動，在上下方向即Z軸方向移動。另外，涂敷頭5還設有能與該 上下移動臺28 —起上下移動的注射器6、CCD照相機7和光學測距儀29等。在注射器6上設有噴嘴30。該噴嘴30從上側與載置在基板載置臺8(圖1)上的 基板31相對。通過將壓縮氣體(氮氣、空氣等)從外部導入該注射器6內，使收容在該 注射器6內的漿料從該噴嘴30前端的漿料噴出口噴出。另外，光學測距儀29構成間隔測定器，用于測定從噴嘴30的漿料噴出口到基板 31表面的距離(間隔)。根據該光學測距儀29的間隔測定結果，Z軸驅動馬達26起動， 據此，上下移動臺28上下移動，噴嘴30的漿料噴出口與基板31表面之間的間隔被設定 為規定的間隔。如上所述，涂敷頭5安裝在門形架3上，通過使驅動線圈17工作，從而使線性 馬達工作，可以使涂敷頭5(具體地說是噴嘴30)在門形架3的長度方向(Y軸方向)移 動，通過使X軸驅動馬達21工作，可以使涂敷頭5 (具體地說是噴嘴30)在垂直于門形架 3的長度方向的X軸方向移動，通過使Z軸驅動馬達26工作，可以使涂敷頭5的噴嘴30 在上下方向(Z軸方向)移動。通常，在組裝設置了涂敷裝置后的初期狀態時、或在更換備有噴嘴30的注射器 6等的維護時，噴嘴30的位置有時偏離規定的位置(將其稱為涂敷頭5的位置偏差)，為 此，如圖1所述，必須調節各涂敷頭5的位置偏差，通過把涂敷頭5設在相對于門形架3 在X軸方向移動的Z軸臺15上，就可以調節涂敷頭5的X軸方向的位置偏差。全部的涂敷頭5La 5Lc、5Ra 5Rc都成為上述結構(但是基準涂敷頭5La、 5Ra不備有X軸驅動馬達21)。據此，可以分別調節涂敷頭5Lb、5Lc相對于基準涂敷頭 5La的X軸方向的位置偏差、和涂敷頭5Rb、5Rc相對于基準涂敷頭5Ra的X軸方向的位 置偏差，可以使這些5La 5Lc、5Ra 5Rc的噴嘴30在Y軸方向配列成一列。圖4是表示控制圖1和圖3中各部動作的控制系統的一具體例的構成框圖，32是 主控制部，32a是微機，32b是外部接口，32c是馬達控制器，32d是X軸驅動器，32e是 Y軸驅動器，32f是X-X軸驅動器，33是副控制部，33a是微機，33b是外部接口，33c是 馬達控制器，33d是Z軸驅動器，33e是X軸驅動器，34是鍵盤，35是顯示裝置，36是 外部存儲裝置，37是圖像處理裝置，38是圖像監視器，39是X軸線性馬達，40是Y軸 線性馬達，與前述附圖中對應的部分注以相同標記，其重復說明從略。如圖4所示，在該實施方式中，備有連動地動作的主控制部32和副控制部33。 主控制部32驅動控制用于使門形架3L、3R在X軸方向移動的X軸線性馬達39、使設 在這些門形架3L、3R上的涂敷頭5La 5Lc、5Ra 5Rc沿門形架3L、3R的長度方向 在Y軸方向移動的Y軸線性馬達40、和使除基準涂敷頭5La、5Ra以外的涂敷頭5Lb、 5Lc、5Rb、5Rc的圖3所示噴嘴30在X軸方向移動(下面將其稱為使涂敷頭在X軸方向 移動)的X軸驅動馬達21。這里，X軸線性馬達39，在圖1中，對于門形架3L，是由 線性軌2a和驅動線圈構成的線性驅動機構4La、由線性軌2b和驅動線圈構成的線性驅動 機構4Lb，對于門形架3R，是由線性軌2a和驅動線圈構成的線性驅動機構4Ra、由線性
12軌2b和驅動線圈構成的線性驅動機構4Rb。Y軸線性馬達40，在圖3中，是由各涂敷頭 5La 5Lc、5Ra 5Rc中的驅動線圈17和線性軌18構成的線性馬達。副控制部33驅 動控制使各涂敷頭5La 5Lc、5Ra 5Rc的圖3所示噴嘴30在Z軸方向移動的Z軸驅 動馬達26。在主控制部32設有微機32a、外部接口 32b和馬達控制器32c。微機32a備有 未圖示的主計算部、ROM、RAM和輸入輸出部等。ROM存儲了用于進行漿料涂敷描繪 的處理程序。RAM存儲主計算部的處理結果、從外部接口 32b或馬達控制器32c輸入的 數據。輸入輸出部與外部接口 32b、馬達控制器32c進行數據的交換。該微機32a經由外部接口 32b連接著鍵盤34、顯示裝置35。鍵盤34用于對存儲 在上述存儲器內的數據、程序等進行修正等。顯示裝置35可顯示存儲在微機32a的存儲 器內的數據、程序，可從鍵盤34輸入修正它們的數據。另外，可從鍵盤34輸入漿料圖 案的描繪數據等，這些輸入數據由顯示裝置35顯示，同時也存儲在外部存儲裝置36內。另外，微機32a經由外部接口 32b還連接著外部存儲裝置36、圖像處理裝置37。 該圖像處理裝置37處理來自CCD照相機7的拍攝數據，并且處理供給到圖像監視器38 的圖像數據。CCD照相機7對模擬用玻璃基板10a、IOb上的漿料記號、基板載置臺8 上的基準位置記號9(圖1、圖2)、基板31上的位置記號等進行拍攝，所得到的圖像數據 被圖像處理裝置37處理后，由圖像監視器38顯示，同時，經由外部接口 32b供給到微機 32a。在微機32a中，其處理結果作為控制數據，被供給到馬達控制器32c，據此，進行 用于修正門形架3L、3R的X軸方向的位置偏差、涂敷頭5La 5Lc、5Ra 5Rc的X、 Y軸方向的位置偏差(即，涂敷頭5Lb、5Lc、5Rb、5Rc相對于基準涂敷頭5La、5Ra的 X、Y軸方向的位置偏差)等的各部的控制。馬達控制器32c驅動X軸驅動器32d、Y軸驅動器32e、X_X軸驅動器32f。修 正門形架3L、3R的X軸方向的位置偏差時，由基準涂敷頭5La、5Ra的CCD照相機7拍 攝基板載置臺8的基準位置記號9(圖1、圖2)，得到的圖像數據被圖像處理裝置37處理 后，供給到微機32a，在這里處理后，被供給到馬達控制器32c。馬達控制器32c根據該 處理后的圖像數據控制X軸驅動器32d，控制驅動X軸線性馬達39，這樣，調節門形架 3L、3R的X軸方向的位置偏差。另外，修正涂敷頭5Lb、5Lc、5Rb、5Rc相對于基準涂 敷頭5La、5Ra的Y軸方向的位置偏差時，由基準涂敷頭5La、5Ra的CCD照相機7拍攝 形成于模擬用玻璃基板10a、IOb上的漿料記號，得到的圖像數據被圖像處理裝置37處理 后，供給到微機32a，在這里處理后，被供給到馬達控制器32c。馬達控制器32c根據該 處理后的圖像數據控制Y軸驅動器32e，控制驅動Y軸線性馬達40，這樣，調節涂敷頭 5Lb、5Lc、5Rb、5Rc相對于基準涂敷頭5La、5Ra的Y軸方向的位置偏差。另外，修正 涂敷頭5Lb、5Lc、5Rb、5Rc相對于基準涂敷頭5La、5Ra的X軸方向的位置偏差時，如 上所述，拍攝形成在模擬用玻璃基板10a、IOb上的漿料記號、由圖像處理裝置37和微機 32a處理后的圖像數據被供給到微機32c，這樣，馬達控制器32c根據該處理后的圖像數 據控制X-X軸驅動器32f，控制驅動涂敷頭5Lb、5Lc、5Rb、5Rc的X軸驅動馬達21， 這樣，調節涂敷頭5Lb、5Lc、5Rb、5Rc相對于基準涂敷頭5La、5Ra的X軸方向的位置 偏差。另外，基板31載置在基板載置臺8上時，在微機32a的控制下，如上所述，進
13行該基板31的XY θ方向的位置調節，其機構的說明從略。另外，在基板上描繪漿料圖案時，微機32a取入存儲在外部存儲裝置36內的漿 料圖案的描繪數據，將其處理后供給到馬達控制器32c。馬達控制器32c根據該描繪數據 驅動X軸驅動器32d和Y軸驅動器32e，控制X軸線性馬達39，使門形架3L、3R動作， 控制Y軸線性馬達40，使涂敷頭5La 5Lc、5Ra 5Rc動作，從而在基板上描繪所需 的漿料圖案。這時，利用氣壓控制系統，控制導入涂敷頭5La 5Lc、5Ra 5Rc的注射器6 內的壓縮氣體，進行從噴嘴30噴出漿料的控制，關于這一點的說明從略。副控制部33驅動控制Z軸驅動馬達26，使涂敷頭5La 5Lc、5Ra 5Rc上下 (Ζ軸方向)移動，使這些涂敷頭5的噴嘴30的前端距基板31的表面的高度成為預定的 高度。副控制部33的微機33a經由外部接口 33b用通信電纜與主控制部32的外部接口 32b連接，這樣，副控制部33與主控制部32協同動作。另外，微機33a經由外部接口 33b與光學測距儀29連接，并且，與對驅動涂敷頭5La 5Lc、5Ra 5Rc的Z軸驅動馬 達26的Z軸驅動器33d進行控制的馬達控制器33c連接。如上所述，修正涂敷頭5La 5Lc、5Ra 5Rc的X軸方向的位置偏差時，用基 準涂敷頭5La、5Ra的CCD照相機7對由涂敷頭5La 5Lc、5Ra 5Rc在模擬用玻璃基 板10a、IOb上形成的漿料記號進行拍攝而得到、并由圖像處理裝置37和主控制部32的 微機32a處理后的圖像數據，被供給到馬達控制器32c。馬達控制器32c根據該被供給 的圖像數據控制X-X軸驅動器32f，驅動控制X軸驅動馬達21，修正涂敷頭5Lb、5Lc、 5Rb、5Rc相對于基準涂敷頭5La、5Ra的X軸方向的位置偏差。另外，對載置在基板載置臺8上的基板31描繪漿料圖案時，由光學測距儀29檢 測出的涂敷頭5La 5Lc、5Ra 5Rc的噴嘴30與基板31表面之間的間隔的數據，經由 外部接口 33b被供給到微機33a，在這里被處理后，被供給到馬達控制器33c。馬達控制 器33c根據該供給來的數據控制Z軸驅動器32d，驅動控制Z軸驅動馬達26，使涂敷頭 5La 5Lc、5Ra 5Rc在Z軸方向移動，把噴嘴30與基板31表面之間的間隔控制為規 定的間隔。另外，在線性馬達39、40、驅動馬達21、26上分別設有用于檢測移動量、旋轉 的編碼器，其說明從略。這樣，借助由主控制部32和副控制部33構成的控制系統的控制，進行涂敷頭 5La 5Lc、5Ra 5Rc的XY軸方向的位置偏差的修正、門形架3L、3R的X軸方向的
位置偏差的修正等。圖5是表示圖1中的門形架3L、3R和涂敷頭5La 5Lc、5Ra 5Rc的位置偏 差修正(對位)順序的一具體例的流程圖。下面，參照圖1 圖4，說明該順序。圖5 中，“涂敷頭5”是全部涂敷頭5La 5Lc、5Ra 5Rc的總稱，“涂敷頭5L”是涂敷 頭5La 5Lc的總稱，“涂敷頭5R”是涂敷頭5Ra 5Rc的總稱。在圖5中，門形架3L、3R處于收納狀態時，涂敷頭5La 5Lc的噴嘴30較之 基板載置臺8的模擬用玻璃基板IOa位于基板載置臺8的相反側的位置(即，噴嘴30位 于偏離模擬用玻璃基板IOa的位置)(下面把該位置稱為門形架3L的收納位置)，涂敷頭 5Ra 5Rc的噴嘴30同樣地較之基板載置臺8的模擬用玻璃基板IOb位于基板載置臺8的相反側的位置(即，噴嘴30位于偏離模擬用玻璃基板IOb的位置)(下面把該位置稱為 門形架3R的收納位置)。這樣，門形架3L、3R處于收納狀態時，在基板載置臺8上， 可進行模擬用玻璃基板10a、IOb的安裝、卸下。在該收納狀態下，驅動X軸線性馬達39，門形架3L朝基板載置臺8的方向 (即，X軸方向)移動預先設定的規定距離，這樣，各涂敷頭5La 5Lc的噴嘴30向模 擬用玻璃基板IOa的正上方移動，涂敷頭5La 5Lc被定位在這時的位置(下面，把該位 置稱為門形架3L的臨時待機位置)。同樣地，門形架3R朝基板載置臺8的方向(即， X軸方向)移動預先設定的規定距離，這樣，各涂敷頭5Ra 5Rc的噴嘴30向模擬用玻 璃基板IOb的正上方移動，涂敷頭5Ra 5Rc被定位在這時的位置(下面，把該位置稱為 門形架3R的臨時待機位置)。這些待機位置的數據保存在微機32a的存儲器內。然后，在各涂敷頭5La 5Lc、5Ra 5Rc中，根據光學測距儀29的測定結果 驅動Z軸驅動馬達26，這樣，涂敷頭5La 5Lc的噴嘴30距離模擬用玻璃基板IOa的高 度、和涂敷頭5Ra 5Rc的噴嘴30距離模擬用玻璃基板IOb的高度，被設定為完全相等 的規定高度。然后，驅動門形架3L、3R的X軸線性馬達39和涂敷頭5La 5Lc、5Ra 5Rc的Y軸線性馬達40，這樣，涂敷頭5La 5Lc、5Ra 5Rc在XY軸方向移動，與此 同時，壓縮氣體被送入注射器6，因此，從各噴嘴30的噴出口噴出漿料。這樣，門形架 3L側的每個涂敷頭5La 5Lc，在基板載置臺8的一側的模擬用玻璃基板IOa上，描繪 出可檢測中心位置的、例如十字形的漿料記號，門形架3R側的每個涂敷頭5Ra 5Rc， 在基板載置臺8的另一側的模擬用玻璃基板IOb上，描繪出同樣形狀的漿料記號(步驟 100)。接著，門形架3L返回上述的臨時待機位置，用設在該門形架3L側的涂敷頭 5La 5Lc中的任一個、例如設在基準涂敷頭5La上的CCD照相機7，對由該基準涂敷 頭5La描繪在模擬用玻璃基板IOa上的漿料記號進行拍攝，其圖像數據經過圖像處理裝置 37處理后，檢測出其中心點位置，該中心點位置的數據作為L側頭基準中心點位置的數 據，經由外部接口 32b被供給到微機32a，收納保存在其存儲器內。同樣地，門形架3R 返回上述的臨時待機位置，用設在該門形架3R側的涂敷頭5Ra 5Rc中的任一個、例如 設在基準涂敷頭5Ra上的CCD照相機7，對由該基準涂敷頭5Ra描繪在模擬用玻璃基板 IOb上的漿料記號進行拍攝，其圖像數據經過圖像處理裝置37處理后，檢測出其中心點 位置，該中心點位置的數據作為R側頭基準中心點位置的數據，經由外部接口 32b被供給 到微機32a，收納保存在其存儲器內(步驟101)。接著，在門形架3L側，除基準涂敷頭5La以外的涂敷頭5Lb、5Lc沿著門形架 3L向基準涂敷頭5La的相反側移動、靠近門形架3L的端部，基準涂敷頭5La沿著門形架 3L移動，這樣，用設在該基準涂敷頭5La上的CCD照相機7，對由涂敷頭5Lb、5Lc描 繪在模擬用玻璃基板IOa上的各個漿料記號依次拍攝，這些圖像數據被圖像處理裝置37 處理后，檢測出它們的中心點位置，再對每個涂敷頭5Lb、5Lc求出與已求出并保存的基 準涂敷頭5La的L側頭基準中心位置的X軸方向的位置誤差量△ X^和Y軸方向的位置誤 差量Δ Yy把這些X軸方向的位置誤差量Δ X^及Y軸方向的位置誤差量Δ Y^的數據， 經由外部接口 32b供給到微機32a，收納保存在其存儲器內。同樣地，在門形架3R側， 除基準涂敷頭5Ra以外的涂敷頭5Rb、5Rc沿著門形架3R向基準涂敷頭5Ra的相反側移動、靠近門形架3R的端部，基準涂敷頭5Ra沿著門形架3R移動，這樣，用設在該基準 涂敷頭5Ra上的CCD照相機7，對由涂敷頭5Rb、5Rc描繪在模擬用玻璃基板IOb上的各 個漿料記號依次拍攝，這些圖像數據被圖像處理裝置37處理后，檢測出它們的中心點位 置，再對每個涂敷頭5Rb、5Rc求出與已求出并保存的基準涂敷頭5Ra的R側頭基準中心 位置的X軸方向的位置誤差量Δ Xr及Y軸方向的位置誤差量ΔΥΚ，把這些X軸方向的 位置誤差量Δ Xr及Y軸方向的位置誤差量數據，經由外部接口 32b供給到微機 32a,收納保存在其存儲器內(步驟102)。由此，分別檢測出門形架3L的涂敷頭5Lb、5Lc相對于基準涂敷頭5La的X軸 方向的位置偏差和Y軸方向的位置偏差，以及門形架3R的涂敷頭5Rb、5Rc相對于基準 涂敷頭5Ra的X軸方向的位置偏差和Y軸方向的位置偏差，這些檢測結果，保存在微機 32a的存儲器內。接著，使基準涂敷頭5La在Y軸方向移動，使門形架3L在X軸方向移動，使基 準涂敷頭5La的噴嘴30與模擬用玻璃基板IOa上的由該基準涂敷頭5La描繪的漿料記號 的中心點位置一致地、設定在L側頭基準中心位置，把這時的門形架3L的位置(臨時待 機位置)作為該門形架3L的基準位置。同樣地，使基準涂敷頭5Ra在Y軸方向移動，使 門形架3R在X軸方向移動，使基準涂敷頭5Ra的噴嘴30與模擬用玻璃基板IOb上的由 該基準涂敷頭5Ra描繪的漿料記號的中心點位置一致地、設定在R側頭基準中心位置， 把這時的門形架3R的位置(臨時待機位置)作為該門形架3R的基準位置。然后，使門形架3L從該基準位置在X軸方向(即，基板載置臺8的基準位置記 號9的方向)移動，同時，使基準涂敷頭5La從該L側頭基準中心位置在Y軸方向移動， 從而成為能用該基準涂敷頭5La的CCD照相機7對該基準位置記號9拍攝的狀態。該 CCD照相機7拍攝獲得的圖像數據被供給圖像處理裝置37、進行了處理后，該處理結果 被供給到微機32a。在微機32a，根據該處理結果檢測出基準位置記號9的圖像數據時， 計算出門形架3L從上述臨時待機位置移動到基準位置記號9的移動距離，再計算該移動 距離與預定的設定移動距離(為了對基板描繪漿料圖案，從門形架3L待機的待機位置到 基準位置記號9的X軸方向的距離)的誤差，作為門形架3L的與設定移動距離的X軸方 向的位置偏差量，存入微機32a的存儲器內(步驟103)。另外，CCD照相機7的攝像范圍是以噴嘴30為中心的范圍，基準位置記號9存 在于該攝像范圍內的狀態時，可求出該基準位置記號9與噴嘴301的位置關系。因此， CCD照相機7成為對該基準位置記號9拍攝的狀態，據此，可求出基準位置記號9與噴嘴 301之間的X軸方向的距離，將其作為修正距離，修正從臨時待機位置到該狀態的基準涂 敷頭5La的X軸方向的移動距離，這樣，可以求出基準涂敷頭5La到基準位置記號9的 X軸方向的移動距離，因此，可求出門形架3L從臨時待機位置到基準位置記號9的X軸 方向的移動距離。上述對于門形架3R也同樣，使用基準涂敷頭5Ra而算出該門形架3R從臨時待機 位置到基準位置記號9的移動距離，再算出距設定移動距離(為了對基板描繪漿料圖案， 從門形架3R待機的待機位置到基準位置記號9的X軸方向的距離)的X軸方向的位置偏 差，存入微機32a的存儲器內(步驟104)。如上所述，對每個門形架3L、3R，把從臨時待機位置到為了描繪漿料圖案而待
16機的待機位置的X軸方向距離，作為X軸方向的位置偏差量。接著，根據在步驟102求出的門形架3L的涂敷頭5Lb、5Lc的X軸方向的位置 誤差量Δ X^及Y軸方向的位置誤差量Δ Yy求出這些涂敷頭5Lb、5Lc的X軸方向和Y 軸方向的位置數據。同樣地，根據在步驟102求出的門形架3R的涂敷頭5Rb、5Rc的X 軸方向的位置誤差量Δ Xr及Y軸方向的位置誤差量Δ YR，求出這些涂敷頭5Rb、5Rc的 X軸方向和Y軸方向的位置數據(步驟105)。然后，根據求出的位置數據，在門形架3L中，設定X軸方向的涂敷頭5Lb、 5Lc相對于基準涂敷頭5La的位置，同時，設定Y軸方向的位置(涂敷頭5La 5Lc的間 隔)。這樣，在門形架3L上，涂敷頭5La 5Lc在Y軸方向以預定的間隔配列，同時， 它們的噴嘴30沿X軸配列成一直線。同樣地，根據上述求出的位置數據，在門形架3R 中，設定X軸方向的涂敷頭5Rb、5Rc相對于基準涂敷頭5Ra的位置，同時，設定Y軸方 向的位置(涂敷頭5Ra 5Rc的間隔)。這樣，在門形架3R上，涂敷頭5Ra 5Rc在 Y軸方向以預定的間隔配列，同時，它們的噴嘴30沿X軸配列成一直線(步驟106)。另外，使門形架3L、3R返回到上述臨時待機位置，根據在步驟103求出的、門 形架3L相對于設定移動距離在X軸方向的位置偏差量，從臨時待機位置調節門形架3L 的位置。這樣，門形架3L被設定在上述待機位置。同樣地，對門形架3R，根據在步驟 104求出的門形架3R相對于設定移動距離在X軸方向的位置偏差量，從臨時待機位置調 節門形架3R的位置。這樣，門形架3R被設定在上述待機位置(步驟107)。這樣，門形架3L、3R相對于基板載置臺8的基準位置記號9相互在相反側，被 設定在離開該基準位置記號預定距離的待機位置，與此同時，在門形架3L上，成為涂敷 頭5La 5Lc以預定間隔且沿X軸配列成一直線的狀態，在門形架3R上也同樣地，成為 涂敷頭5Ra 5Rc以預定間隔且沿X軸配列成一直線的狀態。該狀態是基板31載置到基板載置臺8上之前的狀態，當基板31載置到基板載置 臺8上，其ΧΥΘ軸方向的偏差被調節時，門形架3L、3R在X軸方向移動，被設定在漿 料圖案的描繪動作開始位置，對每個涂敷頭5La 5Lc、5Ra 5Rc進行漿料噴出壓力、 噴嘴30相對于基板31的高度等的初始設定。然后，由每個涂敷頭5La 5Lc、5Ra 5Rc在基板31上描繪規定的漿料圖案。如上所述，在該實施方式中，涂敷頭(噴嘴)的對位調節(在沿X軸的一直線上 對齊)采用設在基板載置臺8上的模擬用玻璃基板10a、IOb進行，門形架3L、3R的對位 調節采用預先設在基板載置臺8上的基準位置記號9進行，所以，在該調節中，不必把虛 設的玻璃基板搭載在基板載置臺8上。另外，在門形架上的涂敷頭之間的位置偏差修正中，把該涂敷頭中的一個作為 基準涂敷頭，修正其它的涂敷頭相對于該基準涂敷頭的位置偏差，進行對位，所以，可 以在短時間內進行對位。另外，各涂敷頭上的噴嘴、注射器、CCD照相機等在門形架移動方向的X軸方 向也可以移動，所以，可更加正確地進行該涂敷頭的定位。如上所述，在該實施方式中，可以簡單且在短時間內進行涂敷頭的噴嘴間的校 正、門形架間的校正，并且也可降低校正的誤差。另外，在上述實施方式中，對上述基準涂敷頭，不設置X軸方向的移動機構，在X軸方向是固定狀態，所以，可減少零部件數量。
權利要求
1.一種涂敷裝置，在基臺上設置能在第1方向移動的多個門形架，在每個門形架上設 置能在沿著該門形架的長度方向的第2方向移動的多個涂敷頭，利用該門形架朝第1方向 的移動和該涂敷頭相對于該門形架朝該第2方向的移動，該涂敷頭一邊在該第1、第2方 向移動，一邊對載置在基板載置臺的基板上涂敷漿料，由每個該涂敷頭在該基板上描繪 漿料圖案，該基板載置臺設在架臺上，其特征在于，該涂敷頭分別備有照相機；在該基板載置臺上，對每個該門形架設置用于對設在該門形架上的多個該涂敷頭進 行對位的模擬用玻璃基板，并且，設置多個該門形架對位用的基準位置記號；在該模擬用玻璃基板上，由同一該門形架上的多個該涂敷頭涂敷漿料，描繪漿料記號；該涂敷裝置備有第1機構和第2機構；上述第1機構，通過用該照相機對描繪在該模擬用玻璃基板上的該漿料記號進行拍 攝、檢測出該漿料記號的描繪位置，從而檢測出該門形架上的多個該涂敷頭間的位置偏 差，根據檢測出的該位置偏差，進行多個該涂敷頭相互間的對位；上述第2機構，通過使多個該門形架分別在該第1方向移動到該基板載置臺上的該基 準位置記號被該照相機拍攝的位置，檢測出該各個門形架移動到該基準位置記號的位置 的移動距離，對該門形架的每一個檢測相對于用于描繪漿料圖案而預定的待機位置在該 第1方向的位置偏差，根據檢測出的該位置偏差，將該門形架的每一個對位到該待機位 置。
2.如權利要求1所述的涂敷裝置，其特征在于，上述基準位置記號是設在上述基板載 置臺的中央部附近的基板保持用的吸附孔。
3.如權利要求1或2所述的涂敷裝置，其特征在于，上述涂敷頭能在上述門形架移動 的上述第1方向移動，能進行上述第1方向的對位。
4.如權利要求3所述的涂敷裝置，其特征在于，對上述門形架的每一個，把設在上述門形架上的多個上述涂敷頭中的一個作為基準 涂敷頭；該基準涂敷頭相對于上述第1方向位置固定，除該基準涂敷頭以外的上述涂敷頭能 在上述第1方向移動；除該基準涂敷頭以外的上述涂敷頭相對于該基準涂敷頭能進行上述第1方向的對位。
5.—種涂敷裝置的涂敷位置修正方法，在該涂敷裝置中，在基臺上設有能在第1方向 移動的多個門形架，在每個門形架上設置能在沿著該門形架的長度方向的第2方向移動 的多個涂敷頭，利用該門形架朝第1方向的移動和該涂敷頭相對于該門形架朝該第2方向 的移動，使得該涂敷頭一邊在第1、第2方向移動，一邊對載置在基板載置臺上的基板上 涂敷漿料，由每個該涂敷頭在該基板上描繪漿料圖案，該基板載置臺設在該架臺上；該 方法的特征在于，對每個該門形架，在該基板載置臺上設置模擬用玻璃基板；在該模擬用玻璃基板上，由設在與其對應的該門形架上的該多個涂敷頭的每一個描 繪漿料記號，用照相機對描繪的各該漿料記號進行拍攝，檢測其位置，從而檢測出多個 該涂敷頭相互間的位置偏差，根據檢測出的該位置偏差，進行多個該涂敷頭的對位；在該基板載置臺上設置基準位置記號；使多個該門形架分別移動到該基準位置記號的位置，對多個該門形架的每一個，檢 測該門形架的預定的待機位置相對于該基準位置記號在該第1方向的位置偏差，根據檢 測出的該位置偏差，將多個該門形架對位在該待機位置。
6.如權利要求5所述的涂敷裝置的涂敷位置修正方法，其特征在于，上述基準位置記 號是設在上述基板載置臺的中央部附近的基板保持用的吸附孔。
7.如權利要求5或6所述的涂敷裝置的涂敷位置修正方法，其特征在于，上述涂敷頭 能在上述門形架移動的上述第1方向移動，能進行上述第1方向的對位。
8.如權利要求7所述的涂敷裝置的涂敷位置修正方法，其特征在于，對上述門形架的每一個，把設在上述門形架上的多個上述涂敷頭中的一個作為基準 涂敷頭；該基準涂敷頭相對于上述第1方向位置固定，除該基準涂敷頭以外的上述涂敷頭能 在上述第1方向移動；除該基準涂敷頭以外的上述涂敷頭相對于該基準涂敷頭能進行上述第1方向的對位。
全文摘要
本發明涉及涂敷裝置及其涂敷位置修正方法，修正門形架、其涂敷頭的位置偏差。在基臺(1)上分別設有跨越基板載置臺(8)的可在X軸方向移動的門形架(3L、3R)，在各門形架上設有可在Y軸方向移動的涂敷頭(5La～5Lc、5Ra～5Rc)。在基板載置臺(8)的門形架(3L、3R)側分別設有模擬用玻璃基板(10a、10b)，由門形架(3L、3R)的涂敷頭(5La～5Lc、5Ra～5Rc)在模擬用玻璃基板(10a、10b)上描繪漿料記號，根據這些記號的位置檢測出涂敷頭(5La～5Lc)間的、涂敷頭(5Ra～5Rc)間的XY軸方向的位置偏差。在基板載置臺(8)中央部設置基準位置記號(9)，通過檢測門形架(3L、3R)朝該基準位置記號(9)的移動距離，檢測出這些門形架的X軸方向的位置偏差。
文檔編號B05B13/04GK102019254SQ20101026116
公開日2011年4月20日 申請日期2010年8月19日 優先權日2009年9月10日
發明者圓山勇, 小菅忠男, 川北英之, 渡邊健, 石丸康治 申請人:株式會社日立工業設備技術