專利名稱:包含金屬的高分子涂布組合物及其制法及其應用的制作方法
技術領域:
本發明系有關具有高折射率及高透光率,包含金 屬、丙烯酸酯基的光聚合物的涂布組合物,該組合物 用以涂布于多種透明的聚合物膜,例如聚對苯二甲酸
乙二酯(PET )、聚碳酸酯(PC )和三醋酸纖維(TAC )等,然后以電磁波輻射固化,以產生固化涂布層,作為如制作具有特定表面結構的光學膜的應用。此種
形態的光學膜,被應用于例如液晶顯示面板LCD ),
包含特疋表面結構的增亮膜BEFs )及特定表面結構
的擴散膜涂布層的其它應用,包括制作其;它形態的
光學:膜例如用于道路標.識的反光膜及用以包裝及商
標防偽的全像膜。
背景技術:
由于包含特定表面結構的增:躉膜(B E F s )、 擴散膜
及用于道路標識的反光膜及用以包裝及商標防偽的全
像膜等光學膜的應用,需要高折射率及高透光率的聚
合材料,因此存在繼續改良該種材料的需求。
雖然,有可能制作具有高折射率的組合物本公開特許JP2001049131所揭示的,只要散布 的分散劑粉末,如氧化鈦等金屬氧化物于預備涂布層。但在固化過程中,此組合物將使無組散劑被均勻的陷于聚合物基材中。此種材料雖 可測量的高折射率,但不適合作為制作如上述 晶顯示面板的加強亮度膜或特定的擴散表而結 為該涂布層中含有固定于其中的不透光的分散其透光率較低。
有些先前技術,如美國公開專利 US20030021566 號揭示的組合物,在聚合作用的前為液態、單相、均質的涂布層,但在聚合作用之后,一或多個組成如問分散劑般的被陷于涂布層中。其理是凃布層的化合物不具有配位的機能,因而,該等組成在被同化及硬化的涂布層中被陷于聚合物基材中,僅是如同分散劑般的被并入聚合物基材中。其結果是增加折射率但卻降低透光率及光學的透明度,導致此薄膜不透明。此種形態的涂布層不能作為如增亮膜的用,由于事實上使用該涂布層將會降低增亮膜所要獲得增加的亮度,而有關增亮膜是用以使涂布層具有一般的折射率、但必須具有高透光率。
光學膜,例如增亮膜,用于LCD背光模塊,牽涉單向或另 一 幾何光學行為,是使光線的行進路徑由光的表面結構及其屮間各層不同的折射率(n1 ,n2,n3,n4......nx)而被改變。經由理論上的考壞顯示, 學膜的多種應用中,其性能的水準依據光線通過中間各層的間的折射率差異的大小而不同,例如差異越大時,性能越佳。在多數光學膜的應用中,光線從空氣中進入一如PET及TAC的塑料基材層。光線再由該層進入一可能具有表面結構的硬涂布層。空氣及商業上的PET的折射率是一固定數,是依其本身的材料特性而定。
薄膜設計者可正常的選擇滿足如LCD工業中的增亮膜的光學功能,而制作具有愈來愈高的折射率及愈來愈高的機能,如增亮膜的分光結構,然而,仍繼續需要有更高折射率與透光率的涂布層。
硬聚合物土布材料的折射率與其光學密度有關,一般以字母n代表折射率。光學默讀愈大時折射率愈大,光學密度愈小時折射率愈小。當光線進行的路徑由折射率n1的一層到折射率為n2的另一層,如n1不等于n2,則光線的路徑會偏離法線或偏向法線。折射率的值隨著光線的波長而變,其標準值是以 鈉燈,稱為"D燈"(波長為589微米)的光源測Mi。 利用D燈測量獲得折射率的公式表示如下
nD=sinθ1/sinθ2=i/r涂布組合物的折射率,能被設計,即利用仔細,巧妙的選擇組合物的多種以分子結構為基礎聚合前的樹酯加以設計。每一樹酯成分具有讀一的折射率,該著色列車可由下述的Lorenz-Lorentz公式的計算獲得,布需要時機的測量,使可涂布組合物的折射率能以理論模式化。Lorenz-Lorentz公式如下nL-L={1+2[R]/V}/{1-2[R]/V}
其中R為分子折射值;V為分子的體積。
原子折射但決定分子折射值,全部分子的折射* 可由所有折射值的加總值獲得。由I:述公式可知分子
15的折射值增加時可增加折射率,而分子的體積增加時 會降低折射率。以此方式,樹脂成分的折射率可被模 式化及被設計;以此類推,全部硬涂布組合物的折射 率可被模式化及被設計。因此具有較大分子折射他及 較小體積的分子為設計具有較大折射率的涂布組合物
20所需要的。
可計算原子的折射值的總合及結合度獲得分子的 折身寸值。以Lorenz —Lorentz公式計算折射率忽略了在分子折射值中的二階值對折射率的作用。由Ka t r i t z k y 等人實際試驗、觀察研究,并經由試驗及量測95種材 料,發現在波長為 5 8 9.3微米時,有5利,與折射率n 有關的決定因素。此5種決定因素分別為HUM0-LUM() 5能階、構成物的分子熱、分子的C-H鍵的最大斥力、 部分負表面積及F ( M )原子的數量。HUM0--LUM()能階 與原子的極化率有關,分子的C-H鍵的敲大斥力與混 合有關,部分負表面積與分子或單體的電子的分布有 關,F (氟)原子的數f〗口I由實際試驗、觀察包含F (氣) io原子低折射率的材料加以計算。
分子中原子的凈原子折射值的貢獻l到原于的位3: 及原子環繞在分子內的環繞性質的不同而不同。加總 的關系存在,但有許多差異性發生,該差異性被指出 是整個分子結構之問的差異。相同的元素不見得總是 15 具有相同的原子折射值,其差異性系由元素滲透它的 束縛軌道的性質所造成的。
原子折射率能利用研究其元素而直接獲得,或利 用認定相關組合物的間的分子差異性而間接獲得。會: 本發明中已收集原子折射率的資料并加以應用。
20 應用原子及分子折射值的考量,我們確認具有夂
聯網狀的結合形態的分子,如元素周期表第3族中的 鈧和釔、第1 2族中的鋅、鎘、第1 4族中的錫、鉛、第1 5族中的銻、鉍、或第1 6族中的硒,將導致聚合
物具有較高的光學密度而增強折射率,只要金屬離子 不會引發任何顏色,且金屬離子被結合于聚合基材呈. 交聯網狀的形態,而不是單純的如同分散劑。發射出有顏色的光當然是過渡金屬的特性,有害于獲得較高 的透光性,因此我們選用非過渡或假非過渡金厲。而 且過渡金屬不被采用,因為過渡金厲具有多樣穩定的 諷化作川型態,導致經常顯示出具有催化作用的活動。
經由已知技術(如世界智能財產權組織的公開專利 W089 1 09 1 5所揭示的)可知,利用具有交聯網狀型 態、包含氧元子的單體制作聚合物材料,典型地具有 高的折射率,歸因于氧原子具有較卨的原于折射值。 包含此種材料的涂布物已被揭露。
居于相同的原因,包含硫的聚合物材料也具有高折射率。有報告(如美國的專利US540390 1所揭示的) 指出硫聚合物具有高的折射率,其折射率正比于硫的 質量與預備聚合物的分子量的百分比。問樣的,具有 聚合功能的單休曾被用以制作具有高折射率的聚合物 材料(如美國的專禾U U S 5 4 2 4 3 3 9及U S 6 1 8 4 3 2 3 :)。但它的缺點是難以合成,且合成的速率很低。具有卨折射 率含有以甲基丙烯酸酯為基礎的聚合物材料,包含亞 丙二硫環也曾被提出(如日本的公開專利J P 0 4 — 1 6 1 4 1 0 ), 其折射率-為1.57—1.61。
已有報告指出,利用鹵素替代芳香族或脂肪族的 單體,可形成具有高折射率的聚合物材料。如美國專利US4721377、 US4812032揭示利用乙烯基共聚合物與鹵素替代芳香環制作高折射率的聚合物材料。但此與木發明所提出的其它報告及專利所揭露以氟制作低折 身寸率的聚合物材料(如Three Bond Technica] 于 2 0 0 4 年7月1日公開的News Resins for 0 p tic s)的論點相 矛盾。也有報告指出包含氯和碘的聚合物材料也會導致折射率的降低。溴例外,有些報告指出具有交聯網 狀型態的單體包含溴會使聚合物單體具有較高的折射 率。例如日本公開特昨5 9-184210及59-193915揭示, 以溴化的雙酚A型的樹脂,用以制作光學鏡片。并且, 美國專利 U S 5 9 3 2 6 2 6 、 U S 6 3 5 9 1 7 0利用溴化的甲基丙烯酸單體制作具有高折射率的聚合物材料。
已有報告指出氮、磷和硫原子會導致高折射率。 關國公幵專利 U S 2 0 0 2 1 5 8 3 5 2是有關(氮六環形態單 體,尤其是1 , 3 , 5 - _三氮六環形態的單休,可被用以 制作具有很好的高折射率、透明的光學樹脂。
前述所提大部分的先前技術,本質上是以有機交聯網狀型態的樹脂及分散劑為基礎。美國公開專利 U S 2 0 0 3 0 0 2 1 5 6 6 、曰本公開特許 2 0 0 10 4 9 13 1 及世界智 能財丄-廣一權組織公開專利WO 2 004/074 8 84A 1揭示.,利用
包含金屬的樹脂系以非鍵結的金屬化入 口物、或過渡金
屬化合物加入紫外線固化涂布材料內為基礎。然;而該
種例子是以金屬化合物或過渡金屬化入 口物作為分散劑
加入,而非在聚口物基材內產生鍵結的形太但由于
d_d電子的變遷而具有較多的顏色雖不降低透光
性且 z 有顏色不穩定的現象。
發明內容
為了進一 -少改良及提出新的有咼折射率及高透
光率的材料,供制作用于道路標識的反光膜及用以包
裝及商標防偽的全像膜,包含特定表面結構的增亮脫、 擴散膜等光學膜,而提出本發明。
本發明的主要目的,在提供 一 種包含金屬的高分
15子涂布組合物,具有高折射率及高透光率,供制作具 有特定表面結構的增亮膜、擴散膜等光學膜。
本發明的另 一 目的,在提供 一 種包含金屬的卨分 f涂布組合物,可用以制作需要具有高折射率及4"透 光率光學膜的屯子裝置。
20
本發明的乂 一目的,在提供 一 種包含金M的高分
子涂布組合物的制法,可用以制作需要具有高折射率 及高透光率的光學膜。
本發明包含金屬的高分子涂布組合物,包括辛少 一金屬錯合物,其中該錯合物的金屬離子是以 一 具有 共硫碳基及氫氧基或羧基的二芽配位基的單體或寡聚 物二者其中之 一 螫合而成,其中該金屬是選自元素周期表第3族中的鈧和釔、第1 2族中的鋅、鎘、第1 4
族中的錫、鉛、第1 5族中的銻、鉍、或第1 6族中的 硒其中的- 的金屬離子,具冇高折射率及高透光率-該化合物與單體樹脂混合以形成含金屬的光聚合物涂 布組合物,進而制作具有特定表面結構的增亮膜、擴 散膜等光學膜。
木發明制作 一 聚合物的力'法,K步驟包括獲得一 包含金屬的高分于涂布組合物,使ji;受到 一 電磁波船 射的作用時,使該組合物形成聚合體。
本發明的光學膜,具有大于88%的透光性,包括一金屬錯合物,其中該金屬是選自元素周期表第3族中 的鈧和釔、第1 2族屮的鋅、鎘、第H族屮的錫、詔、 第1 5族中的銻、鉍、或第1 6族中的硒其中之 一 的金 屬離子。
本發明的具有表面特定結構的形態的增亮膜,包 括I:述包含金屈的分子涂布組合物所制成。
本發明的U有表面特定結構的形態的擴散股,包 括上述包含金屬的高分子涂布組合物所制成。
本發明的且有表面特定結構的形態的全像膜,包
括上述包含金屬的高分子涂布組合物所制成。
本發明的有表面特定結構的形態的反光膜,包
括上述包含金屬的高分子涂布組合物所制成。
本發明的光學裝置,包括包括上述增亮膜、擴散
膜、全{象膜及反光膜其中之一 的光學膜所制成。
本發明的其它目的、功效,請參閱附圖及實施例 詳細說明如下,其屮
圖1為背光模塊示意圖。
具體實施例方式
本發明提出 一 金屬錯合物,其中該錯合物的金屬
15離子是以 一 具有共硫碳基及氫氧基或羧基的二芽配位 基的單體或寡聚物螫合而成穩定的五、六元環。改種 單體,由于具有二芽特性的配位基而產生螫合作用, 此為熟悉此項技術者所知的技術,由于螫合物具有較 高的穩定性,而且硫、氧、金屬、過渡金屬具有高的原子折射值及給予聚合物較高的光學密皮,岡而能覘劃涂布組合物包含0 . 2 1 ()%(百分比)重量的金屬離子 ,
完全地結合于交聯網狀的聚合物結構,從而經由電磁
亥涂布物具有折射率為過88%的高透光性。
提供 一 種單相、無溶劑型
其中,具冇 一 金屬錯合物, A有共硫碳基及氫氧基或 寡聚物螫合而成,其中該
波輻射同化為涂布物,1.57- 1 . 7的高折射率,及88%的高透光性。
本發明的特點之一 ,
5的液態光聚合物的組合物
該錯合物的金厲離子是以
羧基的二芽配位基的單體
金屬是來自元素周期表第
的鋅、鎘、第1 4族中的錫
10 或第1 6族屮的硒的金厲離
本發明的組A '物是
影響而可被聚
反應的自由基鍵
領域已知的技術
發日月的組A '物本
外部的電磁輻射,尤其是紫
該聚合作用是由乙烯基
所產生的。該種聚合作用是
合作用肖產生一聚A物白勺產
留的液體及散發的氣體-芽劑
合物及液態的溶劑o -.舟殳而
單或寡聚物可做為其1S如
有溶劑此即農示聚
該聚合物中沒有被殘
沒有包括可分i氺r 內的聚
可聚合的液體例如
螯合單體或寡聚秒
20 的組成物的溶劑。
本發明組合物的- - 較佳實施例,可被視為 一 可光
聚合的構成,包含共硫碳基及 一 氯諷蒼的二芽配位
基單體的化合物I<formula>see original document page 24</formula>
其中
n為0-4;
M為鈧、釔、鋅、鎘、錫、鉛、銻、鉍、硒;
Xn為Cl-、 Br-、 I-、 C03 (-2)、 0II-、 RCOO-(R-烷基鏈Cl至C24)、 ArCOO- ( Ar=芳香族五或六元環)、 二酮基(乙酰丙酮基、苯甲酰丙酮基)。
化合物I具有結合金屬離子形成的螫合物,該金屬是元素周期農第3族中的鈧和釔、第12族中的鋅、 鎘、第15族中的錫、鉛、第15族屮的銻、鉍、或第 1 6族中的硒。此種單體或寡聚物,當溶解于涂布組合物且被照射紫外線后,形成一單相、均質、具有高透光性及高折射率的共聚合物膜。
化合物I ,可利用商業上的單體或寡聚物BR-3 1化合物II<formula>see original document page 25</formula>
反應取得。Lawesson試劑為熟透本項技術者所知 者,是將羰基類轉換成硫羰基類。化合物I的硫含量, 可由控制Lawesson試劑的量而被控制,川以制作化合 物IV
<formula>see original document page 25</formula>及化合物V<formula>see original document page 26</formula>等.
述化合物IV及V屮的
n為0-4;
M為鈧、釔、鋅、鎘、錫、鉛、銻、鉍、硒
Xn為Cl-、 Br - 、 I-、 C03 (-2)、 0H-、 RCOO-- (R = 烷基鏈Cl至C24 )、 ArCOO- ( Ai^芳香族五或六元環)、 io二酮基(乙酰丙酮基、苯甲酰丙酮基)。
本發明另一實施例的 BR3 1 ,化合物II可與硫附反應成為硫縮醛衍生物,化合物VI
<formula>see original document page 26</formula>
此化合物VI亦可作為二芽配位基的螫合物。
如化合物I 、 IV 、 V及VI的單體或寡聚物應于光學膜,足新的為本發明ii佳的實施例。
本發明另一實施例的化合物I 、IV 、V及VI , 可利用熟悉本項技術者已知的化學反應技術,將羰基氣化成 一 保護基的化合物VII
<formula>see original document page 27</formula>
更確切地,本發明可視為涵蓋合成BR31的衍生物 10 的應用,經由BR3 1的羰基或氫氧根的反應,發展出其 它具有二芽配位基的寡聚物。
在本發明的 一 實施例中,金屬化合物(如沒化鋅 或醋酸鋅)是與化合物II的單體混合,使用S i 1 v e v s e n 型的混合機混合,旋轉速率為1 OOrpm (轉/分),溫度 15 為90- 1 2(TC , 真空壓力為10-1 5mm Hg (毫米水銀柱), 達2 4小時期間,以制成含金屬的單體或寡聚物的金厲 錯合物(化合物I 、 1 V-VI ),該化合物與單體樹脂混合 以形成含金屬的光聚合物涂布組合物。該組合物包含1%至40%重量百分比的金屬組成。
本發明的特點之二提供 一 聚合物的制法,該
法包括獲得—-依據本發明的可聚合物的成分,使其
外影^響力充分的作用,使該成分聚合化。
本發明的特點之三亦提供利用本發明的方法
作或可制作一聚合物產叩
本發明的特人、'、1^3,提供光學級的薄膜產im ,
產口 n門包含元素周期表第3族中的鈧和釔、第12族'1'
的
勺錫、鉛、第1 5族中的銻、鉍、
是以表面特定結構的光學膜,如 光板。特定表而結構膜的增亮膜
產品在關國專禾U US4 54 2 449中已被描述。
本發明的聚合物產品口J結合光學裝置或足:光學
15 置的 一 部分組件,該光學裝置如顯示器系統、全像
反光系統。 本》
用,不i
離子通1
20 化狀態。
除/包含金屬的單體及寡聚物的外。本發明其它 的可聚合液態組合物,最好是- 一 聚環氧化物,或更好
本發明結合于組合.物的金屬離于,鼓好是濃
用,不要用于液態光聚.a組合的預聚合物。此種
離子通常是非過渡金屬t在組中早現最禾S定
4
芽
待
中
族
6
1
或
合
資
發
本
及
勿是聚丙烯酸酯或其混合物;然而,熟悉本項技術者知 悉的其它聚合系統亦可用于本發明的單體或寡聚物。 適合的單體或當作適合的寡聚物的單體的樣品包括內烯酸酯、甲基丙烯酸酯、環氧化物、苯乙晞、乙烯單體、甲基苯乙烯及其它乙烯基單體。
可聚合的液體,設好是可聚合的單體及寡聚物的 混合物;選用適當的單體與寡聚物的重量比、寡聚物 分子量的選擇、寡聚物的粘性、寡聚物光學的千凈(透 明)度及折射率。組合物最好是粘性在700-5000cps,可傾倒但具粘性的液體。
可導入電磁波輻射產生聚合作用,最好是紫外線 與本發明組合物的光起始劑作用以產生自由基。光起 始劑通常是組合物的貫量百分比在0 . 1 - 1 0% 。適合的光 起劑的例于,但非限制如鄰位的酮醛(例如包含酮類及醛類的化合物)、2, 2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、氧二苯甲酮、芴酮、二苯甲酮、莰醌、蒽醌、1 -羥基一環 己基苯基酮(例如 IRGACURE 184 來自 Ciba Speciality Chemicals) , 2 --羥基-2 -屮基-1-苯基-卜 內酮例如Darocur1173 (來自 Ciba Specially 20 Chemicals); 2 -甲基--1 - ( 4 -甲硫基苯基)-2--嗎啉-1-內酮 (Chemcure-709來自 Chembridge International Corporation)。
本發明以輻射固化的組成,最好包含(甲基)丙 烯酸酯單體及(甲基)丙烯酸酯的寡聚物。
典型的聚合作用,是由電磁波輻射引發自由基的 聚合開始,它可能牽涉陽離子的聚合。 5
本發明陽離子聚合的系統包括如下組成
a ) 一單體、寡聚物或預備聚合物,能經歷陽離P 聚合作用;通常單體、寡聚物或預備聚合物中具有至少 一 環氧化物或乙烯基乙醚群;
b) —陽離子起始劑,在電波波輻射的照射下能產 生自由基,及
c )本發明包含金屬的寡聚物。
本發明組成的可聚合陽離子的組合物包括環環狀醚(如脂環環氧化群)、環狀硫化物、環狀亞內酯乙烯基醚及其它冇很多lii子的乙烯基化合物及醇與環氧化物的酯化。
具體地,陽離子聚合的化合物的例子,可被應用
的化合物如(a )包括雙酚A型環氧樹脂;雙酚A 環氧丙烯酸酉旨(例如Sartomer的CN124 );溴化的雙酚 A型樹脂;雙酚D型環氧樹脂雙酚F型環氧樹脂(例 20如EPLL0Y 8220 );環氧酚醛化的雙酚A環氧丙烯酸巧H (例如EPLL0Y 7138);間苯二酚環氧樹月旨(例如ERSYS RDGE , Hubron );酚醛環氧樹脂;環氧酚醛丙烯酸酯(例如C N 1 1 2 B 7 0 , Sartomer);鄰甲酚酚醛;三甲基內院縮 水甘油醚;異戊四醇縮水甘袖l醚;1 , 6 -己二醇二縮水 甘油醚;二溴化苯基縮水甘油醚;乙烯基縮水計油醚; 環氧甲基丙烯酸酯(例如Sartomer 379 );脂環族環氧 5 樹脂(例如 U V R — 6 1 1 0 , 6 1 0 5, 6 1 07, 6128, 6000, 6100 and 6216來自Dow)。
陽離子聚合的起始劑的例子,可被應用的化合物如(b )包括三苯基硫鐵鹽(例如六氟砷酸鹽、 六氟銻酸、三氟甲基砷酸)、二芳基碘鐵鹽(例如四 10氟硼酸、六氟化磷酸、六氟銻酸)、茂鐵鹽及偶氮異丁腈(A1BN)。
本發明用于某些較佳實施例的絎成,包括
a ) —陽離子可聚合預備聚合物及- 一 自山基可聚合預備聚合物;
b)—陽離子型起始劑材料;
c ) —與由基刑起始劑材枓。
用于本發明較佳實施例的陽離于光起始劑,在電 磁波輻射的作用或確實受熱時,可使陽離子可聚合預 備聚合物開始聚合作用。
應用本發明特別較佳的陽離子光聚合起始材料,包括日常的碘鏞鹽。
本發明將進 一 步就關于下述非用以限制的例子配合
如下
圖1為一LCD背光模塊;此圖是取自公用范圍的 信息。其中,包括 一 導光片1 、第 一 擴散片2 1、第二
擴散片22 、第 一 棱鏡膜3 1、第 一 棱鏡32 、反射股4及 5—螢光光源5 。可制作具有表而特定結構的第 一 擴散片
21、第二擴散片22、第一棱鏡膜31及第一棱鏡32,
如美國專利 US4542449所揭示的;在本實施例中,是
利用本發明的涂布組合物的制成。
折射率是在攝氏2 5度(除非在不同的狀態)時, io利用 一 阿貝折射儀測量。粘性是在 2 5 。C時,利用一
Brookf ield Programmable DV— II型的粘性測貴器,
NO. 3轉子,轉速100rpm (轉/分)。
使用的組合物及金屬系熟悉本項技術者可由商業 上的資源獲得。例如Sartomer 601 (乙氧化雙酚A 二
丙烯酸酯)是來自 Cray Valley。 BR31是來自一日本 公司 (Daiichi Kogyo Seiyaku Co. Limited, Japan) 獲得。Sartomcr CN124 (雙酚 A環氧丙烯酸酯)是來 自 Cray V a 1 1 e y 。 Darocur1173(2-羥基-2-甲基- 苯基-1 -丙酮)是來自Ciba Specialty Chemical。周
期表第3族中的鈧和釔、第12族中的鋅,鎘,第14
族中的錫、鉛、第1 5族中的銻,鉍,或第16族中的硒的金屬鹽是來自A 1 d r i c h。Lawessons試劑來自Aldrich。 ACM0 (丙烯酰嗎啉)來自 Rahn。 TBBI)A (四 溴雙酚環氧丙烯酸酯)來自AldH ch。
實例1
此配方是由下列組成物于在 一 個褐色防紫外線的 瓶子內,經由加熱至70 °C ,攪動、混合丑到所有問體被溶解。
Sartomer 601 45% wt (重量百分比)
CN 1 242 6% wt
ACMO 7. 5% wt
Darocur 117 36% wt
TBBDA 7.5% wt
Methyl styrene2%wt
化合物I8% wt
將此涂布組合物準備于 一 金屬的印刷模片上,該 片具有 一 深50微米的凹槽結構。然后將一 100微米 PET基桐-(型號T0Y0B0 A4300 )置于組合物上方,且用一滾筒輕輕的施壓使其完全的進入模片凹槽處。然后以UV'燈源(照射強度 46 — 4 7 mW/cm2,波長在3 0 0 - 4 0 0微米,利用國際測光儀測得者),在不動的情況下曝露5秒后,即得 一 透明的具有折射率為1.60的UV固化膜。
實例2
-種涂布組合物被準備,如同例子1 ,是混合1 5
5 克的Sartomer 601 , 25克的CN124, 5克的甲基苯乙 烯,20克的化合物I及5克的Darocurl 173 ,此液態 組合物及固化的聚合膜的折射率分別為1 . 59及1.61。
實例3
io
—種涂布組合物被準備,如同例子 1 ,是混合'1 5
克的Sartomer 601, 25克的C N 1 2 4 , 5克的甲基苯乙 烯,2 0克的化合物II及5克的D a r o c u r 1 1 7 3 ,此液態 組合物及固化的聚合膜的折射率分別為1 . 58及1.62。
15實例4
一種涂布組合物被準備,如同例子i ,是混合'1 5 克的Sartomer 601, 25克的CN124, 5克的屮基苯乙 烯,20克的化合物III及5克的Darocurl 173,此液態 組合物及固化的聚合膜的折射率分別為1 . 5 9及1.64。
20
實例5
一種涂布組合物被準備,如同例子 1 ,是混合4 5
克的Sartomer 601, 25克的CN124, 5克的H(基苯乙 烯,20克的化合物III及5克的Darocur1173, 此液態 組合物及固化的聚合膜的折射率分別為1 . 59及1.62。
如上述說明,本發明足使金厲化合物(如漠化鋅
或醋酸鋅等)'3化合物II的單體混合,以制成含金屬 的單體或寡聚物的金屬錯合物(化合物I 、 I V -V i ),具 有高折射率及高透光率,該化合物與單體樹脂混合以 形成含金屬的光聚合物涂布組合物,進而制作具有特定表面結構的增亮膜、擴散膜等光學膜。
以上所記載,僅為利用本發明技術內容的實施例, 任何熟悉本項技術者運用本發明所為的修飾、變化, 皆屬本發明主張的專利范圍,而不限于實施例所揭示 的內容。
權利要求
1. 一種包含金屬的高分子涂布組合物,其特征在于,包括至少一金屬錯合物,其中該錯合物的金屬離子是以一具有共硫碳基及氫氧基或羧基的二芽配位基的單體或寡聚物二者其中之一螫合而成,其中該金屬是選自元素周期表第3族中的鈧和釔、第12族中的鋅、鎘、第14族中的錫、鉛、第15族中的銻、鉍、或第16族中的硒其中之一的金屬離子。
2 、如權利要求1項所述的包含金屬的高分子涂布 組合物,其特征在于,其中該金屬錯合物是化合物1其中15 n為 0 - 4 ;M為鈧、釔、鋅、鎘、錫、鉛、銻、鉍、;Xn為Cl-、 Br-、 I-、 C03( -- 2)、 OH-、 RC()O-、 ArC()O、二酮基;AF芳香族五或六元環其中的- 種;R::烷基鏈 Cl至C24; 二酮基為乙酰丙酮基或苯甲酰丙酮基其屮 的 一 種。
3 、如權利要求1項所述的包含金厲的高分于涂布 組合物,其特征在于,其中該金屬錯合物是化合物IV<formula>formula see original document page 3</formula>其中n為0-4;M為鈧、釔、鋅、鎘、錫、鉛、銻、鉍、硒;Xn為C 1 - 、 Br- 、 ] - 、 C03 ( - 2 ) 、 0H - 、 RC()0- 、 A rCO0 、 io二酮基;Ar^芳香族五或六元環其中的 一 種;R = &基鏈 C 1至C24 ; 二酮基為乙酰丙酮基或苯甲酰丙酮基〗l:屮的 一 種。
4 、如權利要求1項所述的包含金屬的高分子涂布 組合物,其特征在于,其中該金屬錯合物是化合物V <formula>formula see original document page 4</formula>其中n為0 - 4 ;M為鈧、釔、鋅、鎘、錫、鉛、銻、鉍、硒;Xn為Cl-、 Br-、 I-、 C()3( --2 )、 0H-、 RCOO-、 ArCOO 、 二酮基;Af芳香族五或六元環其中的 一 種;R:=^基鏈Cl至 C2 4;的 一 種。酮基為乙酰丙酮基或苯甲基其
5、如要求l項所述的包含金屬的高分f涂布10組合物,其特征在于,其中該金屬錯合物是化合<formula>formula see original document page 4</formula>其中0_4 ;M為鈧、釔、鋅、鎘、錫、鉛、銻、鉍、硒Xn為Cl-、 Br - 、 I - 、 C03( -2)、 OH-、 RCOO - 、 ArCOO - 、 二酮基;Ar二芳香族五或六元環其中的 一 種R = &站鏈 C 1至C24 ; 二酮基為乙酰丙,基或苯Ef!酰丙酮基其屮 的 一 種。
6 、如權利要求1項所述的包含金屬的高分于涂布 組合物,其特征在于,其屮該金屬錯合物是化合物V 1 1<formula>formula see original document page 5</formula>其中n為0-4;10 M為鈧、釔、鋅、鎘、錫、鉛、銻、鉍、硒Xn為Cl-、 Br-、 ] - 、 C0 3( - 2)、 0H-、 RC()O-、 ArCOO-、二酮基;AF芳香族五或六元環其中的 一 種;R::貌基鏈Cl至C24; 二酮基為乙酰丙酮基或苯屮酰丙酮站K屮的 一 種。
7 、如權利要求1至6項屮任 一 項所述的包含金)萬的高分子涂布組合物,其特征在于,其中該組合物包 含1%至40%重量百分比的金屬組成。
8 、如權利要求i辛6項屮任 一 項所述的包含金 的高分子涂布組合物,其特征在于,其中該單體或寡 聚物包括液態的丙烯酸酯單體或寡聚合物。
9 、如權利要求7項所述的包含金屬的高分亍涂布組合物,其特征在于,其中該單體或寡聚物包括液態 的丙烯酸酯單體或寡聚合物。
10 、如權利要求1至6項中任 一 項所述的包含金屬的高分子涂布組合物,其特征在于,其中該單體或 寡聚物包括液態的環爭l乙烷單體或寡聚合物。
11、 如權利要求7項所述的包含金嵐的高分子涂 io布組合物,其特征在于,其中該單體或寡聚物包括液態的環氧乙烷單體或寡聚合物。
12、 如權利要求1至6項中任 一 項所述的包含金 屬的高分子涂布組合物,其特征在于,進- 歩包括 溶解的起始劑。
13、如權利要求7項所述的包含金屬的高分子涂布組合物,其特征在丁-,進 一 步包括 一 溶解的起始劑。
14 、如權利要求8項所述的包含金M的高分f涂 布組合物,其特征在亍,進 一 步包括- 溶解的起始劑。
15、如權利要求9項所述的包含金屬的高分于涂布 20組合物,其特征在于,進 步包括 一 溶解的起始劑。
16、如權利要求1 0項所述的包含金屬的高分子涂布 組合物,其特征在于,進 一 步包括 一 溶解的起始劑。
17 、如權利要求1 1項所述的包含金屬的高分于涂 布組合物,其特征在于,進 一 步包括 一 溶解的起始劑。
18、如權利要求1 2項所述的包含金屬的高分亍涂布 組合物,其特征在于,其中該起始劑是--自由基刑的起始劑或 一 陽離子型的起始劑其中的 一 種。
19、如權利要求1 3項所述的包含金屬的高分子涂 布組合物,其特征在于,其中該起始劑是 一 自由基型 的起始劑或 一 陽離子型的起始劑其中的 一 種。
20 、如權利要求14項所述的包含金M的高分子凃 1布布組合物,其特征在于,其屮該起始劑是一自由基型的起始劑或 一 陽離子型的起始劑其中的 一 種。
21、如權利要求15項所述的包含金屬的高分子涂 布組合物,其特征在于,其中該起始劑是一 自由基型的起始劑或 一 陽離子型的起始劑其屮的 一 種。
22 、如權利要求16項所述的包含金嵐的高分于涂布組合物,其特征在于,其中該起始劑是一 自由基型 的起始劑或 一 陽離子型的起始劑其中的 - 種。
23、如權利要求1 7項所述的包含金屈的高分于涂布組合物,其特征在于,其中該起始劑是一自由基型 的起始劑或 一 陽離子型的起始劑其中的一種。
24 、 一種制作 一 聚合物的方法,其特征在于,其步驟包括獲得 一 如權利要求1至6項屮任項所述的包含金屬的咼分子涂布組合物,使其受到--電磁波射的作用時,使該組八 門物形成聚合休。
25、.一種制作--聚合物的方法,其特征在于,步驟包括獲得—一如權利要求7項所述的包含金屬的分子涂布組合糸其受到 一 電磁波輻射的作川時,該組合物形成聚合體。
26 、---禾中制作-----聚合物步驟包括獲得一如權利要求分子涂布組,使苴 7 受到使該組合秒j形成聚八 1 1體
27、- -種制作----麥入賴 沐 rn 寸《步驟包括獲得一如權利要求分子涂布組合物,使其受至i使該組合物形成聚合體。
28、一步緩聚包括獲分;p涂布組使t《組合物-電磁波輻射的作川時,I方法,其特征在于,其 項所述的包含金嵐的高 -電磁波輻射的作川吋,-種制作 一 聚合物的方法,其特征在于,w印要求1 o項所述的包含金屬的卨其受到--j電磁波輻射的作用時,
29、—-歩驟包括獲分子涂布組使該組合物成聚合體制作 聚口 儀々i」i:在-丁.,一如權利要求1 1項所述的包含金m的II:其受至u電磁波輻射的作川時
30、種制作—-聚合物的方法,其特征在于具:少驟包括獲得-』如權利要求1 2項所述的包含金腐的一i' n了j分 使子 該涂 組布組 合物人 門 形物, 成聚使 口貝: 體受到電磁波私A射的作'
31、人 —一種制作—一聚合物的方法其特征在于步驟包括獲得一如權利要求1 3項所述的包令傘嵐的問分子 該組布組門 形成聚使 口受到電磁波車W射的作川卩、j,
32、 ——種制作聚合物的方法,特征在于,其步驟包括獲得一如權利要.求14項所述的包含屬的冋分子涂布組合物,使其受到 一 電磁波輻射的作川時, 使該組合物形成聚合休。
33 、 一種制作 一 聚合物的方法,其特征在于,W 步驟包括獲得 一 如權利要求1 5項所述的包含金屬的高 分子涂布組合物,使其受到 一 電磁波輻射的作川時, 使該組合物形成聚合體。
34 、 一種制作 一 聚合物的方法,其特征在于,lt 步驟包括獲得 一 如權利要求16項所述的包含金屬的" 分子涂布組合物,使其受到 一 電磁波輻射的作川時, 使該組合物形成聚合體。
35 、 種制作 一 聚合物的方法,其特征在j二 , K 歩驟包括獲得 一 如權利要求1 7項所述的包含金嵐的^ 分子涂布組合物,使1受到電磁波輻射的作川時使該組合物形成聚口體。
36、種制作一聚合物的方法,特征在丁-歩驟包括獲得—-如權利要求1 8項所述的包含厲的5分子涂布組物使K-受到—■.電磁波輻射的作川時亍吏該組合,形成聚體
37、一種制作—-一聚合物的方法其特征在,歩驟包括獲得一--如權利要求1 9項所述的包金嵐的分子涂布組物使其受到——-■-電磁波輻射的作川吋10使該組合秒J形成聚日體
38、一種制作聚合物的方法特征在于步驟包括獲得——-如權利要求2 0項所述的包含個的分了.涂布組人 門物,使受到i乜磁波船射的作川時使該組合秒J形成聚口體
39、—^■種制作聚合物的方法其特征在于,步驟包括獲得一如權利要求2 1項所述的包含金嵐的分子涂布組人物使:ti: z 、受到電磁波輸射的作川時使該組合物形成聚合體
40、種制作畫一聚合物的方法其特征在廠20步驟包括獲得 一 如權利要求22項所述的包含金屬 分子涂布組合物,使^受到- 電磁波輻射的作川 使該組合物形成聚合休。II:—口-問時,10
41、一種制作- 一 聚合物的方法,其特祉在于,其歩驟包括獲得-一 如權利要求23項所述的包含金嵐的高分子涂布組合物,使其受到 一 電磁波輻射的作j jj時, 使該組合物形成聚合體。
42 、如權利要求24項所述的制作 聚合物的方法,其特征在于,其中該fli磁波輻射是紫外線。
43、 一種光學股,具有大于88%的透光性,其特征 在于,包括 一 金屬錯合物,其中該金屬是選纟j元素周 期表第3族中的鈧和釔、第1 2族中的鋅、鎘、第H10族中的錫、鉛、第1 5族屮的銻、鉍、或第1 6族屮的 硒其中之 一 的金屬離子。
44、—.種且 7 、有面特定結構的形態增膜,z 特征在于,包括如權利要求1至6項^:卜任項所述的包含金屬的高-分子涂布組物所制成。、—_種z 、有表面特定結構的形態的擴散脫,
45、特征在于,包括如權利要求1至6項中仟—-項所述的包含金屬的高分子涂布組口物所制成。
46、-.種有表面特定結構的形態的全像脫,II: z 、特征在于,包括如權利要求1至6項中任—項所述的 包含金屬的咼分子涂布組合物所制成。
47、—一種且有表面特定結構的形態的反光股,特征在于,包括如權利要求1至6項中任—-項所述的 包含金屬的高分子涂布組合物所制成
48 、 一種光學裝置,其特征在于,包括如權利要求4 3項所述的光學膜所制成。
49 、 一種光學裝置,其特征在于,包括如權利嬰 求44項所述的具有表面特定結構的形態的增亮脫所制成。求
50、 一種光學裝置 4 5項所述的具有表I,其特征在于 特定結構的形成。,包括如權利嬰 態的擴散膜所制
51、 一種光學裝置,其特征在于,包括如權利些求46項所述的具有表面特定結構的形態的增亮脫所制 成。
52、 一種光學裝置,其特征在于,包括如權利嬰 求47項所述的具有表面特定結構的形態的反光殿所制 成。
全文摘要
一種包含金屬的高分子涂布組合物,包括至少一化合物I其中n為0-4;M為鈧、釔、鋅、鎘、錫、鉛、銻、鉍、硒;Xn為Cl-、Br-、I-、CO3(-2)、OH-、RCOO-(R=烷基鏈C1至C24)、ArCOO-(Ar=芳香族五或六元環)、二酮基(乙酰丙酮基、苯甲酰丙酮基);該涂布組合物產生透光率達88%-98%的高透光率,及折射率達1.55-1.70的高折射率光學膜。
文檔編號C09D7/12GK101205429SQ20061016783
公開日2008年6月25日 申請日期2006年12月18日 優先權日2006年12月18日
發明者楊政憲, 郭維斌 申請人:光耀科技股份有限公司