應用于硅酸鹽垢的清洗劑及其制備方法
【專利摘要】本發明屬于水處理領域，具體涉及一種應用于硅酸鹽垢的清洗劑及其制備方法。由以下重量分數的原料組成：EDTA四鈉1～10％，EDDHA?Na 10～30％，十二烷基二甲基芐基氯化銨0.1～0.5％，OEP?70耐堿滲透劑0.1～1％，余量為去離子水。本發明配方中不含劇毒物，對人體無害，特別適用于硅酸鹽結垢比較嚴重的系統中，能有效清洗系統存在的硅酸鹽垢問題，對硅酸鹽垢的清除率在90％以上；對銅、碳鋼、不銹鋼等金屬腐蝕速率低。本發明還提供其制備方法。
【專利說明】
應用于硅酸鹽垢的清洗劑及其制備方法
技術領域
[0001] 本發明屬于水處理領域，具體涉及一種應用于硅酸鹽垢的清洗劑及其制備方法。
【背景技術】
[0002] 目前國內常用的硅酸鹽清洗劑分兩種:一種是堿性清洗劑，以濃的堿溶液為主;一 種是酸性清洗劑，以氫氟酸為主，輔以無機酸或有機酸。濃堿溶液在配置的過程中會釋放大 量的熱，而且揮發的熱氣對人體會造成很大的傷害，清洗過程的操作難度比較大;酸性清洗 劑中的氫氟酸為劇毒物質，對皮膚有強力的刺激性和腐蝕性。
【發明內容】
[0003] 針對現有技術的不足，本發明的目的是提供一種應用于硅酸鹽垢的清洗劑，特別 適用于硅酸鹽結垢比較嚴重的系統中，有效清洗系統存在的硅酸鹽垢問題，同時對金屬系 統的腐蝕速率比較低。
[0004] 本發明所述的應用于硅酸鹽垢的清洗劑，由以下重量分數的原料組成:EDTA四鈉 1 ~10%，EDDHA-Na 10~30%，十二烷基二甲基芐基氯化銨0.1~0.5%，0EP-70耐堿滲透劑 0.1~1%，余量為去離子水。
[0005] 優選地，所述的應用于硅酸鹽垢的清洗劑，由以下重量分數的原料組成:EDTA四鈉 5~10%，EDDHA-Nal5~25%，十二烷基二甲基芐基氯化銨0.1~0.5%，0EP-70耐堿滲透劑 0.1~1%，其余成分為去離子水。
[0006] 本產品配方成分具有明顯的協同增效作用:EDTA四鈉和EDDHA-Na對硅酸鹽垢中的 鈣鎂離子具有很強的絡合能力，EDTA四鈉和EDDHA-Na協同作用，能促進硅酸鈣、娃酸鎂等難 溶垢的溶解，配合十二烷基二甲基芐基氯化銨和0EP-70具有優異的滲透、洗滌、潤濕、去污 的作用，可明顯增加清洗劑的清洗效果。
[0007] 本發明所述的應用于硅酸鹽垢的清洗劑的制備方法，依次將EDDHA-Na、十二烷基 二甲基芐基氯化銨、0EP-70耐堿滲透劑、去離子水在常溫下加入反應設備中，攪拌過程中再 加入EDTA四鈉到反應設備中，攪拌均勻溶解后靜置即得。
[0008] 與現有技術相比，本發明具有以下有益效果：
[0009] (1)本發明配方中不含劇毒物，對人體無害，特別適用于硅酸鹽結垢比較嚴重的系 統中，能有效清洗系統存在的硅酸鹽垢問題，對硅酸鹽垢的清除率在90%以上；
[0010] (2)清洗條件溫和，在常溫下即可進行；
[0011] (3)對銅、碳鋼、不銹鋼等金屬腐蝕速率低。
【具體實施方式】
[0012] 下面結合實施例對本發明做進一步說明。
[0013] 實施例1
[0014] 依次將EDDHA-Na 30%、十二烷基二甲基芐基氯化銨0.1 %、0EP-70耐堿滲透劑 0.5 %，去離子水67.4%，在常溫下加入反應設備中，攪拌過程中再加入EDTA四鈉2%到反應 設備中，攪拌均勻溶解后靜置即得。
[0015] 實施例2
[0016] 依次將EDDHA-Na 25%、十二烷基二甲基芐基氯化銨0.3%、0EP-70耐堿滲透劑 0.1 %，去離子水69.6 %，在常溫下加入反應設備中，攪拌過程中再加入EDTA四鈉5%到反應 設備中，攪拌均勻溶解后靜置即得。
[0017] 實施例3
[0018] 依次將EDDHA-Na 15%、十二烷基二甲基芐基氯化銨0.5%、0EP-70耐堿滲透劑 1 %，去離子水73.5 %，在常溫下加入反應設備中，攪拌過程中再加入EDTA四鈉10 %到反應 設備中，攪拌均勻溶解后靜置即得。
[0019] 將實施例1制備的產品用于清洗一臺2T蒸汽鍋爐，水垢厚度2mm，以硅酸鹽垢為主， 以10%的清洗劑濃度，在常溫下循環清洗24h后，根據GB/T 25148-2010中的重量法測得除 垢率為92%，符合GB/T 25146-2010《工業設備化學清洗質量驗收規范》中的硅酸鹽垢除垢 率大于85 %的標準。
[0020] 將上述三個實施例中的清洗劑按照旋轉掛片法進行腐蝕試驗，在25°C下進行6h， 清洗劑濃度為10 %，腐蝕速率結果見表1。
[0021] 表1腐蝕試驗結果
[0023]由表1可以看出，清洗期間的腐蝕速率完全低于相應的國家質量標準:HG/T2387-2007《工業設備化學清洗質量標準》。
【主權項】
1. 一種應用于硅酸鹽垢的清洗劑，其特征在于：由以下重量分數的原料組成:EDTA四鈉 1~10 %，EDDHA-Na 10~30 %，十二烷基二甲基芐基氯化銨0.1~0.5%，0EP-70耐堿滲透劑 0.1~1%，余量為去離子水。2. 根據權利要求1所述的應用于硅酸鹽垢的清洗劑，其特征在于：由以下重量分數的原 料組成= EDTA四鈉5~10% ,EDDHA-Na 15~25%，十二烷基二甲基芐基氯化銨0.1~0.5%， 0EP-70耐堿滲透劑0.1~1 %，余量為去離子水。3. -種權利要求1或2所述的應用于硅酸鹽垢的清洗劑的制備方法，其特征在于：依次 將EDDHA-Na、十二烷基二甲基芐基氯化銨、0EP-70耐堿滲透劑、去離子水在常溫下加入反應 設備中，攪拌過程中再加入Η)ΤΑ四鈉到反應設備中，攪拌均勻溶解后靜置即得。
【文檔編號】C11D1/835GK105950308SQ201610347951
【公開日】2016年9月21日
【申請日】2016年5月23日
【發明人】邱振華, 張祥彬
【申請人】山東英聯化學科技有限公司