漿料涂布裝置及漿料涂布方法

專利名稱：漿料涂布裝置及漿料涂布方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及對電子元器件等被涂布體涂布粘結(jié)劑、導(dǎo)電性粘結(jié)劑、外部電極及焊劑等漿料的漿料涂布裝置及漿料涂布方法。
背景技術(shù)：
作為上述的漿料涂布裝置，已知有日本專利特開平10-41339號公報(bào)揭示的裝置。這如圖8所示，包括使涂布區(qū)A的圓周速度V2為一定并使?jié){料3沿一定方向循環(huán)移動的涂布體(輥)2，貯存漿料3并使該漿料與涂布體2接觸的貯存槽1，使得涂布區(qū)A中涂布體2上的漿料厚度即層厚為一定而調(diào)整涂布體上漿料液厚的刮漿板4，以及在被涂布體6橫穿涂布區(qū)A時(shí)為了使得被涂布體的移動速度V與涂布體的圓周速度V2相等而使被涂布體沿水平方向移動的移動頭5。
另外，以往還知道例如專利第3131156號公報(bào)(日本專利特開平6-296929號公報(bào))揭示的裝置。這如圖9所示，在旋轉(zhuǎn)的薄圓板狀涂布盤7的外周附著規(guī)定量的漿料3，一面使作為被涂布體的片狀元器件C沿前述涂布盤7的切線方向進(jìn)行直線移動，一面將附著在前述涂布盤7的外周的漿料轉(zhuǎn)印在片狀元器件C的側(cè)面，同時(shí)能夠通過控制該轉(zhuǎn)印時(shí)的前述涂布盤7外周的圓周速度與片狀元器件C的移動速度的差，適當(dāng)改變涂布在該片狀電子元器件上的漿料e的形狀。
另外，作為上述漿料涂布裝置，還已知有如圖24(a)及(b)所示的結(jié)構(gòu)的裝置，它將寬度相當(dāng)于涂布寬度的涂布輥103浸漬在貯存漿料2的漿料槽101中，并使其旋轉(zhuǎn)，通過這樣在涂布輥103的外周形成所希望厚度的漿料層102，使被涂布體106與該漿料層102a接觸，這樣轉(zhuǎn)印涂布漿料。具體來說，作為對電子元器件等涂布對象物的一面涂布漿料的漿料涂布裝置，有日本專利特開平10-41339號公報(bào)揭示的裝置。
該漿料涂布裝置，包括對外周面供給漿料并單方向旋轉(zhuǎn)的輥?zhàn)樱约皩⑼坎紝ο笪锼偷皆撦佔(zhàn)由戏剿枰奈恢貌⑻幱谄湟幻娉蜉佔(zhàn)油庵苊娴臓顟B(tài)的移送機(jī)構(gòu)，通過輥?zhàn)釉谕坎紝ο笪锏囊幻嫱坎紳{料。在該漿料涂布裝置的情況下，根據(jù)漿料對輥?zhàn)油庵苊娴母街穸?，決定漿料對涂布對象物的一面的涂布厚度。
再有，在該漿料涂布裝置中，對單方向旋轉(zhuǎn)的輥?zhàn)拥耐庵苊婀┙o漿料。將涂布對象物送到輥?zhàn)由戏剿枰奈恢?，并處于其一面朝向輥?zhàn)油庵苊娴臓顟B(tài)。這樣，通過輥?zhàn)訉ν坎紝ο笪锿坎紳{料。
該漿料涂布裝置具體來說是圖53所示的裝置，具有圓筒狀的輥?zhàn)?12，貯存漿料的漿料貯存槽419，將涂布對象物417移動并使其與輥筒上的漿料層414接觸的移動機(jī)構(gòu)改416，以及將輥412外周部附著的漿料調(diào)整為一定厚度的刮漿板415。
在該漿料涂布裝置411中，若使輥?zhàn)?12旋轉(zhuǎn)，則貯存在漿料貯存槽419內(nèi)的漿料附著在輥?zhàn)?12的外周部。附著在輥?zhàn)油庵懿康臐{料，利用刮漿板415調(diào)整為規(guī)定的厚度，形成漿料層414。另一方面，移動機(jī)構(gòu)416將吸附的涂布對象物417在輥?zhàn)?12的上方水平移動，其高度是使其一部分浸漬在漿料層414中，在涂布對象物417的下表面通過漿料層中時(shí)，漿料就涂布在涂布對象物417上。
再有，在其它的以往例子的漿料涂布裝置中，還有日本專利特開平8-19752號公報(bào)揭示的裝置。在該漿料涂布裝置中，通過水平的圓盤狀底座對涂布對象物涂布漿料。漿料沿底座上的圓孤狀路徑供給，達(dá)到所需要的厚度。涂布對象物按壓底座上的漿料。
這樣涂布的漿料在片狀電子元器件中，是涂布在上面?zhèn)炔炕蛳旅鎮(zhèn)炔浚皞?cè)部及后側(cè)部的漿料，希望對其前側(cè)部及后側(cè)部均勻涂布。即例如漿料是導(dǎo)電性粘結(jié)劑的情況，在將其被涂布后的被涂布體即電子元器件安裝在電路基板上時(shí)，使元器件的電極對于基板的布線在前后均勻粘結(jié)，通過這樣來抑制安裝不良情況的發(fā)生。
上述的以往技術(shù)中，前者的涂布裝置的情況下，由于輥?zhàn)拥韧坎俭w具有圓孤狀的外周面，因此在與輥?zhàn)有D(zhuǎn)的同時(shí)漿料層移動的過程中，在利用移動頭的水平移動對被涂布體進(jìn)行漿料涂布時(shí)，被涂布體在涂布區(qū)(漿料中)相對于漿料表面具有垂直方向及水平方面的兩價(jià)目方向的移動分量。而且，其中利用水平方向的移動分量，被涂布體刮去漿料。另外，涂布體的漿料層表面即使以與被涂布體的移動速度相等的速度移動，該水平方向的移動分量(水平移動量)在被涂布體的前側(cè)部與后面?zhèn)葐柡妹癞a(chǎn)生差異。因而，由于該水平移動量的差，使得在被涂布體的前側(cè)部與后側(cè)部的刮去量產(chǎn)生差異，結(jié)果涂布量產(chǎn)生差異。
下面根據(jù)圖5說明其理由，在該圖5中，將與輥?zhàn)有D(zhuǎn)的同時(shí)移動的漿料層表面的任意一點(diǎn)作為假設(shè)基準(zhǔn)點(diǎn)0，圖5表示的是以它為中心對被涂布體的前進(jìn)方向從側(cè)面來看的坐標(biāo)系的直角坐標(biāo)。這里，對于漿料層表面，將該假設(shè)基準(zhǔn)點(diǎn)0作為切點(diǎn)的切線作為橫軸，將通過假設(shè)基準(zhǔn)點(diǎn)0并與該切線垂直的方向(相對于漿料層表面的法線方向)作為縱軸。該橫軸將被涂布體的前進(jìn)方向作為正，縱軸將從漿料層表面離開的方向作為正。另外，設(shè)被涂布體的長方體。然后，圖5將長方體的被涂布體對漿料層的浸漬過程分別用被涂布體的前面下端位置及后面下端位置相對于前述假設(shè)基準(zhǔn)點(diǎn)0的相對移動軌跡a2及b2表示。即該圖5所示的移動軌跡a2及b2表示，將實(shí)際上與漿料層表面相同以一定速度移動的假設(shè)基準(zhǔn)點(diǎn)0固定在坐標(biāo)中心來看時(shí)的該假設(shè)基準(zhǔn)點(diǎn)0與前述前面下端位置及后面下端位置的相對位置關(guān)系。這里，在被涂布體浸漬漿料層最多時(shí)，設(shè)定假設(shè)基準(zhǔn)點(diǎn)0通過該被涂布體前進(jìn)方向上的前后寬度的中心位置，同時(shí)通過前述法線上。而且，漿料層表面的移動速度P的沿水平方向的速度分量設(shè)定為與圓孤狀移動路徑中處于最上面位置的被涂布體水平方向的移動速度一致。
在這種情況下，在假設(shè)基準(zhǔn)點(diǎn)0到達(dá)最上面位置的前后，被涂布體的移動速度比漿料層表面的移動速度分量中沿水平方向的速度分量要高。由于這一原因，被涂布體的前側(cè)部在從它浸漬開始到浸漬結(jié)束的期間，相對來說比漿料層的移動速度要快，因此被涂布體的前側(cè)部相對于漿料層來看的更向前面水平方向移動的量L1，與被涂布體的后側(cè)部相對于漿料層來看的更向后面水平方向移動的量L2要大。
因而，在該以往技術(shù)的情況下，在被涂布體的前側(cè)部的漿料擠出量增大，另一方面在被涂布體的后側(cè)部的漿料擠出量反的減小。所以，被涂布體的前側(cè)部的漿料涂布量大于后側(cè)部，不適合想要使前側(cè)部與后側(cè)部的漿料涂布量均勻的要求。因此，存在的問題是，為了在被涂布體的前側(cè)部與后側(cè)部均勻涂布漿料，必須將涂布了一次的被涂布體的前后方向反過來，再進(jìn)行一次涂布作業(yè)，作業(yè)效率低。
另外，在圖9所示的涂布裝置的情況下，是以在被涂布體C的后側(cè)部特別集中附著漿料e為目的，使涂布漿料的涂布盤7的漿料表面速度V2大于被涂布體的移動速度V1，不是想要對被涂布體C的前側(cè)部及后側(cè)部均勻涂布漿料的裝置。
另外，在別的以往的漿料涂布裝置中，由于使用寬度相當(dāng)于涂布寬度的涂布輥103，因此在改變涂布寬度時(shí)，必須進(jìn)行包含拆除與旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)的聯(lián)接或軸承部解體等大規(guī)模的涂布輥更換作業(yè)，進(jìn)行該更換作業(yè)需要花費(fèi)相當(dāng)多的勞動力及時(shí)間。另外，特別是在涂布寬度很小時(shí)存在的問題是，如圖24(b)所示，涂布輥103變薄盤狀，涂布輥本身的剛性降低，涂布輥103容易產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)振動及變形，涂布位置及涂布尺寸差異。另外，在采用這樣的盤狀涂布輥3的情況下，由于涂布輥本身的剛性低，因此很難用刮漿板等調(diào)整輥?zhàn)油庵苄纬傻臐{料層的厚度，所以采用的方式是使涂布輥103浸漬在漿料貯存槽中旋轉(zhuǎn)，按照輥?zhàn)油庵懿扛街男螤?，照原樣對被涂布體轉(zhuǎn)印涂布。但是，如圖24(b)中的放大圖所示，輥?zhàn)油庵懿扛街臐{料層102a其厚度及側(cè)面的涂布寬度形狀不穩(wěn)定，對被涂布體轉(zhuǎn)印涂布的漿料尺寸容易產(chǎn)生差異，很難進(jìn)行高精度的涂布。
另外，在以往技術(shù)中，例如已知有日本專利特開2001-53086號公報(bào)所揭示的裝置，它是對向上方互相擴(kuò)展而傾斜的一對固定傾斜面分別涂布漿料，在使被涂布體位于該一對傾斜面上方后，使該被涂布體下降，使該被涂布體的兩端部的下表面與側(cè)面形成的邊緣部分別與對應(yīng)的傾斜面接觸，通過這樣對涂布體的兩端部的下表面及側(cè)面涂布漿料。
但是，由于在該以往結(jié)構(gòu)的情況下，為了對被涂布體涂布漿料，必須進(jìn)行使保持該被涂布體并移動的移動頭的水平移動及其停止和移動頭的上下移動等操作，因此存在問題是，不能夠聲速進(jìn)行漿料涂布作業(yè)，生產(chǎn)效率低。
另外，在涂布對象物中，有的不僅其一面要求涂布，對另一面也要求涂布。例如，在壓電振動元器件中，為了抑制其不需要的振動，必須牢固地固定在基板上。因此，對壓電振動元器件必須涂布大量的粘結(jié)劑。在這種情況下，在上述漿料涂布裝置中，必須增加附著在輥外周面的漿料量，使其附著的厚度加厚。
在這種情況下，若對輥?zhàn)油庵苊娴臐{料附著量加厚，則隨著輥?zhàn)拥男D(zhuǎn)，漿料的離心力增加，漿料有可能脫離輥?zhàn)油庵苊嫦蛑車w濺，可以考慮使輥?zhàn)拥霓D(zhuǎn)速降低。
但是，右使輥?zhàn)拥霓D(zhuǎn)速降低，則即使能防止?jié){料飛濺，但漿料的涂布速度變慢，作業(yè)效率下降。另外，漿料與空氣接觸的時(shí)間延長，使?jié){料的劣化提前。這樣，若采用上述漿料涂布裝置，很難不降低輥?zhàn)愚D(zhuǎn)速的情況下，增加漿料對輥外周面的附著厚度。
另外，日本專利特開平9-225369號公報(bào)揭示了利用輥?zhàn)訉钔坎紝ο笪锿坎紳{料的裝置。在該漿料涂布裝置中，如圖39所示，在輥221的外周面沿軸向平行形成槽寬狹窄的許多槽222。利用這許多槽，可以增加附著保持在輥?zhàn)?21外周面的漿料量。
但是，在這樣的結(jié)構(gòu)中，即使能夠增加輥?zhàn)油庵苊娴臐{料保持量，但也不能夠使得對于輥?zhàn)油庵苊娴臐{料附著厚度達(dá)到足夠的厚度，在對片狀或塊狀的涂布對象涂布漿料的情況下，在漿料涂布時(shí)，涂布對象物被輥?zhàn)油庵艿陌纪沟耐怀霾繐踝?，不能將涂布對象物的漿料涂布側(cè)部深入到側(cè)面，浸漬在漿料中。
另外，在利用上述日本專利特開平10-41339號公報(bào)的漿料涂布裝置的情況下，由于附著在輥?zhàn)油庵苊娴臐{料中，外周面的哪一個(gè)位置的漿料在涂布位置涂布在涂布對象物上，對于這一點(diǎn)是沒有規(guī)律性的，因此取決于輥?zhàn)油庵芏系奈恢茫霈F(xiàn)有的漿料到向涂布對象物進(jìn)行涂布為止需要較長時(shí)間。
另外，附著在輥?zhàn)油庵苊娴臐{料中，未涂布在涂布對象物上的漿料雖再一次通過漿料供料部，但一般附著在輥?zhàn)油庵苊娴臐{料，即使通過漿料供料部，也不能與其它漿料充分混合。
因而，很多情況下在輥?zhàn)油庵苊骈L時(shí)間附著漿料，該漿料表層與外氣接觸，容易引起粘度變化。特別是高粘度漿料，難以與漿料供料部的漿料混合的傾向更為明顯，將更快地引起粘度變化。若漿料粘度變化，則對涂布對象物的漿料涂布量產(chǎn)生大小變化，因此存在的問題是，漿料很難長時(shí)間連續(xù)使用。
再有，在上述日本專利特開平8-19752號公報(bào)的漿料涂布裝置中，設(shè)置將與涂布對象物接觸結(jié)束后的漿料從底座刮去分成兩邊的括板。在該刮漿板的后方，漿料相互混合進(jìn)行自攪拌。因此，由于漿料干燥而導(dǎo)致的粘度上升能夠降低至較低程度。
但是，前述括板至少前端部由橡膠那樣的彈性體形成，該前端部產(chǎn)生摩損，基摩損粉末將混入漿料，使?jié){料質(zhì)量下降。另外，由于漿料附著面與括板的磨擦墊，而促使?jié){料劣化及硬化，漿料壽命將縮短，另外存在問題是，必須頻繁將前前端摩損的括板進(jìn)行位置調(diào)整或更換，維護(hù)很費(fèi)事等。
再有，在圖53所示的以往的漿料涂布裝置411中，若為了提高漿料涂布速度，而提高輥412的轉(zhuǎn)速，則存在的問題是，在利用刮漿板415調(diào)整漿料膜厚時(shí)，由于括析板415與漿料的間產(chǎn)生的摩擦墊，使得漿料溫度上升。若這樣，則漿料的粘度下降，涂布量不穩(wěn)定。另外，例如漿料是墊硬化性樹脂時(shí)，則若溫度持續(xù)上升，達(dá)到硬化開始溫度，則漿料將硬化，有可能漿料不能夠涂布。
本發(fā)明是著眼于這樣的實(shí)際情況，其目的在于提供能夠以簡單的作業(yè)分別對被涂布體的前側(cè)部及后側(cè)部均勻涂布漿料的漿料涂布裝置及漿料涂布方法。
另外，本發(fā)明的目的還在于提供能夠進(jìn)行高精度涂布，同時(shí)能夠簡單且迅速進(jìn)行涂布寬度改變，而且能夠力圖提高生產(chǎn)效率的漿料涂布裝置。
再有，本發(fā)明的目的還在于提供能夠防止?jié){料從輥?zhàn)语w濺，對涂布對象物涂布大量漿料的漿料涂布裝置。
再有，本發(fā)明是想要能夠長時(shí)間連續(xù)使用漿料，而且解決上述各種問題中的至少一個(gè)問題。
再有，本發(fā)明的目的還在于提供即使使輥?zhàn)痈咚傩D(zhuǎn)時(shí)也能夠抑制漿料溫度上升，維持漿料有一定粘度而且對涂布對象物進(jìn)行長時(shí)間穩(wěn)定的漿料涂布的漿料涂布裝置。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明為了達(dá)到上述目的，包括下述構(gòu)成。
即本發(fā)明有關(guān)的發(fā)明的漿料涂布裝置，在基體表面形成一定層厚的漿料層，將所述漿料層與基體一起移動的路徑成為側(cè)視的圓孤狀路徑，被涂布體沿所述漿料層移動的所述圓孤狀路徑的切線方向移動的過程中，借助于所述被涂布體對所述漿料層進(jìn)入到一定深度，對涂布體進(jìn)行漿料涂布，在所述漿料涂布裝置中具有設(shè)定所述被涂布體的移動速度與所述漿料層的移動速度的速度差，使得在對所述被涂布體涂附漿料的漿料涂布時(shí)，對所述被涂布體的前側(cè)部及后側(cè)部均勻涂布漿料。
根據(jù)本發(fā)明有關(guān)的漿料涂布裝置，由于通過設(shè)定被涂布體在漿料涂布時(shí)的移動速度與漿料層在漿料涂布時(shí)的移動速度的速度差，使得對涂布體的前側(cè)部及后側(cè)部均勻涂布漿料，因此能夠通過僅僅單純附加該速度差這樣的簡單的速度控制，進(jìn)行所希望的理想的漿料涂布。
再有，最好所述圓孤狀路徑利用圓柱形輥?zhàn)拥耐庵苊嬖O(shè)定，所述漿料層涂布在所述圓孤狀路徑的表面，同時(shí)具有對所述圓孤狀路徑的表面供給漿料的供料部及使所述圓孤狀路徑表面漿料層的層厚為一定的層厚調(diào)整部。在這種情況下，由于漿料層移動的圓孤狀路徑利用圓柱形輥?zhàn)拥耐庵苊嬖O(shè)定，在漿料層沿該圓孤狀路徑移動時(shí)，設(shè)定該漿料層的移動速度與被涂布體的移動速度的速度差，使涂布體的前側(cè)部及后側(cè)部均勻涂布漿料，因此能夠通過僅僅單純附加該速度差這樣的簡單的速度控制，進(jìn)行所希望的理想的漿料涂布。
再有，最好所述設(shè)定裝置根據(jù)對所述被涂布體涂布漿料的位置處的從所述圓孤狀路徑的圓孤中心至所述漿料層表面的距離，所述被涂布體向所述漿料層中的浸漬深度，以及所述被涂布體的外形尺寸，設(shè)定漿料涂布時(shí)的所述漿料層的移動速度與所述被涂布體的移動速度的速度差。在這種情況下，由于漿料涂布時(shí)的漿料層圓孤狀路徑的移動速度與被涂布體移動速度的速度差，能夠利用從圓孤狀路徑的圓孤中心到漿料層表面的距離，被涂布體向漿料層中的浸漬深度及被涂布體的外形尺寸的參數(shù)求出，能夠簡單地設(shè)定，因此即使各種條件改變，也能夠僅僅通過計(jì)算而簡單求出所述速度差。
另外，最好所述基體由旋轉(zhuǎn)驅(qū)動的圓柱形輥?zhàn)訕?gòu)成，同時(shí)具有對所述輥?zhàn)颖砻婀┙o漿料的供料部及使所述輥?zhàn)颖砻娴臐{料層的層厚為一定的層厚調(diào)整部。在這種情況下，在使輥表面涂布的漿料層隨輥旋轉(zhuǎn)而旋轉(zhuǎn)移動的狀態(tài)下，使被涂布體相對于該旋轉(zhuǎn)移動的漿料層沿其切線方向通過移動時(shí)，將輥表面的漿料層的漿料對被涂布體進(jìn)行涂布。
另外，最好所述設(shè)定裝置根據(jù)對所述被涂豈有此理體涂布漿料的位置處的從所述輥?zhàn)拥闹行闹了鰸{料層表面的距離，所述被涂布體向所述漿料層中的浸漬深度，以及所述被涂布體的外形尺寸，設(shè)定漿料涂布時(shí)的所述漿料層的移動速度與的述被涂布體的移動速度的速度差。在這種情況下，由于漿料涂布時(shí)的漿料層圓孤狀路徑的移動速度與被涂布體的移動速度的速度差能夠利用從輥?zhàn)由现翝{料層表面的距離，被涂布體向漿料層中的浸漬深度及被涂布體的外形尺寸的參數(shù)求出，能夠簡單地設(shè)定，因此即使各種條件改變，也能夠僅僅通過計(jì)算而簡單求出所述速度差。
另外，最好在漿料涂布時(shí)，所述設(shè)定裝置將所述漿料層的移動速度設(shè)定為大于所述被涂布體移動速度。在這種情況下，通過將漿料層的圓孤狀路徑的移動速度設(shè)定為大于所述被涂布體的移動速度，能夠使被涂布體的前面部與后面部的涂布量均勻。
另外，最好所述設(shè)定裝置設(shè)定的述速度差使得在所述被涂布裝置的移動方向的所述前側(cè)部與所述后側(cè)部浸漬在所述漿料層中時(shí)，在分別對所述漿料層浸漬的移動軌跡中，其浸漬開始位置及浸漬結(jié)束位置一致。在這種情況下，在被涂布體的前側(cè)部及后側(cè)部浸漬在漿料層狀態(tài)下的前后分別的移動量相同，各自表面部的漿料涂布量相等。
本發(fā)明有關(guān)的漿料涂布方法，在基體表面形成一定層厚的漿料層，將所述漿料層與基體一起移動的路徑成為側(cè)視的圓孤狀路徑，被涂布體沿所述漿料層移動的所述圓孤狀路徑的切線方向移動的過程中，借助于所述被涂布體對所述漿料層進(jìn)入到一定深度，對被涂布體進(jìn)行漿料涂布，在所述漿料涂布方法中，設(shè)定所述被涂布體的漿料涂布時(shí)的移動速度與所述漿料層在漿料涂布時(shí)的移動速度的速度差，使得對所述被涂布體的前側(cè)部與后側(cè)部均勻涂布漿料，這樣對所述被涂布體涂布漿料。
根據(jù)本發(fā)明有關(guān)的漿料涂布方法，由于通過設(shè)定被涂布體在漿料涂布時(shí)的移動速度與漿料層在漿料涂布時(shí)移動速度的速度差，使得對涂布體的前側(cè)部及后側(cè)部均勻涂布漿料，因此能夠通過僅僅單純附加該速度差這樣的簡單的速度控制，進(jìn)行所希望的理想的漿料涂布。
即上述其它發(fā)明的漿料涂布裝置，包括對被涂布體轉(zhuǎn)印涂布漿料的涂布輥，對涂布輥的外周部供給漿料的裝置，刮去供給輥?zhàn)油庵懿康臐{料的多余部而在涂布輥的外周形成規(guī)定截面的形狀的漿料層的漿料層形成構(gòu)件，設(shè)定所述漿料層形成構(gòu)件的形狀，使得漿料層形成寬度小于涂布輥的軸心方向?qū)挾鹊臐{料層，所述被涂布體利用能夠移動吸附頭保持，同時(shí)所述吸附頭在旋轉(zhuǎn)所所述涂布輥上移動時(shí)，將所述被涂布體浸漬在所述漿料層中，對所述被涂布體涂布漿料，所述漿料層形成構(gòu)件由前端部具有凹入部的固定刮漿板構(gòu)成。
根據(jù)該結(jié)構(gòu)，利用漿料層形成構(gòu)件刮去供給涂布輥外周部的漿料的多余部，這樣能夠在涂布輥的外周形成寬度小于涂布輥的軸心方向?qū)挾鹊臐{料層，通過使被涂布體與該漿料層接觸，能夠以所希望的寬度轉(zhuǎn)印涂布漿料。
在這種情況下，由于涂面輥本身的寬度不受涂布寬度的限制，因此即使在進(jìn)行小寬度涂布時(shí)，也能夠使用剛性強(qiáng)，寬度寬的涂布輥，不產(chǎn)生涂布輥旋轉(zhuǎn)振動或變形等問題。
另外，由于涂布寬度是由漿料層形成構(gòu)件的形狀決定的，因此為了改變涂布寬度，只要僅僅更換漿料層形成構(gòu)件即可，不需要更換涂布輥。
再有，由于被涂布體在旋轉(zhuǎn)的涂布輥上移動時(shí)，通過被涂布體浸漬在涂布輥的漿料層中，對被涂布體涂布漿料，因此涂布工序在短時(shí)間內(nèi)完成，所以，對被涂布體的漿料涂布作業(yè)能夠高效進(jìn)行，能夠提高生產(chǎn)率。
再有，由于利用板狀刮漿板(漿料層形成構(gòu)件)進(jìn)行漿料刮去的前端部的下部形狀及位置未設(shè)定漿料刮去用的邊緣，因此能夠在涂布輥外周部的任意位置形成任意寬度及厚度的漿料層，只要預(yù)先準(zhǔn)備與各種被涂布體對應(yīng)的刮漿板，在被涂布體改變時(shí)相應(yīng)更換固定刮漿板即可。
再有，所述漿料層形成是由外周具有環(huán)形凹槽的旋轉(zhuǎn)輥構(gòu)成。
根據(jù)該結(jié)構(gòu)，通過設(shè)定旋轉(zhuǎn)輥(漿料層形成構(gòu)件)外周形成的環(huán)形凹槽的形狀及位置，能夠在涂布輥外周部的任意位置形成任意寬度及厚度的漿料層。另外，即使使旋轉(zhuǎn)輥與涂布輥的外周接觸，從涂布輥的外周完全除去多余的漿料，但由于涂布輥與旋轉(zhuǎn)輥僅僅是轉(zhuǎn)動接觸，因此不產(chǎn)生磨擦墊及摩損，即使連續(xù)運(yùn)轉(zhuǎn)也能夠事先避免漿料因溫度上升而劣化，或者摩損粉末混入漿料那樣的情況。
再有，其特征在于，最好在所述涂布輥的外周具有環(huán)形凸條，同時(shí)在所述漿料層形成構(gòu)件上形成該環(huán)形凸條嵌入的凹入部。
根據(jù)該結(jié)構(gòu)，通過利用漿料層形成構(gòu)件刮去從給涂布輥外周部的漿料中的多余部，能夠在涂布輥的環(huán)形凸條外周部以形狀穩(wěn)定的狀態(tài)形成所希望厚度的漿料層，通過使被涂布體接近涂布輥，使涂布輥的環(huán)形凸條進(jìn)入被涂布體的凹入部，就能夠在被涂布體的凹入部底部以所希望的寬度轉(zhuǎn)印涂布漿料。
再有，最好所述漿料層形成構(gòu)件由前端部具有錐形凹入部的固定刮漿板構(gòu)成。
這里，在固定刮漿板的前端部具有的凹入部為所謂錐形，是指刮去涂布輥一側(cè)的漿料層多余部的凹入部側(cè)壁邊緣相對于涂布輥的軸心方向及該輥的徑向?yàn)閮A斜的邊緣。
因而，形成的凹入部在刮去涂布輥一側(cè)的漿料層多余部時(shí)，在漿料層形成傾斜的傾面部。
根據(jù)該結(jié)構(gòu)，利用具有錐形凹入部的固定刮漿板，在涂布輥的漿料層形成傾斜的側(cè)面部，使被涂布體浸漬在該漿料層的傾斜的側(cè)面部，進(jìn)行漿料涂布。這樣在漿料層的傾斜側(cè)面部成為被涂布體被保持在移動頭的狀態(tài)下移動的空間部，只要用漿料涂布用的移動頭使該被涂布體移動這樣的簡單作業(yè)，就能夠?qū)Ρ煌坎俭w進(jìn)行漿料涂布。
再有，由于通過被移動體在旋轉(zhuǎn)的涂布輥上移動時(shí)，被涂布體浸漬在涂布輥的漿料層中，這樣對被涂布體涂布漿料，因此在該涂布時(shí)的被涂布體的移動能夠在涂布輥一側(cè)的一對傾斜面的間例如沿水平方向等的一定方向向一側(cè)移動，所以涂布工序在短時(shí)間內(nèi)完成。所以，對被涂布體的漿料涂布作業(yè)能夠高效進(jìn)行，能夠提高生產(chǎn)率。
再有，最好所述漿料層形成構(gòu)件由前端部具有錐形的環(huán)形凹槽放旋轉(zhuǎn)輥構(gòu)成。
這里，在旋轉(zhuǎn)輥的前端部具有的環(huán)形凹槽為所謂錐形，是指刮去涂布輥一側(cè)的漿料層多余部的環(huán)形凹槽側(cè)面相對于涂布輥的軸心方向及該輥的徑向?yàn)閮A斜的面。因而，在刮去涂布輥一側(cè)的漿料層多余部時(shí)，成為形成與漿料層傾斜的側(cè)面部的環(huán)形凹槽。
根據(jù)該結(jié)構(gòu)，利用具有錐形的環(huán)形凹槽的旋轉(zhuǎn)輥，在涂布輥的漿料層形成傾斜的側(cè)面部，使被涂布體浸漬在該漿料層的傾斜的側(cè)面部，進(jìn)行漿料涂布。因而，這樣的漿料層的傾斜側(cè)面部成為被涂布體被保持在移動頭的狀態(tài)下移動的空部部，只要用漿料涂布用的移動頭使該被涂布體移動這樣的簡單作業(yè)，就能夠?qū)Ρ煌坎俭w進(jìn)行漿料涂布。
再有，最好具有對被涂布體轉(zhuǎn)印涂布漿料的涂布輥，對該涂布輥的外周部供給漿料的裝置，刮去供給輥?zhàn)油庵懿康臐{料的多余部而在涂布輥的外周形成規(guī)定截面形狀的漿料層的漿料層形成構(gòu)件，在所述涂布輥的外周的兩邊緣部具有錐形的環(huán)形凸條，同時(shí)在所述漿料層形成構(gòu)件形成該環(huán)形凸條嵌入的凹入部。
這里，所謂環(huán)形凹條為錐形，是指其側(cè)面為相對于涂布輥的軸心方向及該輥的徑向傾斜的面。
根據(jù)該結(jié)構(gòu)，通過利用漿料層形成構(gòu)件供給涂布輥外周部的漿料中的多余部，能夠在涂布輥的錐形的環(huán)形凸條以形狀穩(wěn)定的狀態(tài)形成所希望厚度的漿料層，通過使被涂布體移動，使其能夠?qū)ν坎驾伒沫h(huán)形凸條錐形部的漿料層浸漬，就能夠?qū)Ρ煌坎俭w轉(zhuǎn)印涂布漿料。另外，被移動體保持的被涂布體即使在橫向稍微有移位，若被移動體與一對環(huán)形凸條的一方接觸，則也可以利用該接觸來限制位置并在該狀態(tài)下修正用移動頭的保持姿勢，能夠抑制對被涂布體的漿料涂布產(chǎn)生的偏移。
再有，最好是具有在外周面供給漿料的輥?zhàn)樱约皩⑼坎紝ο笪锼椭猎撦佔(zhàn)由戏剿枰恢玫囊扑蜋C(jī)構(gòu)的漿料涂布裝置，構(gòu)成的所述輥?zhàn)拥耐庵苊嬖O(shè)置涂布對象物的至少一部分能夠進(jìn)入而且能夠保持漿料的漿料保持部的涂布裝置。
根據(jù)該結(jié)構(gòu)，由于漿料保持在輥?zhàn)油庵苊娴臐{料保持部，涂布對象物的一部分漿料涂布側(cè)部進(jìn)入該漿料中，因此涂布對象物深深地浸漬在漿料中，對涂布對象物可涂布大量的漿料。
在上述結(jié)構(gòu)中，漿料保持部是在輥了外周面沿圓周方向形成的環(huán)形槽，該環(huán)形槽的大小設(shè)定為涂布對象物的漿料涂布側(cè)部能夠進(jìn)入并存在間隙這樣的大小。在該環(huán)形槽保持較厚的液厚的漿料。在這種情況下，由于環(huán)形槽與漿料的接觸面積相對于漿料的量較大，因此能夠抑制漿料的飛濺。
作為漿料保持部，另外還有在輥?zhàn)油庵苊胬萌彳洏?gòu)件形成，而在內(nèi)側(cè)具有漿料保持間隙的漿料柔軟保持層。
在漿料涂布時(shí)，涂布對象物對該柔軟保持層壓緊。該柔軟保持層因讓開涂布對象物而變形。這時(shí)，在柔軟保持層內(nèi)側(cè)的漿料保持間隙所含的漿料向涂布對象物一側(cè)流動，附著在涂布對象物上。
所述柔軟保持層，更具體來說，是由在輥?zhàn)油庵苊嬖O(shè)置的多條柔性線狀體構(gòu)成的，是由從輥?zhàn)油庵苊娉史派錉钔怀龅亩鄺l彈性突起構(gòu)成的，或者是由具有在外徑側(cè)開口的許多間隙的彈性體構(gòu)成的。
采用這些柔軟保持層，都能夠在該柔軟保持層向輥外周面一側(cè)可壓縮變形的范圍內(nèi)確保漿料的厚度，同時(shí)由于與漿料的接觸面積大，因此可抑制漿料的飛濺。
再有，最好是具有對外周面供給漿料的輥?zhàn)?，將涂布對象物的至少一部分浸漬在該輥?zhàn)油庵苊娴臐{料中所需要深度的涂布位置設(shè)定機(jī)構(gòu)，以及刮去輥?zhàn)油庵苊娴臐{料的刮去構(gòu)件的漿料涂布裝置，所述刮去構(gòu)件這樣構(gòu)成，即對輥外周面以非接觸狀態(tài)，以比浸漬在附著漿料中的涂布對象物的浸漬深度還要深的刮去深度刮去漿料。
上述涂布對象物若是對其表面涂布漿料的涂布對象物，則不限定于電子元器件，什么都可以。
上述輥?zhàn)泳哂行D(zhuǎn)面并具有使該旋轉(zhuǎn)面附著漿料的功能的構(gòu)件，則什么都可以，其外周面形狀不限定于圓筒形等。
上述漿料不限定于其名稱，只要是能夠附著在輥外周面，具有對涂布對象物進(jìn)行涂布所需要的粘度的涂布材料，則什么都可以，例如只要是粘結(jié)劑，導(dǎo)電性粘結(jié)劑，焊劑或其它涂布材料，則什么都可以。
根據(jù)上述結(jié)構(gòu)，涂布對象物體對附著在輥外周面的漿料進(jìn)行浸漬，對涂布對象物涂布漿料的一部分。漿料的表層部或者暴露在外氣中，或者涂布對象物進(jìn)行浸漬，而涂布后，該表層部利用刮去構(gòu)件刮去，與例如貯存在漿料供料部的其它漿料混合及攪拌。通過這樣，位于涂布位置的漿料始終是新鮮的，將抑制因漿料干燥而引起的粘度變化，對涂布對象物的漿料涂布量得到穩(wěn)定。
另外，附著在輥外周面的漿料中，利用刮去構(gòu)件未刮去的內(nèi)層部雖未置換成足夠新鮮的漿料，但由于與對涂布對象物進(jìn)行漿料涂布無關(guān)，因此對于涂布對象物的漿料涂布量沒有影響。
利用刮去構(gòu)件刮去的附著漿料的表層部也有的被取出到外部，但若采用刮去構(gòu)件的至少前端部配置在所述漿料供料部的上方的結(jié)構(gòu)，使得利用刮去構(gòu)件刮去的漿料利用自重流入漿料供料部，則刮去的漿料與多余的漿料在漿料供料部混合，整個(gè)漿料自己進(jìn)行攪拌。因此，將抑制整個(gè)漿料的粘度變化，對涂布對象物的漿料涂布量得到穩(wěn)定。另外，由于刮去的漿料返回漿料供料部，因此漿料的減少量抑制到所需要的最低限度，能夠長時(shí)間地連續(xù)用漿料。
在這種情況下，由于刮去構(gòu)件與輥不接觸，因此沒有摩損，不產(chǎn)生因摩損粉末而引起的漿料質(zhì)量下降的情況。另外，刮去構(gòu)件也不產(chǎn)生與輥的磨擦墊，不產(chǎn)生因兩者的磨擦墊而引起的漿料劣化及硬化的情況。再有，由于刮去構(gòu)件不摩損，因此不需要調(diào)整與輥的間隔，刮去構(gòu)件本身的更換頻次也可以很少。
在上述結(jié)構(gòu)中，刮去構(gòu)件不一定必須是前端尖銳的刮漿板狀的板體，也可以使用有厚度的構(gòu)件，其形狀不限定于實(shí)施形態(tài)中所圖示的形狀。
另外，作為漿料供料部可以是上部開口，并在該開口側(cè)的內(nèi)部設(shè)置輥?zhàn)拥臐{料槽，也可以是由調(diào)整輥外周面的漿料附著厚度的液厚調(diào)整構(gòu)件及輥外周面形成的漿料供料部。形成漿料供料部的興高采烈厚調(diào)整構(gòu)件設(shè)置在刮去構(gòu)件的下方。
所述液厚調(diào)整構(gòu)件不一定必須是刮漿板狀的板體，也可以使用能夠旋轉(zhuǎn)的輥?zhàn)?，其形狀不限定于?shí)施形態(tài)中圖示的形狀。
在刮去構(gòu)件的下方具有液厚調(diào)整構(gòu)件的裝置中，若其結(jié)構(gòu)是在液厚調(diào)整構(gòu)件的兩側(cè)垂直設(shè)置使?jié){料阻擋在液厚調(diào)整構(gòu)件側(cè)面的橫向阻擋體，形成從兩側(cè)包圍所述刮去構(gòu)件的形狀，則在液厚調(diào)整構(gòu)件上形成的漿料部的兩側(cè)形成側(cè)壁，能夠在該漿料供料部貯存更多的漿料。另外由于能夠?qū)⒂霉稳?gòu)件刮去的漿料存放在漿料供料部內(nèi)再利用，因此能夠有效地使用漿料。
本發(fā)明的漿料涂布裝置，可以具有對輥的外周面供給漿料的漿料供料部作為裝置的一部分，而這也可以與裝置分開，另外準(zhǔn)備。涂布位置設(shè)定機(jī)構(gòu)可以相對于輥的外周面將涂布對象物沿左右方向移送，也可以沿上下方向移送。
再有，最好是包含具有輪圈狀外周部的輥?zhàn)?，在所述輥?zhàn)油庵苌瞎┙o漿料并形成漿料層的漿料供料機(jī)構(gòu)，以及設(shè)定所述輥?zhàn)优c所述涂布對象物的相對位置使得所述輥了的漿料層與涂布對象物接觸而在所述涂布對象物的表面附著漿料的位置設(shè)定機(jī)構(gòu)的漿料涂布裝置，其特征在于，是所述輥?zhàn)泳哂欣迷撦佔(zhàn)有D(zhuǎn)產(chǎn)生氣流的送風(fēng)板的漿料涂布裝置。


圖1表示本發(fā)明第1實(shí)施例形態(tài)有關(guān)的漿料涂布裝置的縱向剖面?zhèn)纫晥D。
圖2為側(cè)視的原理說明圖。
圖3表示漿料涂布時(shí)每隔規(guī)定時(shí)間的被涂布體位置側(cè)視圖。
圖4表示被涂布體在漿料涂布時(shí)的移動軌跡的側(cè)視圖。
圖5表示以往的被涂布體在漿料涂布時(shí)的移動軌跡的側(cè)視圖。
圖6表示其它實(shí)施形態(tài)有關(guān)的漿料涂布裝置的縱向剖面?zhèn)纫晥D。
圖7表示別的其它實(shí)施形態(tài)有關(guān)的漿料涂布裝置的縱向剖面?zhèn)纫晥D。
圖8表示以往的漿料涂布裝置一個(gè)例子的縱向剖面?zhèn)纫晥D。
圖9表示以往的漿料涂布裝置另一個(gè)例子的縱向剖面?zhèn)纫晥D。
圖10表示本發(fā)明第2實(shí)施例形態(tài)有關(guān)的漿料涂布裝置的簡要縱向剖面?zhèn)纫晥D。
圖11為主要部的平面圖。
圖12為主要部的縱向剖面正視圖。
圖13(a)為利用其它刮漿板的實(shí)施形態(tài)的主要部正面圖，(b)為其縱向剖面正視圖。
圖14(a)為利用別的其它刮漿板的實(shí)施形態(tài)的主要部平面圖，(b)為其縱向剖面正視圖。
圖15表示刮漿板的其它例子的主要部平面圖。
圖16(a)為漿料層形成構(gòu)件利用旋轉(zhuǎn)輥的實(shí)施形態(tài)的主要部平面圖，(b)為其縱向剖面?zhèn)纫晥D。
圖17(a)為其它實(shí)施形態(tài)的主要部平面圖，(b)為其縱向剖面正視圖。
圖18表示其它漿料供料裝置的主要部的縱向剖面?zhèn)纫晥D。
圖19表示其它實(shí)施形態(tài)的漿料涂布裝置，(a)表示簡要縱向剖面?zhèn)纫晥D，(b)表示其簡要平面圖。
圖20為圖19所示的漿料涂布裝置的側(cè)視圖，表示假設(shè)整個(gè)圓周形成漿料層的狀態(tài)。
圖21表示將被涂布體浸漬在圖19所示漿料涂布裝置的漿料層的情況的正視圖，(a)表示浸漬量小的情況，(b)表示浸漬量大于(a)的情況。
圖22表示其它實(shí)施形態(tài)的漿料涂布裝置，(a)表示其簡工平面圖，(b)表示對被涂布體涂布漿料的情況的簡要正視圖。
圖23表示其它實(shí)施形態(tài)的漿料涂布裝置，(a)表示其簡要平面圖，(b)表示其簡要縱向剖面?zhèn)纫晥D。
圖24表示以往的漿料涂布裝置的縱向剖面正視圖，(a)表示用具有較大寬度的涂布輥進(jìn)行漿料涂布的情況，(b)表示有寬度狹窄的盤狀涂布輥進(jìn)行漿料涂布的情況及涂布位置的放大圖。
圖25為本發(fā)明第3實(shí)施例形態(tài)有關(guān)的漿料涂布裝置的縱向剖面?zhèn)纫晥D。
圖26為圖25的裝置中主要部即輥?zhàn)硬康钠矫鎴D。
圖27為圖25的裝置的作用說明圖。
圖28為本發(fā)明實(shí)施例的變形例有關(guān)的漿料涂布裝置的輥了部的縱向剖面?zhèn)纫晥D。
圖29為本發(fā)明實(shí)施例的其它變形例有關(guān)的漿料涂布裝置的輥?zhàn)硬康目v向剖面?zhèn)纫晥D。
圖30為本發(fā)明第4實(shí)施形態(tài)有關(guān)的漿料涂布裝置的縱向剖面?zhèn)纫晥D。
圖31為圖30的裝置中主要部即輥?zhàn)拥钠矫鎴D。
圖32為圖30的裝置的作用說明圖。
圖33為本發(fā)明第5實(shí)施例形態(tài)有關(guān)的裝置的輥?zhàn)觽?cè)視圖。
圖34為圖33的輥?zhàn)拥钠矫鎴D。
圖35為圖33的輥?zhàn)拥淖饔谜f明圖。
圖36為本發(fā)明第6實(shí)施例形態(tài)有關(guān)的裝置的輥?zhàn)涌v向剖面?zhèn)纫晥D。
圖37為圖36的輥?zhàn)拥钠矫鎴D。
圖38為圖36的輥?zhàn)拥淖饔谜f明圖。
圖39為以往的涂布輥的立體圖。
圖40為本發(fā)明第7實(shí)施例形態(tài)有關(guān)的漿料涂布裝置的縱向剖面?zhèn)纫晥D。
圖41為圖40的裝置的平面圖。
圖42表示圖40的裝置的一部分即輥?zhàn)优c其它構(gòu)件的位置關(guān)系的配置說明圖。
圖43為圖40的裝置的一部分即刮去構(gòu)件及液厚調(diào)整構(gòu)件等從輥?zhàn)右粋?cè)來看的正視圖。
圖44為本發(fā)明第8實(shí)施例形態(tài)有關(guān)的漿料涂布裝置的縱向剖面?zhèn)纫晥D。
圖45為圖44的裝置的平面圖。
圖46表示圖44的裝置的一部分即輥?zhàn)优c其它構(gòu)件的位置關(guān)系的配置說明圖。
圖47為圖44的裝置的一部分即液厚調(diào)整構(gòu)難看及橫向阻擋體從輥?zhàn)右粋?cè)來看的正視圖。
圖48為沿圖47的(9)-(9)線的橫向剖面平面圖。
圖49為本發(fā)明第9實(shí)施例形態(tài)有關(guān)的漿料涂布裝置的簡要剖視圖。
圖50表示本發(fā)明的漿料涂布裝置的輥?zhàn)硬浚瑘D50(a)為其平面圖，圖50(b)為圖50(a)的A-A’線的剖視圖。
圖51表示本發(fā)明的漿料涂布裝置的輥?zhàn)硬孔冃蜗瘢瑘D51(a)為其平面圖，圖51(b)為圖51(a)的B-B’線的剖視圖。
圖52為本發(fā)明第10實(shí)施例有關(guān)的漿料涂布裝置的簡要剖視圖。
圖53為以往的漿料涂布裝置的簡要剖視圖。
標(biāo)號說明2 輥?zhàn)?基體)3 漿料層6 被涂布體102 漿料102a漿料層103 涂布輥103a環(huán)形凸條104 刮漿板(漿料層形成構(gòu)件)104a漿料刮去邊緣105 吸附頭
106 被涂布體107 凹入部108 環(huán)形凹槽109 旋轉(zhuǎn)輥(漿料層形成構(gòu)件)201 輥?zhàn)?02 漿料槽(漿料供料部)203 移送機(jī)構(gòu)206 環(huán)形槽(漿料保持部)P 柔軟保持層W 涂布對象物301 輥?zhàn)?02 涂布位置設(shè)定機(jī)構(gòu)306 刮去構(gòu)件307 漿料供料部310 漿料槽(漿料供料部)P 漿料W 涂布對象物D 刮去構(gòu)件與輥?zhàn)油庵苊娴拈g隔E 涂布對象物與輥?zhàn)油庵苊娴拈g隔401 漿料涂布裝置402，403 輥?zhàn)?02a，403a中心軸402b，03b 外周部403c，403c送風(fēng)板403d 板狀本體404 漿料層406 涂布位置設(shè)定機(jī)構(gòu)406a 吸嘴406b 吸附頭407 涂布對象物409 底座部
具體實(shí)施例方式
下面根據(jù)

本發(fā)明的實(shí)施形態(tài)。
圖1至圖4表示與本發(fā)明有關(guān)的第1實(shí)施形態(tài)。圖1表示漿料涂布裝置的縱向剖面?zhèn)纫晥D，圖2為側(cè)視的原理說明圖，圖3表示漿料涂布時(shí)每隔規(guī)定時(shí)間的被涂布體位置側(cè)視圖，圖4表示被涂布體的漿料涂布時(shí)的移動軌跡的側(cè)視圖。
在圖1中，1為作為供給漿料的供料部的漿料槽，2為作為涂布漿料的基體的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動的輥?zhàn)樱?為漿料層，4為作為調(diào)整漿料厚度的厚度調(diào)整部的刮漿板，5為吸附頭，6為被涂布體，例如是片狀電子元器件。
輥?zhàn)?沿箭頭方向(在圖1中為順時(shí)針方向)繞中心旋轉(zhuǎn)，通過這樣漿料槽1內(nèi)的漿料與輥?zhàn)?一起被卷起，在輥?zhàn)?的表面形成漿料層3，同時(shí)該漿料層3利用刮漿板4調(diào)整為一定層厚。由于使?jié){料與輥?zhàn)?一起旋轉(zhuǎn)，因此在形成該一定層厚的漿料層3的表面形成與輥?zhàn)?的轉(zhuǎn)速對應(yīng)的表面圓周速度V2。
然后，通過吸附保持在吸附頭5的被涂布體6以速度V1沿箭頭方向(在圖1中是從左向右的方向)在其底面高度比輥?zhàn)?的頂點(diǎn)略高(0.01-1.0mm左右)的位置水平移動，在通過輥?zhàn)?的頂點(diǎn)附近時(shí)，用輥?zhàn)?表面的漿料進(jìn)行涂布。即輥?zhàn)?頂點(diǎn)的漿料層3的表面位置成為漿料層3的最高位置，被涂布體6一面沿通過該最高位置的切線方向即水平方向移動，一面涂布漿料。
另外，作為漿料可以根據(jù)用途使用導(dǎo)電性粘結(jié)劑，絕緣性粘結(jié)劑及焊劑等。
再有，在該漿料涂布裝置中具有未圖示的控制裝置。該控制裝置這樣構(gòu)成，即能夠控制漿料涂布時(shí)的吸附頭5的移動速度，進(jìn)而控制被涂布體6的移動速度，同時(shí)控制輥?zhàn)?的轉(zhuǎn)速。若詳細(xì)來說，則控制裝置這樣構(gòu)成，即具有設(shè)定被涂布體6的移動速度即前述速度V1與漿料層3的表面圓周速度V2的速度差的設(shè)定裝置，同時(shí)控制吸附頭5的移動速度及輥?zhàn)?的轉(zhuǎn)速使得達(dá)到該設(shè)定的速度差。
這里給出利用控制裝置的速度控制及利用設(shè)定裝置的速度差設(shè)定的具體例子。例如，由輥?zhàn)?及漿料層3構(gòu)成的從涂布體的輥?zhàn)?的中心到漿料表面的距離(輥?zhàn)影霃?漿料厚度)為10mm，被涂布體6的高度尺寸a為0.5mm，被涂布體6的移動方向(前后方向)尺寸為1.0mm，浸漬深度為0.25mm，這時(shí)若設(shè)定被涂布體6的移動速度V1為2000m/s，則使被涂布體移動速度V1與涂布體的漿料表面圓周速度V2的比為V2/V1＝1.008。因而，涂布體的漿料表面圓周速度V2為2016mm/s。另外，將這種情況下的被涂布體6浸漬在漿料層3的過程中浸漬最深的時(shí)刻，即被涂布體6在前后方向的寬度的中心通過漿料層3表面的最高位置的時(shí)刻作為0，圖3表示在0的前后每隔0.001秒的被涂布體6的位置。
然后，根據(jù)該條件，畫出被涂布體6相對于漿料層表面的特定點(diǎn)0的相對移動路徑，圖4表示該路徑描繪的軌跡a1及b1。圖4中所描繪的曲線的軌跡a1及b1分別是圖2中被涂中體6的側(cè)視圖的前面下端角的頂點(diǎn)3及后面下端角的頂點(diǎn)P2描繪的軌跡。在上述條件情況的該各軌跡a1及b1中，對漿料層表面的進(jìn)入位置及離開位置一致。另外，從該進(jìn)入到離開的間在漿料層內(nèi)的各軌跡a1及b1成為前后近似對稱的軌跡，可以理解為被涂布體6的前側(cè)部及后側(cè)部中的在漿料層3內(nèi)的前后方向的刮目相看去移動量L1及L2(在圖4中，分別作為前面水平移動量L1及后面水平移動量L2表示)相同。
下面參照圖2說明對漿料表面圓周速度V2與被涂布體6的移動速度V1通過如上所述設(shè)定速度差就能夠?qū)Ρ煌坎俭w6的前側(cè)部及后側(cè)部均勻涂布漿料的原理，以及根據(jù)各參數(shù)進(jìn)行計(jì)算的方法。
在圖2所示的模型中，被涂布體6相對于輥?zhàn)?上的漿為的位置(在坐標(biāo)系1中的被涂布體位置(Xpn，Ypn)可以用式(1)表示，這里，坐標(biāo)系1是以漿料層表面上假設(shè)設(shè)定的特定點(diǎn)0為中心的坐標(biāo)系，如前所述，相對于該特定點(diǎn)0的被涂布體6的移動軌跡a1及b1是作為前述P3及P2描繪的軌跡示于圖4中。Z1Pn→=(V1t+XPn)coswt-(R+Ypn)sinwt(V1t+Xpn)sinwt+(R+Ypn)coswt-R]]>…式(1)式中，R表示輥?zhàn)?的半徑r與漿料層3形成一定層厚時(shí)的厚度1的和，即從輥?zhàn)又行牡綕{料層3表面的距離，w表示輥?zhàn)?的轉(zhuǎn)速，t表示將被涂布體6在前后方向的寬度中心通過漿料層3的表面最高位置的時(shí)刻作為0的時(shí)間。
下面對式(1)的推導(dǎo)進(jìn)行補(bǔ)充說明。
首先，在下面說明前提條件。在圖2中，Pn表示被涂布體側(cè)視中的各頂點(diǎn)P1，P2，P3及P4。設(shè)被涂布體中心(前后寬度的中心)通過輥?zhàn)禹旤c(diǎn)的時(shí)刻t＝0。這里，a為被涂布體6的上下寬度尺寸，b為被涂布體6的移動方向?qū)挾瘸叽?，d為被涂布體6對漿料層3的浸漬深度。Xpn及Ypn表示＝0時(shí)在坐標(biāo)系1中來看的被涂布體6的側(cè)視各頂角位置。Xp1＝-b/2，Yp1＝a-d，Xp2＝-b/2，Yp2＝-d，Xp3＝b/2，Yp3＝-d，Xp4＝b/2，Yp4＝-a-d。因而，若浸漬深度d改變，則Xpn及Ypn也變化。
坐標(biāo)系0為將輥?zhàn)?的中心作為原點(diǎn)的X軸及Y軸的直角坐標(biāo)系。
坐標(biāo)系1為將t＝0時(shí)輥?zhàn)?的頂點(diǎn)(最高位置點(diǎn))上的漿料層3表面作為原點(diǎn)的X軸及Y軸的直角坐標(biāo)系。
∑0Z1Pn表示將線段Z1Pn向坐標(biāo)系0的X軸及Y投影時(shí)的長度。
∑1Z1Pn表示將線段Z1Pn向坐標(biāo)系1的X軸及Y軸投影時(shí)的長度，即以坐標(biāo)系1來看的Pn位置。
因此，被涂布體相對于輥?zhàn)应蒙系臐{料層3表面的位置(在坐標(biāo)系1中的被涂布體的位置)可以用∑1Z1Pn表示。
式(1)是通過將∑0Z1Pn從坐標(biāo)系0進(jìn)行坐標(biāo)變換為坐標(biāo)系1而求得∑1Z1Pn的式子。
即式(1)是通過下述所示進(jìn)行推導(dǎo)的。Σ11Z1Pn=coswt-sinwtsinwtcoswtΣ10Z1Pn]]>……將Z0坐標(biāo)系變換成Z1坐標(biāo)=coswt-sinwtsinwtcoswtV1t-Rsinwt+XpnR-Rcoswt+Ypn]]>=(V1t-Rsinwt+Xpn)coswt-(R-Rcoswt+Ypn)sinwt(V1t-Rsinwt+Xpn)sinwt+(R-Rcoswt+Ypn)coswt]]>=(V1t+Xpn)coswt-(R+Ypn)sinwt(V1t+Xpn)sinwt(R+Ypn)coswt-R]]>…式(1)根據(jù)式(1)，被涂布體相對于漿料層表面的位置通過將時(shí)刻t作為參數(shù)，可畫出軌跡，該軌跡表示將隨V1，R，ω)(與V2成正比關(guān)系)，Xpn及Ypn的值而變化。另外，Xpn及Ypn如同在前提條件所示，由于隨被涂布體6的尺寸及浸漬深度d而變化，因而軌跡也隨被涂布體b的尺寸及浸漬深度d而變化。
若用式(1)表示被涂布體相對于輥?zhàn)由系臐{料表面的運(yùn)動狀態(tài)，則為前述圖3所示的狀態(tài)。以被涂布體6的側(cè)視位置表示時(shí)刻t＝-0.003-0.003每隔0.001秒間隔的被涂布體的位置。
下面說明被涂布體的移動速度與漿料層表面沿圓孤狀路徑移動時(shí)的移動速度的最佳速度差的求取方法。
所謂該最佳速度差，如上所述，是涂布體進(jìn)入漿料層內(nèi)到離開的間使相對于漿料的涂布體的前側(cè)部水平移動量與涂布體的后側(cè)部水平移動量相等的速度差。
換名話說，在被涂布體相對于漿料表面的運(yùn)動軌跡中，被涂布體的前后端進(jìn)入漿料層表面的點(diǎn)與從漿料層表面離開的點(diǎn)一致，這由本發(fā)明者通過仿真得到確認(rèn)。
因而，上述最佳速度差是預(yù)先袋子任意設(shè)定被涂布體的移動速度V1，進(jìn)行描繪被涂布體的前面端及后面端相對于漿料表面的運(yùn)動軌跡的計(jì)算，求出對該漿體表面被涂布體進(jìn)入位置與離開位置成為一致的漿料層表面的移動速度V2。然后，通過求得該移動速度V1與V2的速度比V2/V1而得到。與這樣的速度差對應(yīng)的速度比V/V1是通過操作者向控制裝置的設(shè)定裝置輸入上述各參數(shù)而自動進(jìn)行運(yùn)算的。
另外，作為比較例，圖5表示設(shè)定被涂布體6的移動速度與漿料層表面的移動速度為相同速度時(shí)的被涂布體相對于漿料層表面的特定點(diǎn)的相對移動路徑。
在上述想要解決的問題的段落中也同樣如圖5說明的那樣，由于從進(jìn)入漿料層到離開的間的被涂布體前側(cè)部的水平移動量L1與后側(cè)部的水平移動量L2如圖5所示，構(gòu)成L1＞L2的關(guān)系，因而漿料在前面的涂布量大于后面的涂布量，前面與后面的漿料涂布量變得不均勻。
這樣，前述速度差是根據(jù)從輥?zhàn)又行牡綕{料層表面的距離R，被涂布體向前述漿料層中的浸漬深度d(最深浸漬處的浸漬深度)，以及前述被涂布體在移動方向的寬度尺寸b進(jìn)行設(shè)定的，即使這些R，d及b的各個(gè)參數(shù)在與前述實(shí)施形態(tài)不同的情況下，也能夠預(yù)先計(jì)算出最佳速度差，然后用設(shè)定裝置設(shè)定涂布體的移動速度V1及漿料層表面的移動速度V2，使得達(dá)到該最佳速度差。表1表示其具體例。另外，速度差以速度比V2/V1表示。
表1

R從輥?zhàn)又行牡綕{外表面的距離(mm)b被涂布在移動方向的尺寸(mm)d向漿料的浸漬深度(mm)本發(fā)明不限定于上述實(shí)施形態(tài)，例如也可以以下述的變形例實(shí)施。
(1)在上述實(shí)施形態(tài)中所示的是對旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)上表面涂布漿料層，但例如供給漿料的形態(tài)，除了圖1所示預(yù)先在漿料槽中貯存漿料并利用輥?zhàn)泳砥鸸┝系男螒B(tài)外，也可以如圖6所示，在作為層厚調(diào)整部的刮漿板4的上方構(gòu)成供料部，使其貯存漿料P，并能對輥?zhàn)颖砻嫱坎脊┙o漿料。
(2)在上述實(shí)施形態(tài)中所示的是采用輥?zhàn)幼鳛榛w構(gòu)成涂布體的，但例如也可以如圖7所示這樣構(gòu)成，即在驅(qū)動輥8與此同時(shí)動輥9的間張緊設(shè)置以一定速度旋轉(zhuǎn)驅(qū)動的作為基體的帶狀物10，在帶狀物10的表面附著貯存在漿料槽1的漿料并卷起，在其途中用括板4刮去，涂布形成一定層厚的漿料層3，利用中間設(shè)置的自由旋轉(zhuǎn)的輥?zhàn)?1，帶狀物10能夠在圓孤狀移動路徑上移動。采用該結(jié)構(gòu)的裝置，在該圓弧狀移動路徑中，使被涂布體6沿水平方向移動，通過這樣能夠?qū)钗?0表面的漿料層的漿料涂布在被涂布體6上。在這種情況下，也對被涂布體6的移動速度與帶狀物10表面的漿料層表面圓孤狀移動路徑的移動速度設(shè)定速度差，使得對被涂布體6的前面與后面的涂布量相等。
圖10表示本發(fā)明有關(guān)的第2漿料涂布裝置的簡要側(cè)視圖。該漿料涂布裝置這樣構(gòu)成，即將貯存在漿料槽101的粘結(jié)劑，導(dǎo)電性粘結(jié)劑，焊劑等漿料102利用向一定方向以一定速度旋轉(zhuǎn)驅(qū)動的涂布輥103卷起，用固定在漿料槽101上端的作為漿料層形成構(gòu)件的刮漿板104刮去多余的漿料，在輥?zhàn)油庵懿啃纬梢?guī)定厚度的漿料層102a，使被吸附頭105吸附保持并以規(guī)定速度移動通過輥?zhàn)禹敳扛浇谋煌坎俭w106的下面一部分向輥?zhàn)油庵懿康臐{料層102a浸漬接觸，通過這樣將漿料層102a對被涂布體106進(jìn)行轉(zhuǎn)印涂布。
如圖11及圖12所示，使用前述涂布輥193的軸心方向?qū)挾却笥谕坎紝挾鹊妮佔(zhàn)樱瑫r(shí)在前述括板104的前端部形成矩形的凹進(jìn)部107，該凹進(jìn)部107的邊緣及不是凹進(jìn)部107的前端的邊緣形成刮去漿料用的刮去邊緣104a，通過這樣使得在涂布輥103的外周部形成相當(dāng)于凹進(jìn)部107的寬度的小寬度的漿料層102a。
這樣，被涂布體106與輥?zhàn)訉挾确较虻闹虚g部位利用刮漿板104刮去形成的漿料層102a浸漬接觸，通過這樣漿料102b以相當(dāng)于該漿料層102a寬度的寬度對被涂布體106進(jìn)行轉(zhuǎn)印涂布。
本發(fā)明也可以以下面的形態(tài)實(shí)施。
(1)如圖13(a)所示，在刮漿板4前端的寬度方向的兩端形成凹進(jìn)部7，在該邊緣形成刮去邊緣104a，通過這樣如圖13(b)所示，在涂布輥103的外周部的兩端部形成小寬度的漿料層102a，能夠?qū)Ρ煌坎俭w106兩端102的部位進(jìn)行涂布，另外，如圖14(a)所示，在刮漿板104前端在寬度方向的3個(gè)部位或3個(gè)以上的多個(gè)部位并排形成小寬度的凹進(jìn)部107，在它們的邊緣形成刮去邊緣104a，通過這樣如圖14(b)所示，在涂布輥103的外周部并排形成多個(gè)小寬度的漿料層102a，能夠同時(shí)對被涂布體106的多個(gè)部位進(jìn)行涂布。
(2)在刮漿板104的前端形成的凹進(jìn)部107不限定于矩形截面形狀，例如可以如圖15(a)所示，形成為尖角形截面形狀，或者如圖15(b)所示，形成為半圓形截面形狀。因而在涂布輥103的外周部形成任意截面形狀的漿料層102a，它們的邊緣成為刮去漿料用的刮去邊緣104a。
(3)也可以如圖16所示，作為漿料層形成構(gòu)件，是利用外周具有任意截面形狀的環(huán)形凹槽108的旋轉(zhuǎn)輥109，通過這樣在涂布輥103的外周部形成小寬度的冰料層102a。在這種情況下，使旋轉(zhuǎn)輥109自由旋轉(zhuǎn)并與涂布輥103接觸，或者以與涂布輥103的圓周速度相等的圓周速度反向驅(qū)動旋轉(zhuǎn)輥109并與涂布輥103接觸，通過這樣能夠使旋轉(zhuǎn)輥109相對于涂布輥103幾乎無磨擦地旋轉(zhuǎn)接觸，完全去除多余的漿料，在涂布輥103僅形成所希望寬度及厚度的漿料層102a。
(4)也可以如圖17(a)所示，在涂布輥103的外周具有環(huán)形凸條103a，同時(shí)在刮漿板104刮去邊緣104a形成所述環(huán)狀、條103a嵌入的深的凹入部107，通過這樣如圖17(b)所示在涂布輥103的環(huán)形凸條103a的外周部形成所希望厚度的漿料層102a，使被涂布體106接近涂布輥103，使涂布輥103的環(huán)形凸條形碼103a進(jìn)入被涂布體106的凹入部106a，通過這樣能夠在被涂布體106的凹入部106a的底部轉(zhuǎn)印涂布所希望寬度的漿料。
(5)作為對涂布輥103的外周部供給漿料的裝置，除了如上所述的將貯存在漿料槽101的漿料卷起的形態(tài)以外，也可以如圖18所示，以在刮漿板104上貯存漿料102的形態(tài)實(shí)施。
(6)如圖19(a)，(b)，圖20及圖21所示，是具有與上述(5)相同結(jié)構(gòu)的裝置，對其相同的結(jié)構(gòu)，附加相同的符號。
該漿料涂布裝置這樣構(gòu)成，即將貯存在漿料槽1的粘結(jié)劑，導(dǎo)電性粘結(jié)劑，焊劑等漿料102利用向一定方向以一定速度旋轉(zhuǎn)驅(qū)動的涂布輥103卷起，用固定在漿料槽101上端的作為漿料層形成構(gòu)件的刮漿板114刮去多余的漿料，在輥?zhàn)油庵懿啃纬梢?guī)定截面形狀的漿料層102a，使被吸附頭105吸附保持并以規(guī)定速度移動通過輥?zhàn)禹敳扛浇谋煌坎俭w106的下面一部分向輥?zhàn)油庵懿康臐{料層102a浸漬，通過這樣將漿料層102a對被涂布體106進(jìn)行轉(zhuǎn)印涂布。
若詳細(xì)敘述，則如圖19(b)所示，對于圓柱形涂布輥103，刮漿板114的前端部的形狀為在頂視圖中靠近寬度方向中間部位向涂布輥103一側(cè)突出的前端變窄的錐形部。該錐形部的前端邊緣為與涂布輥103的軸心近擬平行的直線部115。在該直線部115的軸向兩端，形成向離開涂布輥103的一側(cè)相對于軸向傾斜的傾斜邊緣116a及116b。利用該傾斜邊緣116a，116b及直線部115形成頂視圖中的梯形形狀，該傾斜邊緣116a及116b形成的部別形成凹進(jìn)部117及117。
利用該刮漿板114形成的漿料層102a的截面形狀為圖21(a)及(b)所示，即在涂布輥103的外周面形成傾斜面，該傾斜面是在涂布輥103的軸向靠近兩端處的漿料層102a的厚度大，靠近中間部位的漿料層102a的厚度小，從該靠近中間部位到軸向兩端的過程中，漿料層102a的厚度慢慢增大。
在對被涂布體106涂布漿料時(shí)，被涂布體106利用吸附頭(未圖示)保持，該被涂布頭106與吸附頭一起在規(guī)定高度位置水平移動。圖21(a)及圖21(b)分別表該例子。在圖21(a)的情況下，被涂布體106的移動高度位置(圖中用點(diǎn)劃線表示)相對于涂布輥103的頂點(diǎn)，處于比較高的位置，因此被涂布體106對于漿料層102a的浸漬量比較小。在圖21(b)的情況下，被涂布體106的移動高度位置(圖中用點(diǎn)劃線表示)處于比圖21(a)的情況更靠近涂布輥103頂點(diǎn)的較低的位置，被涂布體106對于漿料量的浸漬量大于圖21(a)的情況。另外，即使被涂布體106的尺寸改變，也可以通過適當(dāng)改變被涂布體106移動的高度位置，來進(jìn)行涂布量等的調(diào)整。
另外，在這種情況下，傾斜面的截面是畫成直線的傾斜狀態(tài)，但也可以其截面是畫成曲線的傾斜狀態(tài)。
另外，圖20為涂布輥103的整個(gè)外周形成漿料層102a的假想狀態(tài)側(cè)視圖，圖中虛線表示和刮漿板114在漿料層102a形成凹下的環(huán)形槽的底部。
(7)如圖22(a)及(b)所示，涂布輥123不是上述(b)所示的圓柱形，而為線輪形。即涂布輥123在其軸向的兩端，其外周直徑大，而在靠近軸向中間部位，其外周直徑小。在涂布輥123中，其軸向兩端部的外周直徑大的部是整個(gè)外周呈向徑向外側(cè)突出形狀的環(huán)形凸條123a及123a。該各環(huán)形凸條123a及123a的軸向中間側(cè)的側(cè)面形成越靠近軸向中間直徑越小的傾斜面K及K。另外，刮漿板124的形狀與涂布輥123的外周形狀一致，成為靠近軸向中間的部位突出的狀態(tài)。該形狀具有與上述(6)的實(shí)旋形態(tài)相同的結(jié)構(gòu)(參照圖22(a))。
參照圖22(b)，在該實(shí)施形態(tài)的情況下，由于在涂布輥123一側(cè)設(shè)置一對傾斜面K及K，形成山谷形狀，因此在被吸附頭(未圖示)吸附的狀態(tài)下使被涂布體106移動時(shí)，若被涂布體106相對于吸附頭在軸向有一點(diǎn)位置偏移，則使得該偏移側(cè)的一端先與一邊的傾斜面K接觸。由于在發(fā)生該接觸的同時(shí)，被涂布體106在被吸附頭105吸附保持的狀態(tài)下產(chǎn)生橫向移動，被涂布體106的另一端與另一邊的傾斜面K接觸，這樣橫向移動也受到限制，因此能夠修正位置偏移，使得處于能很好進(jìn)行漿料涂布的位置。通過這樣，例如被涂布體106為長方體形狀的片狀元器件件，通過對環(huán)形凸條123a及123a的傾斜面K及K的表面漿料層102a浸漬，就在該被涂布體106的兩端部的下面及側(cè)面涂布漿料。
(8)如圖23(a)及(b)所示，在該實(shí)施形態(tài)中所示的，是利用輥?zhàn)?34代替刮漿板，刮去漿料多余部，調(diào)整漿料的形狀。輥?zhàn)?34是將其軸心方向的中間部形成大直徑部134a，將軸心方向的兩端部形成小直徑部134b及134b。大直徑部的側(cè)面形成傾斜K1及K1。另外，涂布混凝土03形成圓柱形。通過這樣，在涂布輥103的外周面形成的漿料層的形狀如圖23(a)所示，形成軸向中間部在整個(gè)外周凹下的環(huán)形凹槽138。
輥?zhàn)?34也與涂布輥103一起旋轉(zhuǎn)驅(qū)動，這時(shí)輥?zhàn)?34一面去除多余的漿料，一面在涂布輥103上形成有規(guī)定截面形狀的漿料層。
另外，關(guān)于該輥?zhàn)?34，不限定于旋轉(zhuǎn)驅(qū)動的輥?zhàn)樱部梢允枪潭ú晦D(zhuǎn)的，或者也可以是自由旋轉(zhuǎn)的。
被涂布體106在利用吸際頭105吸附保持的狀態(tài)下，水平通過涂布輥103上漿料層102a的環(huán)形凹槽138部位。這時(shí)，環(huán)形凹槽138的內(nèi)側(cè)面是向外擴(kuò)大傾斜的傾斜面，在被涂布體的兩端部通過時(shí)，分別浸漬在環(huán)形凹槽138的內(nèi)側(cè)面，對該各部位涂布漿料。
下面根據(jù)

本發(fā)明有關(guān)的第3漿料涂布裝置。圖25至圖27表示本發(fā)明的第3實(shí)施例。圖25為漿料涂布裝置的縱向剖面?zhèn)纫晥D，圖26為前述裝置的主要部即輥?zhàn)硬康钠矫鎴D，圖27為作用說明圖。
在這些圖中，符號201為輥?zhàn)樱?02為對前述輥?zhàn)?01供給漿料P的供料部即漿料槽，203為涂布對象物W的移送機(jī)構(gòu)，在圖25中給出了其吸附頭部。204為刮去輥?zhàn)?01外周面的多余漿料以調(diào)整漿料P的液厚的液厚調(diào)整板。該液厚調(diào)整板204安裝在漿料槽202的體205上。
前述輥?zhàn)?01設(shè)置在漿料槽202內(nèi)，使其上部露出在外面，沿單方向(圖25的箭頭A的方向)旋轉(zhuǎn)。在漿料槽202內(nèi)貯存漿料P，下列使輥?zhàn)?01的大約下半部浸漬的程度。移動機(jī)構(gòu)203利用氣體吸附，將涂布對象物W吸附保持，沿著與輥?zhàn)?01的軸成直角相交的水平單方向(圖1的箭頭B的方向)移動，將涂布對象物W移送至輥?zhàn)?01上方的漿料涂布位置。
在前述輥?zhàn)?01的外周面，如圖26所示，在整個(gè)外周形成截面呈J字形的環(huán)形槽206。該環(huán)形槽206是為了在內(nèi)部以厚的液厚保持漿料P用的部(漿料保持部)。該環(huán)形槽206的寬度D設(shè)定比涂布對象物W的寬度d要寬，使得涂布對象物W進(jìn)入該環(huán)形槽206內(nèi)時(shí)，保持兩側(cè)存在間隙的狀態(tài)。
在上述結(jié)構(gòu)中，漿料槽202內(nèi)的漿料P附著在輥?zhàn)?01的整個(gè)外周面，即附著在大直徑部的外周面及環(huán)形槽206的內(nèi)表面，在輥?zhàn)?01的外周面形成厚的漿料P層，在這樣的狀態(tài)下，隨著輥?zhàn)?01單方向旋轉(zhuǎn)，向液厚調(diào)整板201一側(cè)卷起，對該漿料P層由于液厚調(diào)整板204的作用，多余漿料P被刮去，在輥?zhàn)?01外周面附著的漿料P中，幾乎僅僅只有填充在環(huán)形槽206內(nèi)的部被送至涂布對象物W的通過位置。
在這種情況下，環(huán)形槽206內(nèi)的漿料P具有比涂布對象物W的高度足夠厚的液厚。該漿料P由于在環(huán)形槽206的寬度D內(nèi)與環(huán)形槽206的底面及兩側(cè)壁面接觸，因此相對其數(shù)量來說，與輥?zhàn)?01的接觸面積大，對輥?zhàn)?01的附著力大，即使輥?zhàn)痈咚傩D(zhuǎn)，也處于不飛濺的狀態(tài)，保持在環(huán)形槽206內(nèi)。
另外，在輥?zhàn)?01的上部，利用移送機(jī)構(gòu)203水平移送過來的涂布對象物W進(jìn)入環(huán)形槽206內(nèi)，該漿料涂布側(cè)部浸漬在環(huán)形槽206內(nèi)的漿料P中。在這種情況下，由于環(huán)形槽206的大小相對于涂布對象物W有余量，因此如圖27所示，涂布對象物W深深地浸漬在環(huán)形槽206內(nèi)的漿料P中，同時(shí)環(huán)行槽206內(nèi)的漿料P從涂布對象物W的下面?zhèn)壤@回到側(cè)面，因此也附著在側(cè)面。因此，對涂布對象物W涂布大量漿料P。
在上述實(shí)施例中，作為在輥?zhàn)?01外周面形成的環(huán)形槽，所示的是截面為I字形的環(huán)形槽206，但也可以采用外徑一側(cè)敞開的環(huán)形槽，或截面為U字形的環(huán)形槽等形狀各異的環(huán)形槽，環(huán)形槽206的形狀不限定于上述實(shí)施例圖示的的形狀。
另外，在上述第3實(shí)施例中所示的是寬度為一定的環(huán)形槽206，但若輥?zhàn)?01分成幾部構(gòu)成，則環(huán)形槽206的寬度D為可變的。例如，輥?zhàn)?01若由環(huán)形槽206的底部為外徑的軸及嵌入該軸的外周的2個(gè)環(huán)形大直徑部構(gòu)成，則通過改變軸上大直徑部的間的間隔，可改變環(huán)形槽206的寬度D。因而，本發(fā)明中也包含環(huán)形槽206的寬度D為可變的情況。
另外，對輥?zhàn)?01外周面供給漿料P的供料部不限定于圖25所示的漿料槽202，如圖28及圖29所示，也可以采用不同結(jié)構(gòu)的漿料漿料供料部。
圖28為上述第3實(shí)施例的變形例有關(guān)的漿料涂布裝置的輥?zhàn)硬靠v向剖面?zhèn)纫晥D。在該變形例中，輥?zhàn)?01的外周面及與該輥?zhàn)?01的外周面以接觸或不接觸狀態(tài)設(shè)置的液厚調(diào)整板204構(gòu)成對輥?zhàn)?01外周面的漿料供料部207，在兩者的間上面敞開的空間貯存漿料P。符號208為接受多余漿料的漿料接受部，209為其殼體。
另外，在輥?zhàn)?01的外周面形成作為漿料保持部的環(huán)形槽206這一點(diǎn)，與上述實(shí)施例中圖示的輥?zhàn)?01相同。另外，在輥?zhàn)?01上設(shè)置涂布對象物的移送機(jī)構(gòu)，這在圖28中的圖示省略。
圖29為上述第3實(shí)施例的其它變形例有關(guān)的漿料涂布裝置的輥?zhàn)硬靠v向剖面?zhèn)纫晥D。在該變形例中，輥?zhàn)?01的外周面及與該輥?zhàn)?01的餐周面接觸旋轉(zhuǎn)的輔助輥210構(gòu)成對輥?zhàn)?01的外周面的漿料供料部211，在兩者的間上面敞開的空間貯存漿料P。輥?zhàn)?01與輔助輥210設(shè)置在漿料接受部208內(nèi)。
另外，在該其它變形例中，在輥?zhàn)?01的外周面形成作為漿料保持部的環(huán)形槽206這一點(diǎn)，以及圖示省略的在輥?zhàn)?01上設(shè)置的涂布對象物的移送機(jī)構(gòu)這一點(diǎn)，也與上述實(shí)施例的情況相同。
下面，圖30至圖32表示本發(fā)明的第4實(shí)施例，圖30為漿料涂布裝置的縱向剖面?zhèn)纫晥D，圖31為前述裝置的主要部即輥?zhàn)拥钠矫鎴D，圖32為作用說明圖。
在該實(shí)施例中，作為漿料保持部是在輥?zhàn)?01的餐周面設(shè)置多條纖維狀的絲或軟樹質(zhì)制成的線等那樣的柔性線狀體12，通過這樣形成漿料P的柔軟保持層213。該柔軟保持層213的線條體212的相互的間有相互連續(xù)的間隙214，該間隙214成為保持漿料P的間隙。
在該實(shí)施例中，作為漿料供料部有漿料槽202，另外在輥?zhàn)?01上設(shè)置涂布對象物W的移送機(jī)構(gòu)203，這一點(diǎn)與上述實(shí)施例的情況相同。因而，與上述實(shí)施例的裝置公共的部附加相同的符號。
在本實(shí)施例的結(jié)構(gòu)中，由線狀體212構(gòu)成的柔軟保持層213以相當(dāng)于線狀體212豎立高度的液厚保持漿料P。涂布對象物W利用移送機(jī)構(gòu)203送入該柔軟保持層213。由于構(gòu)成柔軟保持層213的線狀體212是柔軟的，因此如圖32所示，為了避開涂布對象物W而產(chǎn)生變形，允許涂布對象物W深入柔軟保持層213內(nèi)。與此同時(shí)，浸漬在線狀體212的間的間隙214包合的漿體P中，漿體P附著在涂布對象物W上。這樣，涂布對象物W深深地浸漬在漿料P層中，在其下面到側(cè)面部涂布大量的漿料P。
圖33至圖35表示本發(fā)明第5實(shí)施例，圖33為輥?zhàn)觽?cè)視圖，圖34為輥?zhàn)悠矫鎴D，圖35為作用說明圖。
在本實(shí)施例中，利用從輥?zhàn)?01外周面呈放射狀突出的多條彈性突起215形成柔軟保持層213。在彈性突起215的相互的間是相互連續(xù)的間隙216，該間隙216成為保持漿料P的間隙。彈性突起215可以設(shè)置在輥?zhàn)?01的外周面，也可以用同一彈性體構(gòu)成輥?zhàn)?01的外周側(cè)的部，將該部與彈性突起215進(jìn)行一體成形。輥?zhàn)?01及柔軟保持層213以外的部可以與上述實(shí)施例相同。
在本實(shí)施例中，由彈性突起215構(gòu)成的柔軟保持層213以相當(dāng)于彈性突起215豎立高度的液厚保持漿料P。若涂布對象物W被送入該柔軟保持層213，則彈性突起215如圖35所示，為了避開涂布對象物W而產(chǎn)生變形，與此同時(shí)，彈性突起215的間的間隙216包含的漿體P向涂布對象物W一側(cè)流動起來，附著在涂布對象物W上。通過這樣，對涂布對象物W涂布大量的漿料P。
圖36至圖38表示本發(fā)明第6實(shí)施例，圖36為輥?zhàn)拥目v向剖面?zhèn)纫晥D，圖37為輥?zhàn)悠矫鎴D，圖38為作用說明圖。
在本實(shí)施例中，由在外徑一側(cè)具有敞開的許多間隙217的彈性體218形成漿料P的柔軟保持層213。作為構(gòu)成該柔軟保持層213的材料有海棉或用海棉加工的樹脂形成有連續(xù)氣泡的材料等。彈性體218中的間隙217成為保持漿料P的間隙。輥?zhàn)?01及柔軟保持層213以外的部與上述實(shí)施例相同。
在本實(shí)施例中，由彈性體218構(gòu)成的柔軟保持層213以相當(dāng)于彈性體218的厚度的液厚保持漿料P。若涂布對象物W被送入該柔軟保持層213，則彈性體218如圖38所示，產(chǎn)生凹下變形，與此同時(shí)，彈性體218的間隙217包含的漿體P向涂布對象物W一側(cè)流動起來，附著在涂布對象物W上。通過這樣，對涂布對象物W涂布布大量的漿料P。
在上述各實(shí)施例中，漿料P的柔軟保持層213是由柔性線狀體212，彈性突起215或海棉狀彈性體218構(gòu)成的，但是柔軟保持層213也可以利用其它材料構(gòu)成。柔軟保持層213只要在輥?zhàn)?13的外周而利用柔軟的構(gòu)件形成內(nèi)側(cè)具有漿料保持間隙的即可。
另外，在上述各實(shí)施例中，也如圖30中所示，采用漿料槽202作為漿料供料部，但也可以采用圖28圖示的漿料供料部207或圖29圖示的漿料供料部211。
下面根據(jù)

本發(fā)明有親的第7漿料涂布裝置。圖40至圖43表示本發(fā)明第7實(shí)施例，圖40為第7實(shí)施例有關(guān)的漿料涂布裝置的縱向剖面?zhèn)纫晥D，圖41為其平面圖，圖42表示圖40裝置的一部分即輥?zhàn)优c其它構(gòu)件的位置關(guān)系的配置說明圖，圖43為從輥?zhàn)右粋?cè)來看圖40裝置的一部分即刮去構(gòu)件及液厚調(diào)整構(gòu)件等的正視圖。
在這些圖中，符號301為輥?zhàn)樱?02為涂布位置設(shè)定機(jī)構(gòu)，在圖40中表示其吸附頭部。303為接受從輥?zhàn)?一側(cè)滴下的漿料P的漿料接受部，304為其殼體。
所述輥?zhàn)?01設(shè)置在漿料接受部303內(nèi)，使其上部露出外面，并沿單方面(圖40的箭頭A的方向)旋轉(zhuǎn)。涂布位置設(shè)定機(jī)構(gòu)302在該實(shí)施例中，是利用氣體吸附將涂布對象物W吸附保持，將它送到輥?zhàn)?01外周面上方所需要位置處設(shè)定的涂布位置。該涂布位置設(shè)定機(jī)構(gòu)302可以相對于前述涂布位置沿左右方向移送涂布對象物W，也可以上下移送。
在比涂布對象物W的漿料涂布位置的輥?zhàn)?01旋轉(zhuǎn)方向A的前方，在與輥?zhàn)?01外周面相對面的位置，設(shè)置液厚調(diào)整構(gòu)件305及刮去構(gòu)件306。
液厚調(diào)整構(gòu)件305是刮去輥?zhàn)?01外周面的多余漿料P以調(diào)整附著漿料P的液厚的構(gòu)件。因而，該液厚調(diào)整構(gòu)件305的前端與輥?zhàn)?01外周面的間隔(圖42所示)與輥?zhàn)?01外周面的漿料P的附著厚度對應(yīng)。圖示的液厚調(diào)整構(gòu)件5為前端尖銳的刮漿板狀的板體。安裝在漿料接受部303的殼體304上。
在該第7實(shí)施例中，液厚調(diào)整構(gòu)件305及與其相對面的輥?zhàn)?01外周而形成對輥?zhàn)?01外周面供給漿料P的漿料供料部307，在兩者的間上方敞開的空間貯存漿料P。
刮去構(gòu)件306是刮去輥?zhàn)?01外周面附著的漿料P的構(gòu)件。如圖41所圖示，其寬度A比液厚調(diào)整件305的寬度B要窄，比涂布對象物W的寬度C要寬(B＞A＞C)。
該刮去構(gòu)件306隔著墊片308配置在前述液厚調(diào)整構(gòu)件305的上方位置，其前端相對于輥?zhàn)?01外周而為非接觸。然后，如圖42所圖示，刮去構(gòu)件306的前端與輥?zhàn)?01外周面的間隔D設(shè)定為利用涂布位置設(shè)定機(jī)構(gòu)302定位在涂布位置的涂布對象物W與輥?zhàn)?01外周面的間隔E要窄(E＞D)。另外，定位在涂布位置的涂布對象物W與輥?zhàn)?01外周面的間隔E比液厚調(diào)整構(gòu)件305的前端與輥?zhàn)?01外周面的間隔F要窄(F＞E)。
在前述液厚調(diào)整構(gòu)件305的兩側(cè)，設(shè)置在液厚調(diào)整構(gòu)件305一側(cè)阻擋漿料P的橫向阻擋體309及309。這些橫向阻擋體309及309面向輥?zhàn)?01張開，同時(shí)從液厚調(diào)整構(gòu)件305豎起，使其從兩側(cè)包圍前述刮去構(gòu)件306，兩橫向阻擋體309與309的間的間隔隨著沿輥?zhàn)?01的旋轉(zhuǎn)方向前進(jìn)而變窄。另外，橫向阻擋體309在輥?zhàn)?01一側(cè)的前端邊緣與輥?zhàn)?01外周面對應(yīng)，呈圓孤狀凹進(jìn)去的形狀。
在上述結(jié)構(gòu)中，從液厚調(diào)整構(gòu)件305上形成的漿料供料部307對輥?zhàn)?01外周面供給漿料P，同時(shí)該漿料P的附著厚度利用液厚調(diào)整構(gòu)件305調(diào)整為規(guī)定的厚度，該附著漿料P隨著輥?zhàn)?01旋轉(zhuǎn)，向輥?zhàn)?01外周的上方送去。
利用涂布位置設(shè)定機(jī)構(gòu)302將涂布對象物W移送到輥?zhàn)?01外周的上方所需要的位置然后涂布對象物W的下面部浸漬在輥?zhàn)?01外周面的附著漿料P中，在其下面部涂布漿料P。
通過該涂布位置的附著漿料P面向刮去構(gòu)件306一側(cè)，在刮去構(gòu)件306的位置，利用刮去構(gòu)件306括去附著漿料P的表層部。該表層部是從附著漿料P的表面到比涂布對象物W的浸漬深度更深層為上的部，是暴露在外氣或在涂布對象物W浸漬區(qū)域不對涂布對象物W涂布的多余部。
附著漿料P中的括去的表層部從刮去構(gòu)件306的兩側(cè)向其下邊的漿料供料部307流去。在這種情況下，在刮去構(gòu)件306兩側(cè)的一對橫向阻擋體309及309進(jìn)行導(dǎo)向，使得流下的漿料P不流出到漿料供料部307的外面。比附著漿料P的表層部更內(nèi)層的部一旦露出在外面后，則進(jìn)入漿料供料部307。在漿料供料部7，附著漿料P的表層部及其內(nèi)層部與貯存在漿料供料部307的其它漿料P互相混合。
這樣，由于利用刮去構(gòu)件306將附著漿料P強(qiáng)強(qiáng)分開，而在漿料供料部307又與其它漿料混合因此整個(gè)漿料P自己充分?jǐn)嚢?，這樣將抑制因整個(gè)漿料P干燥而引起的粘度變化，對涂布對象物W的漿料涂布量穩(wěn)定。另外，由于括去的表層部的冰料P返回漿料供料部307，因此漿料P的減少量抑制到所需要的最低限度。因此，能夠長時(shí)間連續(xù)使用漿料P。
在這種情況下，由于刮去構(gòu)件306不與輥?zhàn)?01接觸，因此無摩損，不會產(chǎn)生因摩損粉末而引起的漿料P的質(zhì)量下降。另外，括去構(gòu)件306與輥?zhàn)?01也不產(chǎn)生磨擦熱，不會產(chǎn)生因兩者的磨擦熱而引起的漿料P的劣化及硬化。再有，括去構(gòu)件306由于不摩損，因此不需要調(diào)整與輥?zhàn)?01的間隔，括去構(gòu)件306本身更換的頻次也只要很少即可。
下面，圖44至圖48表示本發(fā)明的第8實(shí)施例，圖44為第8實(shí)施例有關(guān)的漿料涂布裝置的縱向剖面?zhèn)纫晥D，圖45為其平面圖，圖46表示圖44裝置的一部分即輥?zhàn)优c其它構(gòu)件的位置關(guān)系的配置說明圖。圖47為從輥?zhàn)右粋?cè)來看圖44裝置的一部分即液厚調(diào)整構(gòu)件及橫向阻擋體的正視圖，圖48為圖47的(9)-(9)線的橫向剖面平面圖。
在這些圖中，與圖40至圖43的第7實(shí)施例裝置的各部對應(yīng)的部用與第7實(shí)施例相同的符號表示。在該第8實(shí)施例中，貯存漿料P的漿料槽3 10是對輥?zhàn)?01外周面供給漿料P的漿料供料部，該漿料槽310的上部是開口的，在該開口內(nèi)部設(shè)置輥?zhàn)?01。該輥?zhàn)?01沿單方向(圖44的箭頭A的方向)旋轉(zhuǎn)，使其處于上部從漿料槽310露出在外部的狀態(tài)。符號311為漿料槽310的殼體。
涂布位置設(shè)定機(jī)構(gòu)302與第7實(shí)施例相同，是利用氣體吸附將涂布對象物W吸附保持，將它送到輥?zhàn)?01外周面上方所需要位置處設(shè)定的涂布位置，是設(shè)置在輥?zhàn)?01的上方位置。圖44中給出該吸附頭部。該涂布位置設(shè)定機(jī)構(gòu)302是相對于所述涂布位置沿左右方向移送涂布對象物W，也可以上下移送。
在輥?zhàn)?01外周面相對面的位置，在比涂布對象物W的漿料涂布位置沿輥?zhàn)拥男D(zhuǎn)方向A靠近該位置前的一側(cè)配置液厚調(diào)整構(gòu)件305，在比涂布對象物W的漿料涂布位置沿輥?zhàn)拥男D(zhuǎn)方向A向前一側(cè)配置刮去構(gòu)件306。
液厚調(diào)整構(gòu)件305與第7實(shí)施例相同，是刮去輥?zhàn)?01外周面的多余漿料P以調(diào)整附著漿料P的液厚的構(gòu)件，該液厚調(diào)整構(gòu)中305的前端與端子301外周面的間隔，與輥?zhàn)?01外周面的漿料P的附著厚度P對應(yīng)。圖示的液厚調(diào)整構(gòu)件305前端尖銳的刮狀的板體，但也可以是有厚度的塊狀體，其形狀不限定于圖示的形狀。
在液厚調(diào)整構(gòu)件305的兩側(cè)，設(shè)置在液厚調(diào)整構(gòu)件一側(cè)阻擋漿料P的橫向阻擋體312及312。這些橫向阻擋體312及312面向輥?zhàn)?01張開，同時(shí)從液厚調(diào)整構(gòu)件305一側(cè)向漿料槽310的內(nèi)部下垂。兩個(gè)橫向阻擋體312與312的間的間隔隨著沿輥?zhàn)?01的旋轉(zhuǎn)方向前進(jìn)而變窄。橫向阻擋體312在輥?zhàn)?01一側(cè)的前端邊緣與輥?zhàn)?01外周面對應(yīng)，呈圓孤狀凹進(jìn)去的形狀。
括去構(gòu)件306與第7實(shí)施例相同，是刮去附著在輥?zhàn)?01外周面的漿料P的構(gòu)件，其前端相對于輥?zhàn)?01外周周為非接觸狀態(tài)。該刮去構(gòu)件306的寬度A比液厚調(diào)整構(gòu)件305的寬度V要窄，比涂布對象物W的寬度C要寬(B＞A＞C)。該刮去構(gòu)件306的前端突出在漿料槽310上。
然后，如圖46所圖示，括去構(gòu)件306的前端與輥?zhàn)?01外周面的間隔D設(shè)定為比利用涂布位置設(shè)定機(jī)構(gòu)302定位在涂布位置的涂布對象物W與輥?zhàn)?外周面的間隔E要窄(E＞D)。另外，定位在涂布位置的涂布對象物W與輥?zhàn)?01外周而的間隔E比液厚調(diào)整構(gòu)件305的前端與輥?zhàn)?01外周面的間隔F要窄(F＞E)。
在上述結(jié)構(gòu)中，從漿料槽310對輥?zhàn)?01外周面供給并附著的漿料P隨著輥?zhàn)?01旋轉(zhuǎn)，向液厚調(diào)整構(gòu)件305一側(cè)送去，利用該液厚調(diào)整構(gòu)件305，將該附著厚度調(diào)整為規(guī)定厚度，送向輥?zhàn)?01外周的上方。在輥?zhàn)?01外周的上方所需要位置，由于利用涂布位置設(shè)定機(jī)構(gòu)302移送過來的涂布對象物W的下面部浸漬在輥?zhàn)?01外周面的附著漿料P中，因此涂布對象物W的下面部涂布漿料P。
通過該涂布位置的附著漿料P接著受到刮去構(gòu)件306的作用，從附著漿料P中，刮去從表面到比涂布對象物W的浸漬深度更深的層為止的表層部。
在輥?zhàn)?01外周面的附著漿料P中括去的表層部，從刮去構(gòu)件306的兩側(cè)流下，流入在它下方的漿料槽310。比表層部更內(nèi)層的部，一旦露出在外面后，就進(jìn)入漿料槽310。在漿料槽310的內(nèi)部，附著漿料P的表層部，其內(nèi)層部與貯存在漿料槽310的其它漿料P互相混合。
這樣，整個(gè)漿料P自己充分?jǐn)嚢?，將抑制因整個(gè)漿料P干燥而引起的粘度變化，對涂布對象物W的漿料涂布量穩(wěn)定。另外，由于括去的表層部的漿料P返回漿料供料部310，因此漿料P的減少量抑制到所需要的最低限度。結(jié)果，能夠長時(shí)間連續(xù)使用漿料。
在這種情況下，由于刮去構(gòu)件306不與輥?zhàn)?01接觸，沒有摩損，因此不會產(chǎn)生因摩損粉末而引起的漿料P的質(zhì)量下降，不會產(chǎn)生因兩者的磨擦熱而引起的漿料P的劣化及硬化。另外，不需要調(diào)整括去構(gòu)件306與輥?zhàn)?01的間隔，刮去構(gòu)件306本身更換的頻次也只要很少即可。
另外，漿料槽310內(nèi)的漿料P雖由于其粘性的作用，將跟著輥?zhàn)?01的旋轉(zhuǎn)，向液厚調(diào)整部305一側(cè)移動，但由于在液厚調(diào)整構(gòu)件305的下方有橫向阻擋體312，因此很多的漿料P集中在液厚調(diào)整構(gòu)件305的下方，從液厚調(diào)整構(gòu)件305的前端供給輥?zhàn)?01外周面，成為輥?zhàn)?01外周面的附著漿料。
下面說明本發(fā)明的有關(guān)的第9漿料涂布裝置。圖49表示第9實(shí)施形態(tài)401的簡要剖視圖。另外，圖50表示漿料涂布裝置的主要部即輥?zhàn)硬?，圖50(a)為其平面圖，圖50(b)為其A-A’面的剖視圖。另外，圖51表示漿料涂布裝置的主要部即輥?zhàn)硬康淖冃卫?，圖51(a)為其平面圖，圖51(b)為其B-B’面的剖視圖。
圖49所示的漿料涂布裝置401具有底座部409，設(shè)置在底座部409的半圓形凹入部409b的能夠旋轉(zhuǎn)的輥?zhàn)?02，相對于輥?zhàn)?02設(shè)置一定的間隙并設(shè)置在底座部409的刮漿板405，以及漿料供料機(jī)構(gòu)(圖中省略)。另外，漿料涂布裝置401在輥?zhàn)?02的上方具有由吸附涂布對象物407的吸嘴406a及吸附頭406b構(gòu)成的涂布位置設(shè)定機(jī)構(gòu)406。
輥?zhàn)?02具有中心軸402a，輪圈狀外周部隊(duì)402b，以及將中心軸402a及外周部隊(duì)402b連接的葉片狀送風(fēng)板402c。該送風(fēng)板402c隨著輥?zhàn)?02的旋轉(zhuǎn)，面向輥?zhàn)?02的外周部402b產(chǎn)生空氣流動，對外周部402b進(jìn)行空氣冷卻，同時(shí)送風(fēng)板402c本身受到風(fēng)吹，因而起到用熱的作用，關(guān)于構(gòu)成輥?zhàn)?02的材料，沒有特別限定，可以采用金屬，樹脂，陶瓷等各種材料。最好采用不與使用的漿料反應(yīng)產(chǎn)生溶解，溶脹或變形的材料。特別希望采用耐腐蝕性及防銹性能優(yōu)異的不銹鋼，或熱導(dǎo)率高及空氣冷卻效果也的銅，鉛待金屬。在本實(shí)施形態(tài)中，使用耐腐蝕及防銹性能優(yōu)異的不銹鋼。另外，送風(fēng)板402c的形狀及片數(shù)不限定圖示的情況，可以有各種應(yīng)用及變形。
另外，還可以采用圖51所示的輥?zhàn)?03，以代替輥?zhàn)?02。該輥?zhàn)?03具有輪圈狀的外周部403b及板狀本體403d，本體403d具有沿本體403d的軸向突了的形狀而配置的送風(fēng)板403c。隨著輥?zhàn)?03的旋轉(zhuǎn)，送風(fēng)板403c產(chǎn)生空氣流動，起以對輥?zhàn)?03的外周部403b進(jìn)行空氣冷卻的作用，另外送風(fēng)板403c本身受到風(fēng)吹，因而起到散熱的作用。另外，送風(fēng)板的形狀及片數(shù)等不限定于圖示的情況，可以有各種應(yīng)用及變形。
刮漿板405是設(shè)置在底座部409的平板，使其相對于輥?zhàn)?02具有一定的間隙。材料雖沒有特別限定，但最好是不與使用的漿料反應(yīng)產(chǎn)生溶解，溶脹或變形等的金屬，樹脂，陶瓷等。
涂布位置設(shè)定機(jī)構(gòu)406使涂布對象物407移動至規(guī)定位置，使得涂布對象物407的下面附著漿料，具有利用真空吸附將涂布對象物407附著漿料，具有利用真空吸附將涂布對象物407吸附保持的吸嘴406a，以及使吸嘴406a沿水平方向移動的吸附頭406b。吸嘴406a沿吸附頭406b的驅(qū)動方向，在吸附頭406b上設(shè)置4個(gè)。另外，吸嘴406a是分別上下驅(qū)動，取出涂布對象物407或放下，吸附頭406b沿著在與輥?zhàn)?02的中心軸垂直的水平方向(箭頭N1方向)設(shè)置的導(dǎo)軌(圖中省略)進(jìn)行往復(fù)驅(qū)動。
漿料供料機(jī)構(gòu)(圖中省略)是氣動式分料器，隔一定的時(shí)間間隔自動向漿料貯存處410供給漿料。另外，漿料供料機(jī)構(gòu)配置在漿料貯存處410與涂布位置設(shè)定機(jī)構(gòu)406的間，要使其不妨礙涂布位置設(shè)定機(jī)構(gòu)406的移動，從漿料供料口向漿料貯存處410供給漿料。
底座部409為具有半圓形凹入部409b的近似長方體形狀。在該凹入部409b設(shè)置能夠旋轉(zhuǎn)的輥?zhàn)?02，輥?zhàn)?02的上半部從底座部409露出。另外，在底座部409設(shè)置支持輥?zhàn)?02的中心軸402a的輥?zhàn)又С植?未圖示)。
下面用上述漿料涂布裝置401說明涂布漿料的方法。首先，使輥?zhàn)?02沿單方向(圖49中箭頭N2的方向)旋轉(zhuǎn)。另外，從漿料供料機(jī)構(gòu)供給漿料，在外周部402b附著漿料。再利用刮漿板405的作用，將附著的漿料中的多余漿料刮去，在輥?zhàn)?02的外周部402b表面形成一定厚度的漿料層404。
另一方面，涂布位置設(shè)定機(jī)構(gòu)406用吸嘴406a吸附涂布對象物407，沿與輥?zhàn)?02的中心賀方向垂直相交的水平單方向(圖49中箭頭N1的方向)移送涂布對象物407。涂布對象物407保持規(guī)定的高度，在輥?zhàn)?02的上方浸漬在漿料層404中，對涂布對象物407的漿料涂布過程結(jié)束。
另外，在本發(fā)明中是使涂布位置設(shè)定機(jī)構(gòu)406移動，也可以構(gòu)成為是使輥?zhàn)?02移動，也可以使涂布位置設(shè)定機(jī)構(gòu)406及輥?zhàn)?02的兩方面移動。另外，除布對象物407浸漬在漿料層404中，不限于在輥?zhàn)拥纳戏剑部梢詷?gòu)成為在橫向或下方與漿料層404接觸。
然而，在漿料涂布裝置401中，在利用刮漿板405的作用將漿料層404調(diào)整為一定厚度時(shí)，在刮漿板405的旋轉(zhuǎn)，該磨擦熱增大，漿料層404的溫度將上升，但是由于送風(fēng)板402c也與輥?zhàn)?02一起旋轉(zhuǎn)，因而能夠抑制輥?zhàn)?02的外周部402b的溫度上升，將外周部402b形成的漿料層404的溫度保持一定。
本發(fā)明在輥?zhàn)訄A周速度在200mm/s以上時(shí)，能夠得到一定的效果，特別是輥?zhàn)拥膱A周速度在1000mm/s以上時(shí)，能夠得到更高的效果。
圖52為本發(fā)明有關(guān)的第10漿料涂布裝置的簡要剖視圖。該涂布裝置401的特征在于，在底座部409形成的半圓形凹入部409b貯存輥?zhàn)?02的下部浸漬那樣程度數(shù)量的漿料。隨著輥?zhàn)?02的旋轉(zhuǎn)，貯存的漿料附著在輥?zhàn)?02的外周面402b，附著在輥?zhàn)?02上的漿料利用刮漿板405調(diào)整為規(guī)定的厚度。另外，由于其它結(jié)構(gòu)與實(shí)施例1相同，因此省略說明。
權(quán)利要求
1.一種漿料涂布裝置，其特征在于，在基體表面形成一定層厚的漿料層，將所述漿料層與基體一起移動的路徑作為側(cè)視的圓孤狀路徑，被涂布體沿所述漿料層移動的所述圓孤狀路徑的切線方向移動的過程中，借助于所述被涂布體對所述漿料層進(jìn)入到一定深度，對被涂布體進(jìn)行漿料涂布，具有設(shè)定所述被涂布體的移動速度與所述漿料層的移動速度的速度差，使得在對所述被涂布體涂附漿料的漿料涂布時(shí)，對所述被涂布體的前側(cè)部及后側(cè)部均勻涂布漿料。
2.如權(quán)利要求1所述的漿料涂布裝置，其特征在于，所述圓孤狀路徑利用圓柱形輥?zhàn)拥耐庵苊嬖O(shè)定，所述漿料層涂布在所述圓孤狀路徑的表面，同時(shí)具有對所述圓孤狀路徑的表面給漿料的供料部，以及及使所述圓孤狀路徑表面漿料層的層厚為一定的層厚調(diào)整部。
3.如權(quán)利要求1或2所述的漿料涂布裝置，其特征在于，所述設(shè)定裝置根據(jù)對所述被涂布體涂布漿料的位置處的從所述圓孤路徑的圓孤中心至所述漿料層表面的距離，所述被涂布體向所述漿料層中的浸漬深度，以及所述被涂布體的外形尺寸，設(shè)定漿料涂布時(shí)的所述漿料層的移動速度與所述被涂布體的移動速度的速度差。
4.如權(quán)利要求1所述的漿料涂布裝置，其特征在于，所述基體由旋轉(zhuǎn)驅(qū)動的圓柱形輥?zhàn)訕?gòu)成，同時(shí)具有對所述輥?zhàn)颖砻婀┙o漿料的供料部，以及使所述昆了表面的漿料的層厚為一定的層厚調(diào)整部。
5.如權(quán)利要求4所述的漿料涂布裝置，其特征在于，所述設(shè)定裝置根據(jù)對所述被涂布體涂布漿料的位置處的從所述輥?zhàn)拥闹行闹了鰸{料層表面的距離，所述被涂布體向所述漿料層中的浸漬深度，以及所述被涂布體的外形尺寸，設(shè)定漿料涂布時(shí)的所述漿料層的移動速度與所述被涂布體的移動速度的速度差。
6.如權(quán)利要求1或2所述的漿料涂布裝置，其特征在于，在漿料涂布時(shí)，所述設(shè)定裝置將所述漿料層的移動速度設(shè)定為大于所述被涂布體的移動速度。
7.如權(quán)利要求1或2所述的漿料涂布裝置，其特征在于，所述設(shè)定裝置設(shè)定所述速度差，使得在所述被涂布裝置的移動方向的所述前側(cè)部與所述后側(cè)部浸漬在所述漿料層中時(shí)，在分別對所述漿料層浸漬的移動軌跡中，其浸漬開始位置及浸漬結(jié)束位置一致。
8.一種漿料涂布方法，其特征在于，在基體表面形成一定層厚的漿料層，將所述漿料層與基體一起移動的路徑作為側(cè)視的圓孤狀路徑，被涂布體沿所述漿料層移動的所述圓孤狀路徑的切線方向移動的過程中，借助于所述被涂布體對所述漿料層進(jìn)入到一定深度，對被涂布體進(jìn)行漿料涂布，設(shè)定所述被涂布體在漿料涂布時(shí)的移動速度與所述漿料層在漿料涂布時(shí)的移動速度的速度差，使得對所述被涂布體的前側(cè)部與后側(cè)部均勻涂布漿料，對所述被涂布體涂布漿料。
9.如權(quán)利要求1或2所述的漿料涂布裝置，其特征在于，包含具有在外周面供給漿料的輥?zhàn)?，及將涂布對象物送至所述輥?zhàn)由戏剿枰恢玫囊扑蜋C(jī)構(gòu)，并通過所述輥?zhàn)訉ν坎紝ο笪锿坎紳{料的裝置，在所述輥?zhàn)拥耐庵苊嬖O(shè)置所述涂布對象物的至少一部分能夠進(jìn)入而且能夠保持漿料的漿料保持部。
10.如權(quán)利要求9所述的漿料涂布裝置，其特征在于，所述漿料保持部是在輥?zhàn)油庵芏貓A周方向形成的環(huán)形槽，該環(huán)形槽的大小設(shè)定為涂布對象物的漿料涂布側(cè)部能夠進(jìn)入并存在間隙的大小。
11.如權(quán)利要求9所述的漿料涂布裝置，其特征在于，所述漿料保持部是在輥?zhàn)油庵苊胬萌彳洏?gòu)件形成的柔軟保持層，該柔軟保持層在內(nèi)側(cè)具有漿料保持間隙。
12.如權(quán)利要求11所述的漿料涂布裝置，其特征在于，所述柔軟保持層由在所述輥?zhàn)油庵苊嬖O(shè)置的多條柔性線狀體構(gòu)成。
13.如權(quán)利要求11所述的漿料涂布裝置，其特征在于，所述柔軟保持層由從輥?zhàn)油庵苊娉史派錉钔怀龅亩鄺l彈性突起構(gòu)成。
14.如權(quán)利要求11所述的漿料涂布裝置，其特征在于，所述柔軟保持層由具有在外徑側(cè)開口的許多間隙的彈性體構(gòu)成。
15.如權(quán)利要求1或2所述的漿料涂布裝置，其特征在于，具有對外周面供給漿料的輥?zhàn)?，設(shè)定所述輥?zhàn)优c所述涂布對象物的相對位置使得涂布對象物的至少一部分浸漬在所述輥?zhàn)油庵苊娓街难b料中所需要深度的涂布位置設(shè)定機(jī)構(gòu)，以及刮去所述輥?zhàn)油庵苊娓街臐{料的刮去構(gòu)件，所述刮去構(gòu)件相對于所述輥?zhàn)油庵苊嫣幱诜墙佑|狀態(tài)，以比浸漬在所述附著漿料的涂布對象物的浸漬深度還要深的刮去深度，刮去漿料。
16.如權(quán)利要求15所述的漿料涂布裝置，其特征在于，還包括在所述輥?zhàn)油庵苊婀┙o漿料的漿料供料部。
17.如權(quán)利要求16所述的漿料涂布裝置，其特征在于，所述刮去構(gòu)件的至少前端配置在所述漿料供料部的上方，使得利用所述刮去構(gòu)件刮去的漿料利用自重流入所述漿料供料部。
18.如權(quán)利要求16所述的漿料涂布裝置，其特征在于，所述漿料供料部是上部開口，并在該開口側(cè)的內(nèi)部設(shè)置所述輥?zhàn)拥臐{料槽。
19.如權(quán)利要求17所述的漿料涂布裝置，其特征在于，所述漿料供料部是上部開口，并在該開口側(cè)的內(nèi)部設(shè)置所述輥?zhàn)拥臐{料槽。
20.如權(quán)利要求16所述的漿料涂布裝置，其特征在于，在所述刮去構(gòu)件的下方設(shè)置調(diào)整所述輥?zhàn)油庵苊娓街鴿{料的附著厚度的液厚調(diào)整構(gòu)件，在該液厚調(diào)整構(gòu)件的上面與所述輥?zhàn)油庵苊嫘纬伤鰸{料供料部。
21.如權(quán)利要求17所述的漿料涂布裝置，其特征在于，在所述刮去構(gòu)件的下方設(shè)置調(diào)整所述輥?zhàn)油庵苊娓街鴿{料的附著厚度的液厚調(diào)整構(gòu)件，在該液厚調(diào)整構(gòu)件的上面與所述輥?zhàn)油庵苊嫘纬伤鰸{料供料部。
22.如權(quán)利要求21所述的漿料涂布裝置，其特征在于，在所述液厚調(diào)整構(gòu)件的兩側(cè)垂直設(shè)置使?jié){料阻擋在液厚調(diào)整構(gòu)件一側(cè)的橫向阻擋體，形成從兩側(cè)包圍所述刮去構(gòu)件的形狀。
23.如權(quán)利要求15所述的漿料涂布裝置，其特征在于，所述涂布位置設(shè)定機(jī)構(gòu)是保持所述涂面對象物，并將它相對于所述輥?zhàn)油庵苊嫦蛩鏊枰耐坎嘉恢靡扑偷臋C(jī)構(gòu)。
24.如權(quán)利要求23所述的漿料涂布裝置，其特征在于，所述涂布位置設(shè)定機(jī)構(gòu)將所述涂布對象物在左右方向或上下方向移送。
25.如權(quán)利要求1或2所述的漿料涂布裝置，其特征在于，包含具有輪圈狀外周部的輥?zhàn)?，對所述輥?zhàn)油庵懿可瞎┙o漿料并形成漿料層的漿料供料機(jī)構(gòu)，以及設(shè)定所述輥?zhàn)优c所述涂布對象物的相對位置使得所述輥?zhàn)由系臐{料層與涂布對象物接觸而在所述涂布對象物的表面際著漿料的涂布位置設(shè)定機(jī)構(gòu)，所述輥?zhàn)泳哂欣迷撦佔(zhàn)有D(zhuǎn)產(chǎn)生氣流的送風(fēng)板。
26.如權(quán)利要求25所述的漿料涂布裝置，其特征在于，所述輥?zhàn)泳哂兄行妮S，輪圈狀外周部，以及連接所述中心軸與所述外周部的葉片狀的送風(fēng)板。
27.如權(quán)利要求25所述的漿料涂布裝置，其特征在于，所述輥?zhàn)泳哂邪鍫畋倔w，以及輪圈狀外周部，所述本體具有以向該本體軸向突出的形狀配置的送風(fēng)板。
28.一種漿料涂布裝置，其特征在于，包括對被涂布體轉(zhuǎn)印涂布漿料的涂布輥，對涂布輥的外周部供給漿料的裝置，以及刮去供給輥?zhàn)油庵懿康臐{料的多余部而在涂布輥的外周形成規(guī)定截面形的漿料層的漿料層形成構(gòu)件，設(shè)定所述漿料層形成構(gòu)件的形狀，使得漿料層形成寬度小于涂布輥的軸心方向?qū)挾鹊臐{料層，所述被涂布體利用能夠移動的吸附頭保持，同時(shí)所述吸附頭在旋轉(zhuǎn)的所述涂布輥上移動時(shí)，借助于將所述被涂布體浸漬在所述漿料層中，對所述被涂布體涂布漿料，所述漿料層形成構(gòu)件由前端部具有凹入部的固定刮漿板構(gòu)成。
29.如權(quán)利要求28所述的漿料涂布裝置，其特征在于，所述漿料層形成構(gòu)件由外周具有環(huán)形凹槽的旋轉(zhuǎn)輥構(gòu)成。
30.如權(quán)利要求28所述的漿料涂布裝置，其特征在于，在所述涂布輥的外周具有環(huán)形凸條，同時(shí)在所述漿料層形成構(gòu)件形成該環(huán)形凸條能夠嵌入的凹入部。
31.如權(quán)利要求29所述的漿料涂布裝置，其特征在于，在所述涂布輥的外周具有環(huán)形凸條，同時(shí)在所述漿料層形成構(gòu)件形成該環(huán)形凸條能夠嵌入的凹入部。
32.如權(quán)利要求28所述的漿料涂布裝置，其特征在于，所述漿料層形成構(gòu)件由前端部具有錐形凹入部的固定刮漿板構(gòu)成。
33.如權(quán)利要求29所述的漿料涂布裝置，其特征在于，所述漿料層形成構(gòu)件由前端部具有錐形的環(huán)形凹槽的旋轉(zhuǎn)輥構(gòu)成。
34.如權(quán)利要求4所述的漿料涂布裝置，其特征在于，在權(quán)利要求30所述的漿料涂布裝置中，所述涂布輥外周的兩邊緣部具有錐形的環(huán)形凸條，同時(shí)所述漿料層形成構(gòu)件形成該環(huán)形凸條能夠嵌入的凹入部。
35.如權(quán)利要求4所述的漿料涂布裝置，其特征在于，在權(quán)利要求31所述的漿料涂布裝置中，所述涂布輥外周的兩邊緣部具有錐形的環(huán)形凸條，同時(shí)在所述漿料層形成構(gòu)件形成該環(huán)形凸條能夠嵌入的凹入部。
36.如權(quán)利要求28或29所述的漿料涂布裝置，其特征在于，具有對外周面供給漿料的輥?zhàn)?，設(shè)定所述輥?zhàn)优c所述涂布對象物的相對位置使得涂布對象物的至少一部分浸漬在所述輥?zhàn)油庵苊娓街难b置料中所需要深度的涂布位置設(shè)定機(jī)構(gòu)，以及刮去所述構(gòu)件，相對于所述輥?zhàn)油庵苊嫣幱诜墙佑|狀態(tài)，以比浸漬在所述附著漿料的涂布對象物的浸漬深度還要深的刮去深度，刮去漿料。
37.如權(quán)利要求36所述的漿料涂布裝置，其特征在于，還包括所述輥?zhàn)油庵苊婀┙o漿料的漿料供料部。
38.如權(quán)利要求37所述的漿料涂布裝置，其特征在于，所述刮去構(gòu)件的至少前端配置在所述漿料供料部的上方，使得利用所述刮去構(gòu)件刮去的漿料利用自重流入所述漿料供料部。
39.如權(quán)利要求37所述的漿料涂布裝置，其特征在于，所述漿料供料部是上部開口，并在該開口側(cè)的內(nèi)部設(shè)置所述輥?zhàn)拥臐{料槽。
40.如權(quán)利要求38所述的漿料涂布裝置，其特征在于，所述漿料供料部是上部開口，并在該開口側(cè)的內(nèi)部設(shè)置所述輥?zhàn)拥臐{料槽。
41.如權(quán)利要求37所述的漿料涂布裝置，其特征在于，在所述刮去構(gòu)件的下方設(shè)置調(diào)整所述輥?zhàn)油庵苊娓街鴿{料的附著厚度的液厚調(diào)整構(gòu)件，在該液厚調(diào)整構(gòu)件的上面與所述輥?zhàn)油庵苊嫘纬伤鰸{料供料部。
42.如權(quán)利要求38所述的漿料涂布裝置，其特征在于，在所述刮去構(gòu)件的下方設(shè)置調(diào)整所述輥?zhàn)油庵苊娓街鴿{料的附著厚度的液厚調(diào)整構(gòu)件，在該液厚調(diào)整構(gòu)件的上面與所述輥?zhàn)油庵苊嫘纬伤鰸{料供料部。
43.如權(quán)利要求41所述的漿料涂布裝置，其特征在于，在所述液厚調(diào)整構(gòu)件的兩側(cè)垂直設(shè)置使?jié){料阻擋在液厚調(diào)整構(gòu)件一側(cè)的橫向阻擋塊，形成從兩側(cè)包圍所述刮去構(gòu)件的形狀。
44.如權(quán)利要求42所述的漿料涂布裝置，其特征在于，在所述液厚調(diào)整構(gòu)件的兩側(cè)重設(shè)置使?jié){料阻擋在液厚調(diào)整構(gòu)件-側(cè)的橫向阻擋體，形成從兩側(cè)包圍所述刮去構(gòu)件的形狀。
45.如權(quán)利要求36所述的漿料涂布裝置，其特征在于，所述涂布位置設(shè)定機(jī)構(gòu)是保持所述涂面對象物，并將它相對于所述輥?zhàn)油庵苊嫦蛩鏊枰耐坎嘉恢靡扑偷臋C(jī)構(gòu)。
46.如權(quán)利要求45所述的漿料涂布裝置，其特征在于，所述涂布位置設(shè)定機(jī)構(gòu)將所述涂布對象物在左右方向或上下方向移送。
47.如權(quán)利要求28或29所述的漿料涂布裝置，其特征在于，包含具有輪圈狀外周部的輥?zhàn)樱瑢λ鲚佔(zhàn)油庵懿可瞎┙o漿料并形成漿料層的漿料供料機(jī)構(gòu)，以及設(shè)定所述輥?zhàn)优c所述涂布對象物的相對位置使得所述輥?zhàn)由系臐{料層與涂布對象物接觸而在所述涂布對象物的表面際著漿料的涂布位置設(shè)定機(jī)構(gòu)，所述輥?zhàn)泳哂欣迷撦佔(zhàn)有D(zhuǎn)產(chǎn)生氣流的送風(fēng)板。
48.如權(quán)利要求47所述的漿料涂布裝置，其特征在于，所述輥?zhàn)泳哂兄行妮S，輪圈狀外周部，以及連接所述中心軸與所述外周部的葉片狀的送風(fēng)板。
49.如權(quán)利要求47所述的漿料涂布裝置，其特征在于，所述輥?zhàn)泳哂邪鍫畋倔w及輪圈狀外周部，所述本體具有以向該本體軸向突出的形狀配置的送風(fēng)板。
50.如權(quán)利要求1或2所述的漿料涂布裝置，其特征在于，具有對被涂布體轉(zhuǎn)印涂布漿料的涂布輥，對涂布輥的外周部供給漿料的裝置，刮去供給輥?zhàn)油庵懿康臐{料的多余部而在涂布輥的外周形成規(guī)定截面形的漿料層的漿料層形成構(gòu)件，設(shè)定所述漿料層形成構(gòu)件的形狀，使得漿料層形成寬度小于涂布輥的軸心方向?qū)挾鹊臐{料層，所述被涂布體利用能夠移動的吸附頭保持，同時(shí)所述吸附頭在旋轉(zhuǎn)的所述涂布輥上移動時(shí)，借助于將所述被涂布體浸漬在所述漿料層中，對所述被涂布體涂布漿料，所述漿料層形成構(gòu)件由前端部具有凹入部的固定刮漿板構(gòu)成。
51.如權(quán)利要求50所述的漿料涂布裝置，其特征在于，所述漿料層形成構(gòu)件由外周具有環(huán)形凹槽的旋轉(zhuǎn)輥構(gòu)成。
52.如權(quán)利要求50所述的漿料涂布裝置，其特征在于，在所述涂布輥的外周具有環(huán)形凸條，同時(shí)在所述漿料層形成構(gòu)件形成該環(huán)形凸條能夠嵌入的凹入部。
53.如權(quán)利要求51所述的漿料涂布裝置，其特征在于，在所述涂布輥的外周具有環(huán)形凸條，同時(shí)在所述漿料層形成構(gòu)件形成該環(huán)形凸條能夠嵌入的凹入部。
54.如權(quán)利要求50所述的漿料涂布裝置，其特征在于，所述漿料層形成構(gòu)件由前端部具有錐形凹入部的固定刮漿板構(gòu)成。
55.如權(quán)利要求51所述的漿料涂布裝置，其特征在于，所述漿料層形成構(gòu)件由前端部具有錐形的環(huán)形凹槽的旋轉(zhuǎn)輥構(gòu)成。
56.如權(quán)利要求4所述的漿料涂布裝置，其特征在于，在權(quán)利要求52所述的漿料涂布裝置中，所述涂布輥外周的兩邊緣部具有錐形的環(huán)形凸條，同時(shí)所述漿料層形成構(gòu)件形成該環(huán)形凸條能夠嵌入的凹入部。
57.如權(quán)利要求4所述的漿料涂布裝置，其特征在于，在權(quán)利要求53所述的漿料涂布裝置中，所述涂布輥外周的兩邊緣部具有錐形的環(huán)形凸條，同時(shí)在所述漿料層形成構(gòu)件形成該環(huán)形凸條能夠嵌入的凹入部。
全文摘要
本發(fā)明提供能夠以簡單的作業(yè)在被涂布體的前側(cè)部及后側(cè)部分別相等涂布漿料的漿料涂布裝置。它是這樣構(gòu)成，即基體2表面的一定層厚的漿料層3以一定速度沿側(cè)視的圓弧狀路徑移動，在被涂布體6沿漿料層3移動的圓弧狀路徑的切線方向以一定速度移動過程中，對漿料層3進(jìn)入至一定深度，通過這樣對該被涂布體6涂布漿料，在這樣的漿料涂布裝置中，設(shè)置設(shè)定被涂布體6漿料涂布時(shí)的移動速度與漿料層3在漿料涂布時(shí)的移動速度的速度差對被涂布體6涂布漿料的設(shè)定裝置，使得對被涂布體6的前側(cè)部與后側(cè)部相等涂布漿料。
文檔編號B05C1/08GK1421280SQ0215228
公開日2003年6月4日 申請日期2002年11月19日 優(yōu)先權(quán)日2001年11月19日
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