專利名稱：具有錯置的降壓及增壓回路的容器等離子處理機的制作方法
技術領域：
011本發明涉及容器處理，其在于使容器內壁涂覆一勢壘效應材料層。
背景技術：
在容器( 一般用熱塑性聚合物材料例如聚對苯二曱酸乙二醇酯制 成)放入圍室中之后，進行降壓，以便一方面在容器中形成等離子建立所 需的高真空(數微巴，其中1微巴=10—6巴)，另一方面在容器外部于圍室 中形成中真空(約30毫巴至100毫巴)，從而避免容器在壓力差的作用下 在其壁的兩側收縮。 根據一實施方式，處理機還可具有一圍室降壓管道和一圍室增壓 管道，所述圍室降壓管道獨立于容器降壓管道，且使圍室連接于一負壓源， 所述圍室增壓管道獨立于容器增壓管道，且使圍室連接于一壓力源。圍室 降壓管道和圍室增壓管道例如通到在圍室中開啟的一公共管。
圖l是示出符合本發明的處理機的剖面示意圖；圖4是圖2的處理機沿剖面IV-IV的橫剖面細部圖；圖5是圖2的處理機沿剖面V-V的橫剖面細部圖；圖6是圖2所示的處理機沿剖面VI-VI的正視剖面細部圖； 圖l示出處理機l，該處理機具有兩個成對的處理單元2，用于 在由塑料材料例如聚對苯二曱酸乙二醇酯(PET)制的坯件預先吹制或拉 伸吹制成形的容器的內壁3上，等離子沉積屏障層。處理單元2安裝在轉 盤(未示出)的周邊，所述轉盤可直接布置在容器吹制機的出口處。 處理單元2具有第二電閥29，第二電閥間置在噴口 9和壓力源 28之間，以便根據處理的進展階段使噴口和壓力源彼此連通或阻止它們彼 此連通。該電閥29具有閥門30,閥門30安裝成在一關閉位置和一開啟位 置(見圖5)之間活動，其中在該關閉位置，閥門30貼靠在形成于增壓管 道27管道口的閥座31上，因而閥門關閉該增壓管道，從而阻止噴口9和 壓力源28之間的連通，在該開啟位置，閥門30離開閥座31，使噴口9和 壓力源28連通。 處理單元2具有第四電閥37,其布置在圍室5和壓力源28之間， 以^使圍室5和壓力源28^:此連通或阻止它們^C此連通。該電閥37具有一 閥門38，閥門38安裝成在一關閉位置和一開啟位置(見圖6)之間活動， 在關閉位置，閥門38貼靠在形成于增壓管道33的管道口的一閥座39上， 該閥門因而關閉該增壓管道，從而阻止圍室5和壓力源28之間的連通，在 開啟位置，閥門38離開閥座39，使圍室5和壓力源28連通。 至于噴射器IO，它通過一管道42連接于一前驅氣體(例如乙炔) 源41，管道42—部分在蓋8中形成，管道42的關閉或相反地開啟由第五 電閥43確保。-"外部真空，，(Videext.)線，表示第三電閥34的開啟狀態0 或關閉狀態F; —容器3被裝載，其頸部接納在夾具12中。桿11與堵塞器13 共同朝高位上升，在高位，容器3剛性地被密封保持在夾具12和蓋8之間。 該密封性旨在避免噴口 9(因而容器3的內部)和圍室5(即容器3的外部) 之間的任何連通，以避免對圍室5的碳質污染，對圍室5的碳質污染會不 利于圍腔對電磁微波的良好傳送。-使電磁微波發生器6停止運行，從而造成等離子消失；
[64-關閉第五電閥43,從而造成前驅氣體供給停止；
[65-使第一電岡19的閥門20進入關閉位置，從而造成容器3的降
壓停止；以及
[661 -使第二電閥29的閥門30進入開啟位置，從而造成容器3增壓。 [671在預定的延時(不足一秒)之后，控制單元控制第四電閥37的
閥門38進入開啟位置，從而造成在容器3外部的圍室5增壓。
[681因此，如此處理的容器3可被排出，循環過程重新開始以處理下
一容器。
權利要求
1.等離子處理容器(3)的處理機(1)，其具有-圍室(5)，其適于接納一待處理容器(3)；-蓋(8)，其在所述圍室(5)的延伸部分形成有噴口(9)；-使容器(3)降壓的降壓管道(14)，該容器的降壓管道通入所述噴口(9)并使該噴口連接于負壓源(15)；-第一閥(19)，其具有一關閉位置和一開啟位置，在所述關閉位置，所述第一閥關閉所述降壓管道(14)，而在所述開啟位置，所述第一閥使所述噴口(9)與所述負壓源(15)連通；該處理機(1)的特征在于它還具有-使容器(3)增壓的增壓管道(27)，該容器的增壓管道與所述降壓管道(14)分開，該增壓管道(27)在所述降壓管道(17)之外通到所述噴口(9)中，且使所述噴口(9)連接于壓力源(28)；-第二閥(29)，其具有該第二閥關閉所述增壓管道(27)的關閉位置、和該第二閥使所述噴口(9)與所述壓力源(28)連通的開啟位置。
2. 根據權利要求l所述的處理機(1)，其特征在于，所述噴口 (9) 具有中央部分(22)，所述降壓管道(14)通入該中央部分，所述中央部 分(22)由所述增壓管道(27)通入的一末端部分(24)延長。
3. 根據權利要求2所述的處理機(1)，其特征在于，所述噴口 (9) 的所述末端部分(24)具有所述增壓管道(27)通入的環形室(25)。
4. 根據權利要求3所述的處理機(1)，其特征在于，所述環形室(25 ) 經由一個或多個孔道(26)與所述噴口 (9)的中央部分(22)連通。
5. 根據權利要求1至4中任一項所述的處理機(1),其特征在于， 所述降壓管道(14 )通入一中間室(17 ),所述中間室通過一穿孔隔板(18 ) 與所述噴口 (9)連通。
6. 根據前述權利要求中任一項所述的處理機(1),其特征在于，所 述處理機還具有使圍室(5)降壓的降壓管道(32)，該圍室的降壓管道獨 立于所述容器(3)的降壓管道(14)，并使所述圍室(5)連接于一負壓源(15 )。
7. 根據前述權利要求中任一項所述的處理機(1)，其特征在于，所 述處理機還具有使圍室(5)增壓的增壓管道(33)，該圍室的增壓管道獨 立于所述容器(3)的增壓管道(27)，并使所述圍室(5)連接于一壓力 源(28)。
8. 根據權利要求6和7所述的處理機(1)，其特征在于，所述圍室 (5)的所述降壓管道(32)和增壓管道(33)通入開通到所述圍室(5)中的一公共管(40)。
全文摘要
容器(3)的等離子處理機(1)，其具有接納一待處理容器(3)的圍室(5)；在所述圍室(5)的延伸部分中形成有噴口(9)的蓋(8)；使容器(3)降壓的降壓管道(14)，其通入所述噴口(9)并使該噴口連接于負壓源(15)；第一閥(19)，其具有關閉位置和開啟位置，在關閉位置所述第一閥關閉所述降壓管道(14)，在開啟位置第一閥使噴口(9)與負壓源(15)連通；使容器(3)增壓的增壓管道(27)，其與降壓管道(14)分開，該增壓管道(27)在降壓管道(14)之外通到噴口(9)中且使噴口(9)連接于壓力源(28)；第二閥(29)，其具有該第二閥關閉增壓管道(27)的關閉位置、和該第二閥使噴口(9)與壓力源(28)連通的開啟位置。
文檔編號B05D7/22GK101528363SQ200780038718
公開日2009年9月9日 申請日期2007年10月17日 優先權日2006年10月18日
發明者L·達內爾, N·布特羅瓦, Y-A·杜克洛 申請人:西德爾合作公司