專利名稱：用于涂覆玻璃的工藝和設備的制作方法
技術領域：
本發明涉及根據權利要求1的前序部分的用于涂覆玻璃的工藝，并且具體涉及使用至少一種或多種液體原材料涂敷玻璃的工藝，所述液體原材料主要在至少一部分玻璃表面上起反應從而在其上形成涂層，所述工藝包括利用一個或多個雙流體霧化器將液體原材料的至少一部分霧化成液滴，并且對一個或多個雙流體霧化器中使用的氣體的至少一部分氣體充電，使得在霧化期間或之后至少一部分液滴變得帶電。本發明還涉及根據權利要求9的前序部分的用于涂覆玻璃的設備，并且具體涉及使用至少一種或多種液體原材料涂敷玻璃的設備，所述液體原材料在至少一部分玻璃表面上起反應從而在其上形成涂層，該設備包括用于至少將液體原材料的至少一部分霧化成液滴的一個或多個雙流體霧化器； 以及充電裝置，該充電裝置對用在一個或多個雙流體霧化器中的氣體的至少一部分進行充電，使得在霧化期間或之后至少一部分液滴變得帶電。
背景技術：
為各種目的而制造涂覆的玻璃，涂層被選擇成具有某些特定的、期望的玻璃特性。 關于建筑物玻璃和汽車玻璃的涂層的重要示例是那些設計成減小關于紅外輻射的涂覆面發射率的涂層(low-e涂層)，設計成減小總的太陽能傳輸的涂層，以及設計成提供親水或自清潔的玻璃表面的涂層。對于光伏應用而言，具有透明導電氧化物(TCO)涂層的玻璃是非常重要的。例如，已知氟摻雜氧化錫(FTO)或者鋁摻雜氧化鋅涂層都能很好地用作TCO 和low-e涂層，氧化鈦涂層(特別是具有銳鈦型晶體結構)能很好地用作自清潔涂層，以及鐵-鈷-鉻基氧化物涂層能很好地用作近紅外反射涂層。施用到玻璃上的這些涂層通常應當具有高度且均勻的光學品質。取決于應用，這些涂層通常施用至約10 nm到1500 nm之間的厚度。涂層材料通常具有不同于玻璃材料的折射率，從而涂層厚度的不同可能引起不好的干涉效應，因此均勻的厚度對于良好的光學品質而言是很重要的。玻璃上的涂層能夠被分成兩個不同的組軟涂層和硬涂層。軟涂層通常通過濺射來施加，它們對玻璃表面的粘附是相當差的。通常具有突出的粘附性和高耐磨性的硬涂層通常通過熱解方法施加，例如化學氣相沉積(CVD)和噴射熱解。在CVD中，涂層的前體材料是氣相的，使該蒸氣進入涂覆室并作為被良好控制且均勻的流而流動，基底被涂覆。涂層形成速率是相當慢的，因而工藝通常在超過650 °C的溫度下進行，這是因為涂層生長速率通常隨溫度的升高而指數地增加。相當高的溫度要求使得CVD工藝非常不適合用于在浮法玻璃工藝之外進行的玻璃涂覆操作，即，用于離線的涂層施加。為了在低于大約650 ！的溫度下形成厚的涂層(通常具有高于400 nm厚度的涂層)，常規的途徑是使用噴涂設備，該噴涂設備用于將涂層前體溶液的液滴流噴灑到基底上。然而，常規的噴射熱解系統存在許多缺點，例如，產生陡的熱梯度，以及關于涂層均勻性和品質的問題。對該工藝的大改進可以通過減小液滴尺寸來實現，如申請人當前未公開的
4芬蘭專利申請FI 20071003和FI 20080217中描述的那樣。改進噴射熱解工藝的另一方式是使用靜電噴射沉積。德國專利公開DE 3211282A1 (Albers, 1983年8月29)描述了一種通過顆粒或液滴來涂覆玻璃的工藝，其中顆粒或液滴具有與玻璃不同的電勢。玻璃的溫度在400 1到900 °C之間。顆粒或液滴的充電通過靜電噴涂槍來實現，該靜電噴涂槍傳統上在諸如汽車精加工之類的各種應用范圍內的涂敷導電表面中使用。在靜電噴射中存在對液體充電的三種主要方式直接傳導、電暈、以及感應。在直接傳導中，噴射材料必須具有較高的導電率，并且電壓被施加至噴射材料源。噴射物從噴射噴嘴噴出時就已經帶電，并且立即霧化。在電暈充電系統中，噴射的液滴在霧化后通過經過電暈場而充電。這是一種高效的技術，但是由于發生電弧的高可能性，所以其存在安全風險。該技術的另一不足在于液體可能在充電之前落到產生電暈的電極上，從而造成性能的降低。因而，電暈充電通常主要用于干燥顆粒而不是液滴。在感應充電中，將電壓施加在噴嘴的鄰近處，使得液體行進到源附近并且獲得一些電荷。為了避免材料流又流回到給料箱， 材料必須具有高的體電阻率。由于其相對較低的充電效率，所以需要機械輔助以霧化噴射物，通常使用旋轉霧化、空氣輔助霧化、或者所述兩者的組合。用于靜電噴射的電壓通常非常高。公開DE 3211282A1中描述了用于噴射設備中的90 kV的電壓。靜電噴射在噴射熱解中實現了對均質液滴沉積的相當大的改進。然而，主要在于高電壓、高工藝溫度和對不期望區域的污染的緣故，所以當前靜電噴射工藝的實際問題相當困難，使得靜電噴射工藝并未用在熱解玻璃涂層的生產中。國際申請 WO 2004/094321A1 (Liekki 0y，2004 年 4 月 11 日)描述了一種用于對顆粒充電的方法，所述顆粒用于對材料進行處理。根據該公開，在氣態反應物被氧化并形成顆粒的工藝階段，氣體與反應物進行反應，在形成顆粒的階段中引入電荷。有利地，在該工藝中利用與反應物反應的氧化氣體(例如氧)引入電荷。借助于合適的充電方法在氣體中產生電荷，優選通過電暈充電器。該公開并未描述液滴充電。在全部基于噴射的涂覆技術中，優選不涂覆物體的不期望部分和涂覆室。特別地，當涂覆工藝是基于小液滴時(如申請人當前未公開的芬蘭專利申請FI 20071003和FI 20080217所描述的那樣)，小液滴的擴散造成小液滴將滲透到不期望區段的趨勢，其造成了需要對這些區段進行屏蔽和清潔。根據現有技術，液滴還可以通過對用在雙流體霧化器中的氣體進行充電來得以充電，使得所述液滴變成帶電的。然后，通過對基底以相對于液滴具有相反極性來進行充電從而利用靜電力使帶電的液滴沉積在基底的表面上。因此，對液滴和基底以相反極性充電，以便增強液滴在表面上的沉積。上述現有技術解決方案的問題在于，當基底被充電以便將帶電的液滴沉積在基底上時，沉積的效率和均勻性是特定于基底的。這是因為這樣的事實每種基底材料具有不同的充電特性或電特性，包括輸送電荷的能力。而且，基底的厚度和體積也可能影響帶電液滴的沉積，并因而影響涂層在基底上的形成。因此，使用帶電液滴對基底進行涂覆的工藝和設備不能對于所有基底類似地工作。這使得涂覆難以控制。此外，由于每一基底都必須在沉積帶點液滴之前被充電，所以設備和工藝變得復雜。
發明內容
本發明的目的是提供一種用于解決上述問題的工藝和設備。本發明的目的由根據權利要求1的特征部分的工藝得到實現，該工藝的特征在于其還包括提供獨立形成的電場以及將由雙流體霧化器形成的液滴送至所述獨立形成的電場中，以便通過靜電力將至少一部分帶電的液滴沉積在玻璃表面的所述部分上。本發明的目的進一步由根據權利要求9的特征部分的設備得到實現，該設備的特征在于其進一步包括獨立形成的電場，以便通過靜電力將至少一部分帶電液滴沉積在玻璃表面的所述部分上。本發明的優選實施例公開在從屬權利要求中。本發明的主要目的是引入一種用在涂覆玻璃中，特別是用在通過噴射熱解方法來涂覆玻璃中的工藝和設備。涂層通過在玻璃基底上進行霧化沉積而形成，液體原材料被霧化成液滴，并且霧化的液滴基本上在玻璃表面反應，使得在玻璃基底上形成涂層。根據本發明，液滴被充電，并且帶電的液滴利用靜電力至少部分地沉積在玻璃基底上。液體原材料利用雙流體霧化器霧化成液滴，并且用于霧化的氣體的至少一部分被充電。然后，帶電的氣體在霧化步驟期間或之后對液滴充電。充電的液滴通過至少利用獨立電場的靜電力而沉積在玻璃表面的所述部分上。在盡可能接近噴嘴出口處對霧化空氣實現充電是有利的，因為這最小化了至導管壁的離子損耗。在霧化噴嘴中，電荷在產生的液滴中均勻分布，并且電荷也有盡可能多的時間從氣體轉移到液滴。在本發明的優選實施例中，對霧化氣體的充電借助于電暈充電在霧化器噴嘴中執行。所述充電使得可能獲得高電荷密度、均勻的電荷場、且同時最小化了擊穿可能性。在優選實施例中，氣體流經霧化器噴嘴和充電構件的速度極高，其轉而又對電暈放電具有有益的效果。氣體在電暈點的高流率從充電的角度來看是非常有價值的，因為這樣一來，例如所產生的離子從電暈附近快速漂移離開。由離子導致的空間充電的該減小減弱了對形成在電暈電極周圍的放電進行削弱的電場，從而增加了所需的電暈電壓。這減小的電壓需求轉而又減少了電擊穿的風險，并且還減小了用于維持該放電所需的電功率。當與電荷在霧化器噴嘴之前就產生的情形相比，通過對霧化器噴嘴內的高速氣體充電，還可以減少電荷到結構件的轉移。而高速霧化器氣體的另一優點在于，氣體和液體之間更大的速度差減小了液滴尺寸。為了通過靜電力來實現液滴在玻璃表面上的沉積，提供了獨立的電場。根據本發明，帶電的液滴通過一個或多個雙流體霧化器被送至獨立的電場中。一個或多個雙流體霧化器可以布置成與獨立的電場相連，使得液體原材料被霧化并進入到獨立的電場中。在第一電極和第二電極之間提供獨立的電場，并且獨立的電場還布置成接收玻璃的至少一部分。帶電的液滴至少通過由獨立的電場所產生的針對帶電液滴的靜電力被輸送到玻璃表面。在本發明中，使用靜電力將液滴沉積在玻璃表面上，使得至少液體原材料主要在玻璃表面的至少一部分上反應，從而在其上形成涂層。玻璃、或玻璃表面、或玻璃的表面層可以被加熱至涂覆溫度，或者加熱到至少所述玻璃的退火溫度。同樣，帶電液滴可以被加熱，其增強了液體從液滴的蒸發。這將減小液滴的尺寸。在一定水平上，小液滴中的電荷變得如此之高，以至于該液滴將分解成若干更小的液滴。液滴越小，則涂層生長速率越快，因而該現象對于涂層生長而言是有利的。通過使用在第一電極和第二電極之間產生的獨立的靜電場來沉積帶電液滴，其中電極定位成使得在所述電極之間產生的電場將把帶電液滴驅至玻璃表面。本發明的優點在于獨立的靜電場形成了易于受控且預測的電力，用于驅動帶電液滴而不管玻璃的材料特性。此外，獨立的電場消除了對玻璃進行充電的需求。這簡化并加快了涂覆工藝。而且，由于不用對玻璃本身充電，所以用于涂覆的設備變得不那么復雜。本發明的另外的優點在于，其使得能夠產生針對玻璃的均勻涂層。該工藝還解決了常規靜電噴射中所需的高電壓的問題。使用這種獨立的電場，在由帶電的液滴形成的電場之外將允許工藝和設備的一定自由度。該外電場可以放置成離霧化器噴嘴有一定距離， 并因而為液滴充電提供了更多時間。在電極之間使用的相對較小的距離生成相當高的電場強度。
下面，將參考附圖對本發明進行更加詳細的說明，附圖中
圖1示出了用于在平坦玻璃物體的優選表面上提供涂層的設備的示意圖； 圖2示出了用于在優選表面上提供涂層以及在不期望的表面上防止涂層形成的設備的示意圖3示出了用于增強在優選表面上形成涂層的設備的示意圖；以及圖4示出了根據本發明的使用外電場在優選表面上提供涂層的設備的示意圖。為了清楚起見，所述附圖都僅示出了用于理解本發明所必須的細節。對于理解本發明并不必須的結構和細節以及對于本領域技術人員顯而易見的結構和細節都已經從圖中省略，以便強調本發明的特征。
具體實施例方式根據本發明，至少液體原材料主要在玻璃表面的至少一部分上發生反應，從而在其上形成涂層。玻璃表面可以被加熱到至少所述玻璃的退火溫度。液體原材料利用一個或多個雙流體霧化器霧化成液滴，并且用于霧化的氣體的至少一部分被充電。帶電的氣體然后在霧化步驟期間和之后對液滴充電。至少通過靜電力將帶電的液滴沉積在所述部分上。圖1原理上示出了一種設備，其中在涂覆設備1中的玻璃2的頂部表面上形成涂層。具有典型尺寸1100 mmX 1400 mm的平坦玻璃件2從左邊移動到右邊。玻璃2首先進入包括加熱器5的加熱爐4。加熱器5可以基于輻射、對流或類似方式。在加熱爐4中，玻璃2加熱至高于玻璃2的退火點(退火溫度)的溫度。退火點取決于玻璃2的成分，并且對于堿石灰玻璃而言通常為大約500 °C，對于熔融石英而言通常為大約1100 °C。然后，玻璃 2進入涂覆單元9，其中噴射物17沉積在玻璃2的頂部表面上。玻璃還可以加熱到不同于退火溫度的涂覆溫度。玻璃2的涂覆溫度取決于所提供的涂層、或涂層材料以及玻璃的成分。因此，涂覆溫度可以是至少100 °C，優選為至少200 °C，以及最優選為至少300 °C。以下的涂層材料和涂覆溫度作為示例而公開
銻摻雜氧化錫(ATO)200-400 V400-500 "C 500-800 "C
300-400 V
500-800 "C 500-800 "C
200-400 "C 400-500 "C
500-800 V
氣浮裝置6通過吹氣運動使玻璃基底2浮起，其中氣體通過導管7輸送。噴射物由雙流體霧化器16形成。前體液體通過導管10送到霧化器16中，霧化氣體通過導管11送到霧化器16中。霧化氣體經過電暈充電器13，其中，高電壓從電源12輸送至電暈充電器13。 電暈電極13由電絕緣體14而與涂覆單元9的殼體隔開。反電極15優選形成帶電噴嘴的一部分，其表面形成該噴嘴的內壁。當霧化氣體流經電暈電極13時，該氣體被充電。電暈充電使得可以獲得高電荷密度、均勻的電荷場、以及同時最小化了擊穿可能性。此外，電暈充電使得可以借助于相同的設備1產生帶正電和帶負電的液滴。在霧化器16中，使用非常高流率的霧化氣體是有利的，有利的是從50 m/s到聲速。高的氣體流率具有若干優點。第一，從充電的角度來看是非常有利的，因為這樣一來， 例如所產生的離子從電暈鄰近處快速地漂移開。由離子導致的對空間充電的排斥減弱了對電暈電極13周圍的放電和成形進行削弱的電場，并由此還減少了所需的電暈電壓。例如， 通過將氮氣作為霧化氣體經由導管11以在電暈電極13附近大約150 m/s的流率來輸送， 可以將大約5 kV作為電暈電極13的充電電壓。第二，高流率減小了到霧化器16周圍的離子損耗，其中帶電氣體在霧化器中的優選停留時間是1 m/s或更小。第三，在霧化器16的出口噴嘴處的高流率減小了液滴尺寸。在玻璃表面上可能存在不期望被涂覆的區域。例如，當玻璃板被涂覆以透明導電氧化物(TCO)涂層時，僅在玻璃板的一個表面上進行涂覆是有利的。本發明包括這樣的工藝，其中在玻璃中不希望被涂覆的第二部分中充以和液滴具有相同極性的電荷，并且該電荷減少了帶電液滴到所述第二部分的沉積。帶電液滴到玻璃物體的不期望部分(即，玻璃物體中不希望涂層形成的那些部分)的沉積可以通過對這些不期望部分充以和液滴具有相同極性的電荷來減少。在優選實施例中，使頂部表面朝向涂覆噴嘴并且底部表面面向相反方向的玻璃板通過氣浮傳送裝置傳遞到涂覆單元中。用于使玻璃板浮起的氣體被充以和液滴具有相同極性的電荷，其最小化了液滴在玻璃板的底部表面上的沉積。圖2原理上示出了一種設備，其中玻璃的加熱運動和涂覆以和圖1中描述的方式相同的方式實現。另外，使用了另一個電暈充電器13*來對氣浮裝置6中所用的空氣充電。 圖2示出了這樣的實施例，其中電暈充電器13*使用了與電暈充電器13相同的電源12。然而，對本領域技術人員顯而易見的是，也可以采用具有不同電壓的另一個電源。對于本發明關鍵的是，支撐玻璃板2的空氣采用和對液滴17充電的相同極性來對玻璃基底2的底部表面充電。由相同極性的電荷所導致的排斥力減小了涂層在玻璃基底2的底部表面的形成。 顯然，也可以僅玻璃基底的更多受約束的區域可以被充電。圖3原理上示出了一種現有技術的設備，其中用于液滴沉積的靜電力通過對玻璃基底2的頂部表面充以與液滴17的電荷相反的電荷從而得以增強。優選地，所述充電通過由電暈充電器13**對經過導管11**的空氣進行充電而得以實現。如圖3中所示，電暈充電器I3**與電暈充電器13具有相反的極性。圖2示出了一個實施例，其中電暈充電器13** 和電暈充電器13使用相同的電源12。然而，對于本領域技術人員顯而易見的是，可以使用具有不同電壓的另一個電源。圖4原理上示出了根據本發明的設備，其中使用了獨立的外部電場以增強帶電液滴17的沉積。對液滴充電的方式類似于聯系圖1所描述的方式。同樣，玻璃的加熱、浮起和傳送可以類似于圖1來實現。高速的液滴進入在第一電極18和第二電極之間產生的電場，其中第一電極18與涂覆單元9的殼體通過電絕緣體19分開，并且連接到電源12*的第一輸出端，而第二電極在該情形中通過將空氣支撐裝置6連接到電源12*的另一輸出端并且通過電絕緣體20使空氣支撐裝置6與涂覆單元9的殼體電絕緣來形成。對于本領域技術人員顯而易見的是，電源12*的第二輸出端也可以連接到涂覆單元9的各種其它物件， 例如，連接到一個或多個滾子3(與該設備的其它部件電絕緣)，這些滾子3又將電源12*的第二輸出端連接到與滾子接觸的玻璃基底。可替代地，第一和第二電極可以是布置成僅用于提供獨立電場的獨立電極。所述電極與設備1的其它部件電絕緣。如圖4中所示，一個或多個霧化器16布置成與獨立的電場連接，使得液滴進入到所述獨立的電場中。獨立的電場布置成接收玻璃基底2的至少一部分。由于帶電液滴17被形成為進入到獨立電場中，靜電力將液滴驅至玻璃表面上以便在玻璃表面上提供涂層。這意味著玻璃基底被傳送或者至少部分放置到獨立的電場中，以便將液滴沉積在玻璃表面上。因而，玻璃基底優選放置在形成獨立電場的第一和第二電極之間。另一方面，電場被實施成使得其將帶電液滴驅向玻璃表面。帶電液滴17被送入到獨立電場中，以便通過靜電力將帶電液滴 17的至少一部分沉積在玻璃表面的一部分上。液體原材料還可以霧化到獨立電場中，因而將帶電液滴17形成到獨立的電場中。由此，霧化器16布置成與獨立電場連接。因而，霧化器可以布置成使得霧化器將液體原材料霧化到位于第一和第二電極之間的獨立的電場中。本發明還提供了一種用于涂覆玻璃的工藝，其使用了至少一種或多種液體原材料，所述液體原材料主要在所述玻璃表面的至少一部分上發生反應，從而在其上形成涂層。 在該工藝中，利用一個或多個雙流體霧化器16將液體原材料的至少一部分霧化成液滴17。 對一個或多個雙流體霧化器16中使用的氣體的至少一部分充電，使得在霧化期間或之后液滴17的至少一部分變得帶電。該工藝還包括提供獨立產生的電場；以及，利用雙流體霧化器16將液滴17形成到所述獨立產生的電場中，以便通過靜電力將帶電液滴17的至少一部分沉積到玻璃表面的所述部分上。在該工藝中，玻璃2在將帶電液滴17沉積到玻璃表面的所述部分上之前可以被加熱到至少所述玻璃2的退火溫度。同樣，霧化和帶電的液滴17可以被加熱，例如，通過加熱的霧化氣體。根據本發明的工藝，玻璃2的至少一部分布置到獨立產生的電場中，用于通過靜電力將帶電液滴17的至少一部分沉積到玻璃表面的所述部分上。玻璃優選布置成被接納在提供了獨立電場的第一和第二電極之間。電暈放電電極和其反電極能夠以在先前的實施例中沒有描述的各種不同的方式定位。因而，例如將反電極連接到玻璃基底外側的板是可能的。通過以各種方式來對聯系本發明上述不同實施例公開的模式和結構進行組合，可以產生根據本發明精神的本發明的
9各種實施例。因此，對于本領域技術人員而言顯而易見的是，隨著技術的進步，創新的構思能夠以各種方式實施。本發明及其實施例并不限于上述描述的示例，而是可以在所附權利要求的范圍內變化。 對于本領域技術人員而言顯而易見的是，隨著技術的進步，創新的構思能夠以各種方式實施。本發明及其實施例并不限于上述描述的示例，而是可以在所附權利要求的范圍內變化。
權利要求
1.一種用于涂覆玻璃(2)的工藝，使用至少一種或多種液體原材料，所述液體原材料主要在所述玻璃表面的至少一部分上進行反應，從而在所述玻璃表面的至少一部分上形成涂層，所述工藝包括利用一個或多個雙流體霧化器(16)將所述液體原材料的至少一部分霧化成液滴(17);以及對在所述一個或多個雙流體霧化器(16)中使用的氣體的至少一部分進行充電，使得在所述霧化期間或之后所述液滴(17)的至少一部分變得帶電；其特征在于，所述工藝進一步包括提供獨立產生的電場；以及將利用所述雙流體霧化器(16)形成的液滴(17)送到所述獨立形成的電場中，用于通過靜電力將所述帶電液滴(17)的至少一部分沉積在所述玻璃表面的所述部分上。
2.如權利要求1所述的工藝，其特征在于，將所述液滴(17)直接形成到所述獨立產生的電場中。
3.如權利要求1或2所述的工藝，其特征在于，在將所述帶電的液滴(17)沉積在所述玻璃表面的所述部分上之前，將所述玻璃(2)或所述玻璃表面加熱到大致所述玻璃(2)的退火溫度或者至少所述玻璃(2)的涂覆溫度。
4.如權利要求3所述的工藝，其特征在于，將所述玻璃(2)加熱到至少100°C，優選加熱到至少200 °C，以及最優選加熱到至少300 °C。
5.如權利要求1至4中任一項所述的工藝，其特征在于，加熱所述霧化且帶電的液滴 (17)。
6.如權利要求5所述的工藝，其特征在于，通過加熱的霧化氣體來加熱所述霧化且帶電的液滴(17)。
7.如權利要求1至6中任一項所述的工藝，其特征在于，將所述玻璃(2)的至少一部分布置到所述獨立形成的電場中，用于通過靜電力將所述帶電液滴(17)的至少一部分沉積在所述玻璃表面的所述部分上。
8.如權利要求1至7中任一項所述的工藝，其特征在于，通過電暈充電(13)來對所述雙流體霧化器(16)中使用的氣體的至少一部分進行充電。
9.一種用于涂覆玻璃(2)的設備(1)，使用至少一種或多種液體原材料，所述液體原材料主要在所述玻璃表面的至少一部分上進行反應，從而在所述玻璃表面的至少一部分上形成涂層，所述設備包括一個或多個雙流體霧化器(16)，用于至少將所述液體原材料的至少一部分霧化成液滴 (17);以及充電裝置，用于對在所述一個或多個雙流體霧化器(16)中使用的氣體的至少一部分進行充電，使得在所述霧化期間或之后所述液滴(17)的至少一部分變得帶電；其特征在于，所述設備(1)進一步包括獨立產生的電場，用于通過靜電力將所述帶電液滴(17)的至少一部分沉積在所述玻璃表面的所述部分上。
10.如權利要求9所述的設備(1)，其特征在于，所述一個或多個雙流體霧化器(16)被布置成將所述液滴(17)形成到所述獨立產生的電場中。
11.如權利要求9或10所述的設備(1)，其特征在于，所述設備(1)包括用于對所述霧化且帶電的液滴(17)加熱的加熱裝置。
12.如權利要求9至11中任一項所述的設備(1)，其特征在于，所述加熱裝置布置成加熱霧化氣體，所述霧化氣體用于加熱所述霧化且帶電的液滴(17)。
13.如權利要求9至12中任一項所述的設備(1)，其特征在于，所述獨立產生的電場布置成接納所述玻璃(2)的至少一部分，用于通過靜電力將所述帶電液滴(17)的至少一部分沉積在所述玻璃表面的所述部分上。
14.如權利要求9至13中任一項所述的設備(1)，其特征在于，所述設備(1)包括第一電極(18)、第二電極、以及電源(12*)，所述電源(12*)連接到所述第一電極(18)和所述第二電極，用于提供所述獨立產生的電場。
15.如權利要求14所述的設備(1)，其特征在于，所述第一電極(18)或所述第二電極， 或者所述第一電極(18)和所述第二電極是所述設備(1)的部件。
16.如權利要求14或15所述的設備(1)，其特征在于，所述第一電極(18)和所述第二電極與所述設備(1)的其它部件電絕緣。
17.如權利要求9至16中任一項所述的設備(1)，其特征在于，所述設備(1)進一步包括電暈充電裝置(13)，用于對所述雙流體霧化器(16)中使用的氣體的至少一部分進行充 H1^ ο
18.如權利要求9至17中任一項所述的設備(1)，其特征在于，所述設備(1)包括玻璃加熱裝置(4，5)，在將所述帶電液滴(17)沉積在所述玻璃表面的所述部分上之前，所述玻璃加熱裝置(4，5)將所述玻璃(2)加熱到大致所述玻璃(2)的退火溫度或至少所述玻璃 (2)的涂覆溫度。
全文摘要
本發明涉及一種用于涂覆玻璃(2)的工藝和設備，其借助于這樣的方法使用至少一種或多種液體原材料，所述液體原材料主要在所述玻璃表面的至少一部分上進行反應，從而在其上形成涂層。利用一個或多個雙流體霧化器將所述液體原材料的至少一部分霧化成液滴(17)，并且對在所述一個或多個雙流體霧化器中使用的氣體的至少一部分進行充電，使得在霧化期間或之后所述液滴(17)的至少一部分變得帶電。根據本發明，液滴(17)被形成到獨立產生的電場中。
文檔編號B05D1/04GK102264481SQ200980151981
公開日2011年11月30日 申請日期2009年12月21日 優先權日2008年12月22日
發明者克斯基南 J., 拉賈拉 M. 申請人:本尼克公司