專利名稱：納米尺寸蒙脫土及其制備方法
技術領域：
本發明屬于納米技術領域，更具體地涉及到納米尺寸蒙脫土及其制備方法。適用于所有使用納米尺寸蒙脫土及其概念的領域。其特征在于具有高的比表面積、高活性和高分散性，具備納米材料的通性，如小尺寸效應、表面效應、光學效應。
目前，蒙脫土開發利用多局限于普通填充料，近年來應用于納米技術領域也只是局限于其層間結構，均為插層處理，以增大層間距為目的。
本發明的意圖在于將天然礦物蒙脫土經提純處理后，再經物理剪切或研磨處理得到穩定的納米尺寸蒙脫土。
以下結合實施例來說明本發明。應該注意的是這些實施例僅是本發明的部分實施方案，不是限制本發明的使用范圍實施例1取天然蒙脫石50g，加水500mL，溶化后濾去雜質，，加入31％鹽酸10mL進行酸化處理。酸化溫度50℃。酸化時間0.5小時，酸化后的蒙脫土反復用水清洗至PH值接近于5，用堿調至PH值接近于7，經攪拌剪切得到納米尺寸蒙脫土，經分析檢測平均粒徑小于20納米。
實施例2取天然蒙脫石50g，加水500mL，溶化后，加入31％鹽酸10mL進行酸化處理。酸化溫度30℃。酸化時間1小時，酸化后的蒙脫土濾去雜質，反復用水清洗至PH值接近于5，用堿調至PH值接近于7，經研磨處理得到納米尺寸蒙脫土，經分析檢測平均粒徑小于20納米。
實施例3取天然蒙脫石50g，加水300mL，溶化后，加入5g碳酸鈉進行離子交換處理。溫度30℃，時間24小時，處理后的蒙脫土濾去雜質，經剪切攪拌得到納米尺寸蒙脫土，經分析檢測平均粒徑小于30納米。
實施例4取天然蒙脫土50g，加水1000mL，溶化后，加入5g碳酸氫鈉進行離子交換處理。溫度20℃，時間48小時，處理后的蒙脫土濾去雜質，經剪切攪拌得到納米尺寸蒙脫土，經分析檢測平均粒徑小于30納米。
權利要求
1.一種納米尺寸蒙脫土，其特征在于它包含有一維、二維、三維的納米尺寸，具有高的比表面積、高活性和高分散性。
2.根據權利要求1所述的納米尺寸蒙脫土，其特征在于所述的納米尺寸范圍為1-100納米。
3.根據權利要求1所述的納米尺寸蒙脫土，其特征在于所述的蒙脫土為鈉基或鈣基蒙脫土和天然漂白土。
4.根據權利要求1所述的納米尺寸蒙脫土及其制備方法，其特征在于按下述步驟進行(1)對天然蒙脫土進行酸化處理。加酸量50-1000meq/100g土，酸化溫度0-120℃。酸化時間0.1-24小時；(2)對上述酸化后的蒙脫土反復清洗至PH值接近于4-6，或用堿調至PH值4-9，經物理剪切或研磨得到納米尺寸蒙脫土；或對天然蒙脫土進行離子交換處理，并伴以物理剪切或研磨處理，得到穩定的納米尺寸蒙脫土。
5.如權利要求3所述的酸化過程，可使用鹽酸、硝酸、硫酸等質子酸。
6.如權利要求3所述的離子交換過程，可使用碳酸鈉或碳酸氫鈉或其它鈉鹽。
全文摘要
本發明屬于納米技術領域，更具體地涉及到納米尺寸蒙脫土及其制備方法。適用于所有使用納米尺寸蒙脫土及其概念的領域。其特征在于具有高的比表面積、高活性和高分散性，具備納米材料的通性，如小尺寸效應、表面效應、光學效應。
文檔編號C09C1/40GK1468912SQ0212552
公開日2004年1月21日 申請日期2002年7月18日 優先權日2002年7月18日
發明者李偉, 菅文廣, 毛樹紅, 李 偉 申請人:李偉, 菅文廣, 李 偉