專利名稱：氣體噴嘴的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及冶金行業領域，具體地說是一種用于硅鐵或工業硅等產品爐外精煉使用的氣體噴嘴。
在硅鐵或工業硅治煉的過程中，原料中往往含有鋁、鈣等雜質，進而影響冶煉產品的純度，為了提高其純度，需進一步進行精煉，通常采用精煉過程中噴入壓縮空氣或氧氣以獎鋁、鈣氧化除去。現有技術中使用的氣體噴嘴為狹縫式，狹縫阻力大，其在使用時對氣體壓力有較高的要求，不但要求氣體壓力穩定，而且要壓力要高，才能保持較好噴吹效果，但生產現場所提供氣體壓力又很難保證穩定，且氣壓低時，狹縫易被堵塞，進一步影響氣體的噴入，從而影響精煉。
本實用新型的目的在于提供一種能適應不同氣壓要求、結構合理、制作簡單、使用效果好、成本低的氣體噴嘴。
本實用新型的目的可以通過以下措施來實現一種氣體噴嘴，包括氣盒和噴嘴體，氣盒與噴嘴體為相觸，氣盒上開有進氣孔，噴嘴體內設有輸氣管，輸氣管一端與氣盒內相通，另一端與噴嘴體外部相通。
本實用新型相比現有技術具有如下優點本實用新型一改傳統氣體噴嘴的狹縫式結構為管式結構，氣體阻力減小，能適應氣體不同壓力的要求，對生產現場的氣體條件降低了要求；其結構合理，制作簡單、使用效果好、成本低，在硅鐵或工業硅產品的精煉過程中發揮較好的作用，可進一步提高產品的內在質量。
本實用新型的結構由附圖予以給出
圖1為本實用新型的結構示意
圖1—進氣孔2—氣盒3—噴嘴體4—輸氣管圖2為本實用新型的A—A示意圖本實用新型還將結合附圖實施例作進一步詳述一種氣體噴嘴，含有氣盒2與噴嘴體3，氣盒2和噴嘴體3相觸，氣盒2由鋼板焊接而成，噴嘴體3用鉻剛玉制作，并經過高溫焙燒，氣盒2外側開有進氣孔1，進氣孔1與供氣系統相連，噴嘴體3內設有輸氣管4，輸氣管4一端通過氣盒2內側，并與氣盒2內相通，另一端與噴嘴體3外部相通。
本實用新型在工作時，氣體通過進氣孔1進入氣盒2內，分布均勻再進入導氣管4，進而噴出使用。
權利要求1.一種氣體噴嘴，包括氣盒(2)和噴嘴體(3)，氣盒(2)噴嘴體(3)為相觸，其特征是氣盒(2)上開有進氣孔(1)，噴嘴體(3)內設有輸氣管(4)，輸氣管(4)一端與氣盒(2)內相通，另一端與噴嘴體(3)外部相通。
專利摘要本實用新型涉及冶金行業領域,具體地說是一種用于硅鐵或工業硅等產品爐外精煉使用的氣體噴嘴。含有氣盒和噴嘴體結構,氣盒上開有進氣孔,氣盒內與噴嘴體內的輸氣管相連通。本實用新型能適應不同氣體壓力的要求,結構合理、制作簡單、使用效果好,成本低,可進一步提高硅鐵或工業硅等產品的內在質量。
文檔編號B05B1/00GK2470007SQ0124030
公開日2002年1月9日 申請日期2001年4月11日 優先權日2001年4月11日
發明者周圈, 常本恩 申請人:周圈, 常本恩