專利名稱：保護(hù)膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明乃有關(guān)一種保護(hù)膜，尤指于應(yīng)用于光學(xué)板材表面，用以保護(hù)光學(xué)產(chǎn)品表面， 以及經(jīng)黏貼于板材后仍可予以高溫高壓加工的一保護(hù)膜。
背景技術(shù)：
按，我國自發(fā)展平面顯示器以來，在TFT-IXD的光學(xué)等級面板零組件材料自主研發(fā)生產(chǎn)的比重已越來越高，而在液晶面板背光模塊材料上，使用我國自制光學(xué)級PMMA導(dǎo)光板所占的比例也已達(dá)百分之百，然而，該光學(xué)級押出式PMMA導(dǎo)光板材料必須使用潔凈程度達(dá)光學(xué)級保護(hù)膜，才能保護(hù)該導(dǎo)光板的產(chǎn)品良率與質(zhì)量。而保護(hù)膜主要在生產(chǎn)、加工及組裝的過程中，可以保護(hù)光學(xué)級押出式PMMA導(dǎo)光板，以避免導(dǎo)光板產(chǎn)生損傷。而目前的光學(xué)級導(dǎo)光板所使用的保護(hù)膜多采用吹膜制程聚乙烯膜，此種保護(hù)膜的基材層主要以聚乙烯為主，黏著層則使用醋酸乙烯并輔以增黏劑來使用，該保護(hù)膜目前于光學(xué)導(dǎo)光板表面保護(hù)用途上廣泛被使用著，由于黏著層中具有增黏劑此一低分子量的材料，因此在光學(xué)級導(dǎo)光板表面保護(hù)膜熱貼制程中易發(fā)生殘膠、或是保護(hù)膜撕除剝離的痕跡；而保護(hù)膜于不同溫度進(jìn)行貼附時(shí)，容易產(chǎn)生撕膜拉力不穩(wěn)定的情形，進(jìn)而會(huì)造成組裝背光模塊作業(yè)的延遲。此外，該黏著層使用醋酸乙烯添加增黏劑的方式來生產(chǎn)制造，該增黏劑必須先與聚乙烯樹脂先行混煉，再與醋酸乙烯樹脂以所需的比例添加后生產(chǎn)，此種原料的生產(chǎn)工序成本較高，也較費(fèi)時(shí)，而在混煉增黏劑與聚乙烯的配方樹脂時(shí)， 也容易因?yàn)樵鲳┑牡头肿恿刻匦远鴮?dǎo)致混煉不均，在成形保護(hù)膜的基材層，一但發(fā)生混煉不均的情形時(shí)，會(huì)發(fā)生黏著力不均的現(xiàn)象，或是產(chǎn)生在不同批號的產(chǎn)品下，會(huì)有不同的黏著特性，如此不穩(wěn)定的特性會(huì)導(dǎo)致導(dǎo)光板貼附質(zhì)量的不穩(wěn)定性；此外，混練制程的加工溫度若無配合增黏劑與聚乙烯的材質(zhì)特性，于貼附于導(dǎo)光板的貼膜制程中，該黏著層的表面會(huì)析出些許的增黏劑，該析出的增黏劑會(huì)于光學(xué)級導(dǎo)光板的表面形成透明的轉(zhuǎn)寫污痕，由于該污痕不易擦拭，因此會(huì)造成導(dǎo)光板表面的污染。在光學(xué)級導(dǎo)光板裁切過程中，因?yàn)榘宀亩褩＜鞍徇\(yùn)，很容易造成保護(hù)膜刮傷，嚴(yán)重時(shí)甚至造成保護(hù)膜刮破。而在膜內(nèi)加飾產(chǎn)業(yè)中，使用PC、PET板片材來作為印刷后成型的基材也已經(jīng)被大量使用，使用在這種用途上的保護(hù)膜需要承受高溫高壓的加工制程，一般用于可承受耐高溫高壓加工的保護(hù)膜以上膠型保護(hù)膜為主，但上膠型保護(hù)膜除了容易產(chǎn)生殘膠現(xiàn)象之外，因其本身的成本較高又制程中使用有機(jī)溶劑，相對亦造成企業(yè)的制成、經(jīng)營的成本提高，而習(xí)知的共押出型保護(hù)膜1因其基材層11以PE材料為主、而黏著層12為EVA材料為主，以PE材料為主的基材層11受溫達(dá)100°C左右即出現(xiàn)軟化現(xiàn)象而變形，而該黏著層 12的EVA材料對于溫度及壓力相當(dāng)敏感，經(jīng)黏貼后的板材后續(xù)再為加工時(shí)，即常因加工時(shí)的溫度及壓力的上升太快太高，使得該保護(hù)膜與板材黏貼狀況過于緊密，以致于該保護(hù)膜1 難以撕除，甚至無法撕除的窘境，如圖1、2所示。針對上述二種習(xí)知的保護(hù)膜皆各有其缺失之處，是以，如何開發(fā)出一成本低廉，且可適用于高溫高壓加工過程的保護(hù)膜，即為目前相關(guān)業(yè)者亟待克服的課題所在。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明主要目的乃在于克服以往保護(hù)膜熱貼于光學(xué)板材表面，易使該保護(hù)膜撕除時(shí)產(chǎn)生殘膠，或是形成保護(hù)膜撕除時(shí)產(chǎn)生剝離痕跡的缺失，并同時(shí)改善保護(hù)膜表面耐刮性及裁切加工性。為此，本發(fā)明的主要技術(shù)手段，乃在提供一種保護(hù)膜，其主要具一基材層及一黏著層，該基材層及黏著層以兩種以上的聚乙烯類高分子聚合物及聚丙烯類高分子材料所混合構(gòu)成，并以共押出型方式成型，其中，該黏著層的黏著力對25°C室溫的導(dǎo)光板表面的黏著拉力為0. 1 10g/25mm(JIS-Z-0237)，對50°C溫度的導(dǎo)光板表面(熱貼)黏著拉力為20 150g/25mm(JIS-Z-0237)，藉此讓黏著層的黏著力獲得控制，并使其在室溫之下不同黏著力在受熱后的黏著力變化相當(dāng)有限，且在經(jīng)高溫高壓加工后，該保護(hù)膜仍可以輕易完成被撕除及不殘膠的工作。本發(fā)明的次一技術(shù)手段，乃在提供一種保護(hù)膜，其主要具一基材層及一黏著層，該基材層的材料為兩種以上的聚烯類高分子材料所組成，該聚烯類高分子材料的分子量介于 1000 100000之間，其比例范圍則介于1 1 1 100之間，其密度(g/cm3)在0.90 0. 98g/cm3之間，于190°C /2. 16Kg其熔融流速為4 20(g/10min)。該黏著層的材料為醋酸聚乙烯，且該醋酸聚乙烯的分子量介于10000 120000之間，而該醋酸含量于醋酸聚乙烯內(nèi)的含量比例介于8% 18%之間，藉此可防止基材層的材料內(nèi)添加劑析出，并有效避免該光學(xué)板材的表面形成污痕，進(jìn)而提升光學(xué)板材及及液晶顯示內(nèi)背光模塊質(zhì)量的良率及出光質(zhì)量。本發(fā)明的再一技術(shù)手段，乃在提供一種保護(hù)膜，該保護(hù)膜乃以共押出型方式成型的，其成型過程中的冷卻溫度控制在O 60°C，以使本發(fā)明保護(hù)膜的黏著力受到控制，并進(jìn)一步以使本發(fā)明的保護(hù)膜的黏著力的黏度范圍可達(dá)0. 1 10g/25mm，使本發(fā)明保護(hù)膜黏貼于PMMA、PC或PET板材后再受到高溫高壓加工時(shí)，其黏著力依舊得以保持于一定的范圍內(nèi)， 使本發(fā)明保護(hù)膜仍可以輕易完成被撕除的工作。
圖1為習(xí)知保護(hù)膜的結(jié)構(gòu)剖面示意圖；圖2為習(xí)知保護(hù)膜的溫度及黏著力關(guān)系表現(xiàn)圖；圖3為本發(fā)明保護(hù)膜的結(jié)構(gòu)剖面示意圖；圖4為本發(fā)明保護(hù)膜及光學(xué)板材的剖面示意圖；圖5為本發(fā)明保護(hù)膜另一實(shí)施例的示意圖；圖6為本發(fā)明保護(hù)膜的溫度及黏著力關(guān)系表現(xiàn)圖。圖號說明1保護(hù)膜 11基材層12黏著層2保護(hù)膜 21基材層 211離型層212中間層 22黏著層3光學(xué)板材
具體實(shí)施例方式首先，請參閱圖3所示，本發(fā)明保護(hù)膜2至少包含有一基材層21及一黏著層22， 本發(fā)明的保護(hù)膜2乃以共押制程生產(chǎn)，其主要由聚乙烯高分子聚合物及聚丙烯高分子材料所混合構(gòu)成，該材料經(jīng)過配料系統(tǒng)后，會(huì)由押出機(jī)押出，并于押出機(jī)的模頭匯流成一體，當(dāng)保護(hù)膜1成形后，其基材層21與黏著層22均同時(shí)成形押出完畢，且無須另行涂布加工黏著層與離型材料層，且該保護(hù)膜2經(jīng)過模頭押出成形后，隨即經(jīng)過冷卻與回火制程，藉此， 可確保在不同溫度下，該保護(hù)膜2尺寸的安定性，而收卷成卷料時(shí)，使其經(jīng)過不同階段的張力控制，以確保良好的卷料開卷特性，其中，該基材層21的材料為兩種以上的聚烯類高分子材料所組成，該聚烯類高分子材料的分子量介于1000 100000之間，其密度(g/cm3)在 0. 90 0. 98g/cm3(JIS-K-7112)之間，于 190 °C /2. 16Kg 其熔融流速為 1 20 (g/10min)，其比例范圍則介于1 1 1 100之間，該基材層21包括有一離型層211及一中間層212， 該基材層221的厚度范圍為97 μ m 3 μ m，且該中間層212與離型層211的厚度比例介于 1 1 1 100之間；而該黏著層的材料為醋酸聚乙烯，并未添加任何增黏劑，該醋酸聚乙烯的分子量介于10000 120000之間，其密度(g/cm3)在0. 90 0. 96g/cm3(JIS-K_7112) 之間，熔融流速為1 20(g/10min) (JIS-K-6924)，該醋酸含量于醋酸聚乙烯內(nèi)的含量比例介于5% 30%之間，該黏著層22的的黏著力對25°C室溫的PMMA光學(xué)板材3表面的黏著力為0. 1 10g/25mm，對50°C溫度的PMMA光學(xué)板材3表面(熱貼)黏著拉力為20 150g/25mm,該保護(hù)膜2的整體厚度范圍為30 μ m 100 μ m,該基材層21表面鉛筆硬度范圍為H 3H(ASTM-D-3363)，而黏著層22的厚度范圍為3 μ m 97 μ m，該保護(hù)膜2的光學(xué)霧度值(Haze, % ) (JIS-K-7105)介于 5%~ 60%之間。次請參閱圖4所示，本發(fā)明于實(shí)施時(shí)，該離型層211、中間層212及黏著層22的整體厚度范圍為30μπι IOOym之間。該基材層21膜層材料都含兩種以上的聚烯類高分子材料與功能添加劑等。該離型層211、中間層212及黏著層22各層的厚度均不超過另兩層厚度結(jié)構(gòu)的總和，而由于該黏著層22中未添加有增黏劑，因此該黏著層22不會(huì)產(chǎn)生混煉不均的情形，同時(shí)不會(huì)產(chǎn)生黏著力不均的現(xiàn)象，同時(shí)保護(hù)膜2貼附于光學(xué)板體3的貼膜制程中，該黏著層22的表面亦不會(huì)析出增黏劑而形成透明的轉(zhuǎn)寫污痕。再請參閱圖5所示，本發(fā)明的保護(hù)膜2于實(shí)施時(shí)，由于該基材層21以聚烯類材料當(dāng)主體，藉此，可控制保護(hù)膜2的延伸率(elongation)在100 900%，拉伸強(qiáng)度(tensile strength)在7 !35MPa、熔點(diǎn)(Melting point)落在100 200°C。該基材層21表面鉛筆硬度范圍為H 3H(ASTM-D-3363)，而黏著層22為聚烯類材料所成，其熔點(diǎn)則為60 160°C，其中，本發(fā)明的保護(hù)膜2于其成型時(shí)的冷卻溫度控制在0 40°C，而于此溫度之間聚烯類的分子鏈經(jīng)熱松解再結(jié)晶時(shí)的結(jié)晶度各有不同，藉此也讓黏著層22的黏著力獲得控制，使其對PMMA光學(xué)板材黏度可達(dá)0. 1 10g/25mm，使其在室溫之下不同黏著力在受熱后的黏著力變化相當(dāng)有限，使本發(fā)明保護(hù)膜2可輕易撕除。又請參閱圖6所示，本發(fā)明的保護(hù)膜2的基材層21因選用了耐溫性較佳的聚烯類材料所成，故經(jīng)黏貼后的板材再經(jīng)加工時(shí)，可保該保護(hù)膜2的完整性及尺寸的安定性。又， 當(dāng)保護(hù)膜2受到高溫高壓鎖模力IOOOton)后，其中的黏著層22的黏著力依舊可保持在400 %以內(nèi)的范圍，使本發(fā)明保護(hù)膜2黏貼于PMMA光學(xué)板材再經(jīng)高溫高壓加工后，不會(huì)有難以撕除的窘境。而基材層21及黏著層22同為聚烯類材料之下，經(jīng)共押出成型后本發(fā)明保護(hù)膜1中的基材層21及黏著層22可達(dá)完全的結(jié)合，如此可杜絕應(yīng)用時(shí)產(chǎn)生殘膠的情形。
權(quán)利要求
1.一種保護(hù)膜，其特征在于，至少包括有一基材層，為兩種以上的聚烯類高分子材料所組成，該聚烯類高分子材料的分子量介于1000 100000之間，其比例范圍則介于1 1 1 100之間，該基材層包括有一離型層及一中間層；以及一黏著層，該黏著層的黏著力對25°c室溫的PMMA導(dǎo)光板表面的黏著拉力為0. 1 10g/25mm，對50°C溫度的PMMA導(dǎo)光板表面黏著力為20 150g/25mm。
2.如權(quán)利要求1所述的保護(hù)膜，其特征在于，該基材層的厚度范圍為97μ m 3 μ m。
3.如權(quán)利要求1所述的保護(hù)膜，其特征在于，該中間層與離型層的厚度比例介于 1 1 1 100之間。
4.如權(quán)利要求1所述的保護(hù)膜，其特征在于，該黏著層的材料為醋酸聚乙烯，且該醋酸聚乙烯的分子量介于10000 120000之間，而該醋酸含量于醋酸聚乙烯內(nèi)的含量比例介于 5%~ 30%之間。
5.如權(quán)利要求1所述的保護(hù)膜，其特征在于，該保護(hù)膜的整體厚度范圍為30μπι 100 μ m0
6.如權(quán)利要求1所述的保護(hù)膜，其特征在于，該黏著層的厚度范圍為3μ m 97 μ m。
7.如權(quán)利要求1所述的保護(hù)膜，其特征在于，該保護(hù)膜的光學(xué)霧度值(Haze，%)介于 5%~ 60%之間。
8.如權(quán)利要求1所述的保護(hù)膜，其特征在于，該離型層、中間層及黏著層各層的厚度均不超過另兩層厚度結(jié)構(gòu)的總和。
9.如權(quán)利要求1所述的保護(hù)膜，其特征在于，該基材層表面鉛筆硬度范圍為H ;3H。
10.一種高溫成型用保護(hù)膜，其特征在于，至少包括有一基材層，以聚烯類材料當(dāng)主體，控制保護(hù)膜的延伸率在100 900%，拉伸強(qiáng)度在7 35MI^a、熔點(diǎn)落在 100 200°C ；一黏著層，為聚烯類材料所成，其熔點(diǎn)落在60 160°C ；其中，該保護(hù)膜以共押出型方式成型，且其成型的冷卻溫度控制在0 40°C之間，藉此可使保護(hù)膜黏著力受到控制，以得到不同程度的黏著力。
11.如權(quán)利要求10所述的保護(hù)膜，其特征在于，保護(hù)膜黏著層的黏著力的黏度范圍可達(dá) 0.2 10g/25mm。
12.如權(quán)利要求10所述的保護(hù)膜，其特征在于，該基材層以聚烯類材料當(dāng)主體，控制保護(hù)膜的延伸率在100 900%，拉伸強(qiáng)度在7 35MPa、熔點(diǎn)落在100 200°C。
13.如權(quán)利要求10所述的高溫成型用保護(hù)膜的制法，其特征在于，該保護(hù)膜受到高溫 200°C的高壓鎖模力IOOOton后，其黏著力保持在400%以內(nèi)范圍之中。
14.如權(quán)利要求10所述的保護(hù)膜，其特征在于，該基材層表面鉛筆硬度范圍為H 3H。
全文摘要
本發(fā)明乃有關(guān)一種保護(hù)膜，其主要具一基材層及一黏著層，該基材層及黏著層以兩種以上的聚乙烯類高分子聚合物及聚丙烯類高分子材料所混合構(gòu)成，并以共押出型方式成型，其中，其成型過程的冷卻溫度控制于在0～60℃，而黏著層的黏著力對25℃室溫的PMMA導(dǎo)光板表面的黏著拉力為0.1～10g/25mm，對50℃溫度的PMMA導(dǎo)光板表面(熱貼)黏著拉力為20～150g/25mm，藉此讓黏著層的黏著力獲得控制，并使其在室溫之下不同黏著力在受熱后的黏著力變化相當(dāng)有限，且在經(jīng)高溫高壓加工后，該保護(hù)膜仍可以輕易完成被撕除及不殘膠的工作。
文檔編號C09J123/00GK102337087SQ20101023133
公開日2012年2月1日 申請日期2010年7月20日 優(yōu)先權(quán)日2010年7月20日
發(fā)明者吳嘉哲, 林升勛, 王韡閶, 麥建進(jìn), 黃季仁 申請人:鴻威光電股份有限公司, 麥建進(jìn)