專利名稱：一種用于生產具有微棱鏡陣列結構的反光膜的涂覆裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種涂覆裝置，尤其涉及一種用于生產具有微棱鏡陣列結構的反
光膜的涂覆裝置。
背景技術：
具有微棱鏡陣列結構的反光材料由于其卓越的逆反射性能，越來越廣泛的被應用于各種道路交通安全設施、標志牌和車輛被動安全防護裝置等領域。 美國專利號4601861，
公開日1986年7月22日，發明創造的名稱為"用于在樹酯層或層壓膜之上浮刻精密光學圖格的方法及其裝置"的發明專利公開了一種在透明熱塑性材料制作的薄膜表面上或在所述材料制成的層壓膜上浮刻連續的方角型反光單元圖格的方法及其裝置。該發明采用薄金屬帶形式的連續浮刻工具，其外表面帶有浮刻圖格；所述工具沿閉合路線依次通過加熱站和冷卻站，在加熱站中，浮刻工具的相應部位以及圖格的溫度升至薄膜玻璃態轉變溫度以上，直到薄膜被軟化且其表面形成與浮刻圖格相一致的圖案，而在冷卻站中，浮刻工具被加熱部位的溫度降至所述玻璃態轉變溫度以下，經浮刻造型的材料被快速冷卻，從而使薄膜固化；然后將薄膜從工具上剝離。所述方法和裝置可進行連續操作，大大簡化了以往的技術，但也存在諸多不足 1、所述的薄膜在微棱鏡成型過程中需要在加熱站中被加熱到玻璃化溫度之上，其適宜溫度為425-475° F、即218_246°C ，再在冷卻站中被冷卻至玻璃化溫度之下，即需冷卻至180° F、相當于82t:以下，加熱和冷卻的溫差較大，而薄膜具有較大的比熱，因此其加熱和冷卻的時間相對較長，對于一定長度的環形帶狀模具而言，這必然影響其生產速度，該發明專利中公開的層壓膜是以0. 8-1. 2米/分鐘的速度通過浮刻裝置的，導致其工作效率的降低。 2、在上述較長時間的加熱和冷卻過程中，成型產品會產生形變，進而造成產品的
一致性較差。 3、由于采用的薄膜為熱塑性材質，呈線性結構的熱塑性樹酯所形成的微棱鏡的硬度、抗劃傷、耐熱及耐溶劑性能必然受到制約，從而也制約了產品的后續加工和使用性能。[0007] 現有的具有微棱鏡陣列結構的反光膜的生產設備，通過增加涂覆裝置、干燥裝置和UV固化裝置，使得微棱鏡結構由光敏樹酯UV固化后形成，其性能大幅提升，并且產品一致性好，另外，該生產設備還可明顯提高生產速度、增加工作效率。其具體實現方式為如圖1所示，具有微棱鏡陣列結構的反光膜的生產設備，包括環形帶狀模具6、涂覆裝置1、干燥裝置2、加熱膜壓裝置3、UV固化裝置4和冷卻裝置5，所述的環形帶狀模具6帶有一個內表面和一個外表面，其外表面帶有呈凸出狀的連續精密微棱鏡陣列結構；如圖2所示，所述的涂覆裝置1在樹酯薄膜82的一側表面涂覆光敏樹酯81，涂覆了光敏樹酯81的樹酯薄膜82通過所述的干燥裝置2進行干燥，然后將樹酯薄膜82上涂覆有光敏樹酯81的一側表面緊貼于環形帶狀模具6的外表面通過所述的加熱膜壓裝置3進行加熱、膜壓，使所述的光敏樹酯81填滿凸起的微棱鏡結構的間隙，在光敏樹酯81和環形帶狀模具6的外表面上的微棱鏡陣列結構緊密嚙合的情況下，利用UV固化裝置4固化光敏樹酯81，并使其牢固附著于樹酯薄膜82上，與樹酯薄膜82形成不可分離的一體，涂覆了光敏樹酯81的樹酯薄膜82、固化后的光敏樹酯81及成型于其上的微棱鏡結構共同組成層壓膜8，所述的層壓膜8經過冷卻裝置5處理，即形成具有微棱鏡陣列結構的反光膜。 如2和圖3所示，所述的涂覆裝置1包括盛料槽11、上料輥12、轉移輥14、擠壓輥13以及與擠壓輥13直接相連的自由升降的加壓系統17，所述的樹酯薄膜82位于上料輥12和轉移輥14的上方、擠壓輥13的下方，所述的盛料槽11中裝有光敏樹酯81，上料輥12浸于所述的盛料槽11中；在上料輥12的轉動過程中，光敏樹酯81流轉到上料輥12的表面，然后在上料輥12和轉移輥14的相切處將光敏樹酯81轉移到轉移輥14的表面上，所述的轉移輥14和上料輥12在切線方向上的運動方向一致，通過所述的加壓系統17對擠壓輥13的作用，樹酯薄膜82向轉移輥14靠近并貼合，在擠壓輥13和轉移輥14的相切處，光敏樹酯81被轉移到樹酯薄膜82的表面，所述的擠壓輥13和轉移輥14在切線方向上的運動方向與樹酯薄膜82的傳送方向一致；所述的上料輥12通常是主動傳動，而擠壓輥13和加壓系統17相連，通常為被動傳動；轉移輥14通常也稱為勻墨輥，可以是主動傳動，也可以是被動傳動。所述的涂覆裝置1還包括刮刀16，刮刀16與上料輥12觸接，將上料輥12上多余的光敏樹酯81刮除。 刮刀16也可與轉移輥14觸接，將轉移輥14上多余的光敏樹酯81刮除。[0010] 可以看出，上述涂覆裝置l中，所述的轉移輥14和上料輥12在切線方向上的運動方向一致，轉移輥14只起到轉移光敏樹酯81的作用，而不能起到刮勻光敏樹酯81的作用，樹酯薄膜82上的涂覆量由擠壓輥13所施加的壓力大小來控制，其控制方式的穩定性相對較差，涂層的均勻性欠佳，涂覆量的控制精度也不高，只適宜于小量及低粘度樹酯的涂覆。
發明內容為了解決現有的用于生產具有微棱鏡陣列結構的反光膜的涂覆裝置存在的涂層的均勻性欠佳、控制方式的穩定性相對較差、涂覆量的控制精度也不高、只適宜于小量及低粘度樹酯的涂覆等缺陷，本實用新型提供一種適宜于中低量及中低粘度樹酯的涂覆、涂層的均勻性較好、控制精度較高、控制方式的穩定性也較好的用于生產具有微棱鏡陣列結構的反光膜的涂覆裝置。 為了解決上述技術方案，本實用新型是通過以下技術方案實現的 —種用于生產具有微棱鏡陣列結構的反光膜的涂覆裝置，包括上料輥、轉移輥、擠
壓輥以及容納光敏樹酯的槽，所述的上料輥上附著有光敏樹酯，上料輥、轉移輥和擠壓輥從
下至上依次排列，上料輥和轉移輥觸接，用以涂覆光敏樹酯的樹酯薄膜位于轉移輥的上方、
擠壓輥的下方，所述的上料輥與轉移輥設有運動方向相反的傳動系統。 在此種結構的涂覆裝置中，光敏樹酯先附著于上料輥，所述的上料輥與轉移輥(通常也稱為勻墨輥)觸接，并設有運動方向相反的傳動系統，即轉移輥與上料輥在切線方向上的運動方向相反，該逆向轉動的轉移輥將光敏樹酯刮勻后轉移到樹酯薄膜上。在該刮勻光敏樹酯的過程中，轉移輥和上料輥的轉速差異、兩輥間的間隙大小、擠壓輥與轉移輥之間的壓力大小均可以控制轉移到轉移輥上的光敏樹酯的量，從而最終控制涂覆到樹酯薄膜上的光敏樹酯的量，可令樹酯薄膜上的涂層均勻性較好、涂覆量的控制精度比較高，該控制方式的穩定性也比較好，適宜于中低量及中低粘度樹酯的涂覆。上料輥的材質可以是鋼制 或陶瓷的網線輥，也可以是鋼制或陶瓷的鏡面輥，或者是硅橡膠、氯丁橡膠、聚氨酯等材質 的柔性輥。當上料輥為網線輥時，其網線的密度和深度也會影響樹酯薄膜上光敏樹酯的涂覆量。 上述一種用于生產具有微棱鏡陣列結構的反光膜的涂覆裝置，所述的容納光敏樹 酯的槽為盛料槽。上料輥浸于所述的盛料槽中。 上述一種用于生產具有微棱鏡陣列結構的反光膜的涂覆裝置，所述的涂覆裝置還 包括圓輥，所述的圓輥與上料輥觸接，其形成的空間構成容納光敏樹酯的槽。所述的光敏樹 酯具有粘度。 上述一種用于生產具有微棱鏡陣列結構的反光膜的涂覆裝置，所述的涂覆裝置還 包括刮刀，刮刀與上料輥或轉移輥觸接。刮刀可以將上料輥或轉移輥上多余的光敏樹脂刮 除。 上述一種用于生產具有微棱鏡陣列結構的反光膜的涂覆裝置，所述轉移輥的上 方、樹酯薄膜的下方設有第二轉移輥，所述的轉移輥和第二轉移輥觸接。設置第二轉移輥可
使涂覆層更均勻。 本實用新型提供的一種用于生產具有微棱鏡陣列結構的反光膜的涂覆裝置，其上 料輥與轉移輥設有運動方向相反的傳動系統，即上料輥與轉移輥在切線方向上的運動方向 相反，該逆向轉動的轉移輥可以起到刮勻光敏樹酯的作用，令樹酯薄膜上的涂層均勻性較 好、涂覆量的控制精度比較高，該控制方式的穩定性也比較好，適宜于中低量及中低粘度樹 酯的涂覆。
圖1 :現有具有微棱鏡陣列結構的反光膜的生產設備的裝置位置關系圖； 圖2 :現有具有微棱鏡陣列結構的反光膜的生產設備的結構示意圖； 圖3 :現有用于生產具有微棱鏡陣列結構的反光膜的涂覆裝置的結構示意圖； 圖4 :本實用新型第一種實施例的結構示意圖； 圖5 :本實用新型第二種實施例的結構示意圖； 圖6 :本實用新型第三種實施例的結構示意圖。
具體實施方式下面結合具體實施方式
對本實用新型作進一步詳細描述，但它們不是對本實用新
型的限制 實施例1 : 如圖4所示，一種用于生產具有微棱鏡陣列結構的反光膜的涂覆裝置，包括上料 輥2a、轉移輥3a、擠壓輥4a以及盛料槽la，所述的擠壓輥4a與一可自由升降的加壓系統 8a相連，所述的盛料槽la中盛有光敏樹酯，上料輥2a浸于所述的盛料槽la中，光敏樹酯 隨著上料輥2a的轉動流轉至上料輥2a的外表面；上料輥2a、轉移輥3a和擠壓輥4a從下 至上依次排列，上料輥2a和轉移輥3a觸接，用以涂覆光敏樹酯的樹酯薄膜5a位于轉移輥 3a的上方、擠壓輥4a的下方，所述的上料輥2a與轉移輥3a設有運動方向相反的傳動系統(圖中未示出)，即所述的上料輥2a與轉移輥3a在切線方向上的運動方向相反，該逆向轉 動的轉移輥3a可起到刮勻光敏樹酯的作用，包覆于上料輥2a表面的光敏樹酯被轉移到樹 酯薄膜5a朝向轉移輥3a —側的表面上，所述的涂覆裝置還包括刮刀6a，刮刀6a與上料輥 2a觸接，可將上料輥2a上多余的光敏樹脂刮除。 所述的刮刀6a還可與轉移輥3a觸接，將轉移輥3a上多余的光敏樹脂刮除。 實施例2 : 如圖5所示，一種用于生產具有微棱鏡陣列結構的反光膜的涂覆裝置，包括上料 輥2a、轉移輥3a，擠壓輥4a以及圓輥12a，圓輥12a與上料輥2a觸接，其形成的空間構成容 納光敏樹酯的槽13a。 其余部分和實施例1相同，也可實現本實用新型的目的。 實施例3 : 如圖6所示，一種用于生產具有微棱鏡陣列結構的反光膜的涂覆裝置，包括上料 輥2a、轉移輥3a，擠壓輥4a以及圓輥12a，圓輥12a與上料輥2a觸接，其形成的空間構成容 納光敏樹酯的槽13a，光敏樹酯隨著上料輥2a的轉動流轉至上料輥2a的外表面；所述的涂 覆裝置還包括第二轉移輥7a，上料輥2a、轉移輥3a、第二轉移輥7a和擠壓輥4a從下至上依 次排列，上料輥2a和轉移輥3a、轉移輥3a和第二轉移輥7a觸接，用以涂覆光敏樹酯的樹酯 薄膜5a位于第二轉移輥7a的上方、擠壓輥4a的下方，所述的上料輥2a與轉移輥3a設有 運動方向相反的傳動系統(圖中未示出)，即所述的上料輥2a與轉移輥3a在切線方向上 的運動方向相反，該逆向轉動的轉移輥3a可起到刮勻光敏樹酯的作用，通過擠壓輥4a的作 用，包覆于上料輥2a表面的光敏樹酯被轉移到轉移輥3a的表面、進而將光敏樹酯轉移到樹 酯薄膜5a朝向第二轉移輥7a —側的表面上，通過第二轉移輥7a，可使樹酯薄膜5a上的涂 覆層更均勻。 總之，以上所述僅為本實用新型的較佳實施例，凡依本實用新型申請專利的范圍 所作的均等變化與修飾，皆應屬本實用新型的涵蓋范圍。
權利要求一種用于生產具有微棱鏡陣列結構的反光膜的涂覆裝置，包括上料輥(2a)、轉移輥(3a)、擠壓輥(4a)以及容納光敏樹酯的槽，所述的上料輥(2a)上附著有光敏樹酯，上料輥(2a)、轉移輥(3a)和擠壓輥(4a)從下至上依次排列，上料輥(2a)和轉移輥(3a)觸接，用以涂覆光敏樹酯的樹酯薄膜(5a)位于轉移輥(3a)的上方、擠壓輥(4a)的下方，其特征在于所述的上料輥(2a)與轉移輥(3a)設有運動方向相反的傳動系統。
2. 根據權利要求1所述的一種用于生產具有微棱鏡陣列結構的反光膜的涂覆裝置，其 特征在于所述的容納光敏樹酯的槽為盛料槽(la)，上料輥(2a)浸于所述的盛料槽(la) 中。
3. 根據權利要求1所述的一種用于生產具有微棱鏡陣列結構的反光膜的涂覆裝置，其 特征在于所述的涂覆裝置還包括圓輥(12a)，所述的圓輥(12a)與上料輥(2a)觸接，其形 成的空間構成容納光敏樹酯的槽(13a)。
4. 根據權利要求2或3所述的一種用于生產具有微棱鏡陣列結構的反光膜的涂覆裝 置，其特征在于所述的涂覆裝置還包括刮刀(6a)，刮刀(6a)與上料輥(2a)或轉移輥(3a) 觸接。
5. 根據權利要求3所述的一種用于生產具有微棱鏡陣列結構的反光膜的涂覆裝置，其 特征在于所述轉移輥(3a)的上方、樹酯薄膜(5a)的下方設有第二轉移輥(7a)，所述的轉 移輥(3a)和第二轉移輥(7a)觸接。
專利摘要本實用新型涉及一種用于生產具有微棱鏡陣列結構的反光膜的涂覆裝置。本實用新型解決了現有技術中存在的涂層的均勻性欠佳、控制方式的穩定性相對較差、涂覆量的控制精度也不高、只適宜于小量及低粘度樹酯的涂覆等缺陷。本實用新型包括上料輥、轉移輥、擠壓輥以及容納光敏樹酯的槽，所述的上料輥上附著有光敏樹酯，上料輥、轉移輥和擠壓輥從下至上依次排列，上料輥和轉移輥觸接，用以涂覆光敏樹酯的樹酯薄膜位于轉移輥的上方、擠壓輥的下方，所述的上料輥與轉移輥設有運動方向相反的傳動系統。本實用新型令樹酯薄膜上的涂層均勻性較好、涂覆量的控制精度比較高，該控制方式的穩定性也比較好，適宜于中低量及中低粘度樹酯的涂覆。
文檔編號B05C11/04GK201524642SQ20092019993
公開日2010年7月14日 申請日期2009年11月16日 優先權日2009年11月16日
發明者王嘉偉, 胡智彪, 胡智雄 申請人:浙江道明光學股份有限公司