一種高折射率化合物及其應用
【技術領域】
[0001] 本發明設及一種改進的高折射率化合物。
【背景技術】
[0002] 在光電材料領域中，透明樹脂正普遍用于液晶顯示器的防反射涂層，太陽能電池 的透明涂層、發光二極管W及CCD和CMOS傳感器。運樣的光電材料通常不僅要求透明度、 而且要求用于有效發光和集光的高折射率。從物理光學可知，苯環對材料折射率的提高主 要是其易極化性產生的，但是其對材料折射率的提高幅度有限，因此必須引入其它雜原子 基團才能得到更高折射率的樹脂。
[0003] 如將漠、艦等重原子引入到有機樹脂分子中，可W有效提高化合物的折射率，但缺 點是該有機樹脂對熱和光不穩定，此外，將其作用于電子級產品時，其生產過程中所殘留的 面素很容易腐蝕電子元器件。
[0004] 此外，用于提高材料折射率的另一方法是將高折射率的無機氧化物細顆粒添加到 有機樹脂中，但該技術有W下缺點：樹脂中添加、分散的顆粒會對樹脂的長期儲存穩定性產 生影響，因此需要對體系的折射率與穩定性進行平衡考慮。
[0005] 除此之外，還可W通過在在分子結構中引入大量的雜原子來達到提高聚合物樹脂 折射率的要求，如硫、氮等原子。
【發明內容】
[0006] 本發明用于克服已有技術之缺陷而提供一種高折射率化合物，它無需引入無機氧 化物細顆粒也能產生具有高折射率的樹脂，使樹脂的折射率在1. 58W上，并且可W用于薄 膜材料的硬化涂層中。
[0007] 為解決上述問題，本發明采用的技術方案是：
[0008] 一種高折射率化合物，具有如下結構：
[0009]
[0010] 其中：Ri為如下式的一種：
[0011]
扛·
[0012] 除此之外，本發明還要提供一種聚醋薄膜，所述薄膜表面含有上述高折射率化合 物。
[0013] 與現有技術相比，本發明的高折射率化合物含有2, 5-二琉基嚷二挫的可聚合單 體，不含面素，杜絕面素殘留；無需再添加無機氧化物顆粒即可實現聚醋薄膜折射率的提 高，能夠實現樹脂的長期存儲。
【具體實施方式】
[0014] 本發明的上述可聚合單體可通過任何已知的有機合成反應而得到。下面結合具體 實施例對本發明做進一步闡釋，但本發明的制備方法并不僅限于此。
[0015] 中間化合物A1的制備
[001引取Imol的甲基丙締酸徑乙醋與Imol的；乙胺，溶于二氯甲燒中，在冰浴的情況下 滴加Imol的丙締酷氯，滴加完后，在室溫下反應12小時，過濾，減壓除去溶劑，柱層析提純 后得到中間化合物A1。
[0017]
[0018] 中間化合物A2的制備
[001引取Imol的4, 4' -二徑基二苯硫酸與Imol的；乙胺，溶于四氨巧喃中，在冰浴的情 況下滴加Imol的丙締酷氯，滴加完后，在室溫反應3小時。然后再向體系中加入Imol的Ξ 乙胺，滴加Imol的甲基丙締酷氯，滴加完后，在室溫下反應12小時，過濾，減壓除去溶劑，柱 層析提純后得到中間化合物A2。
[0020]
[0021] 中間化合物A3的制備
[0022] 取Imol的4, 4' -二徑乙基雙酪巧與Imol的Ξ乙胺，溶于四氨巧喃中，在冰浴的情 況下滴加Imol的丙締酷氯，滴加完后，在室溫反應3小時。然后再向體系中加入Imol的Ξ 乙胺，滴加Imol的甲基丙締酷氯，滴加完后，在室溫下反應12小時，過濾，減壓除去溶劑，柱 層析提純后得到中間化合物A3。
[0023]
[0024] 實施例1:
[0025] 在裝有機械攬拌、加熱、回流冷凝W及恒壓滴液漏斗的四口瓶內，分別加入0.Imol 的2, 5-二琉基嚷二挫及乙酸下醋，逐漸升溫至50度，緩慢滴加0. 2mol的甲基丙締酸異氯 酸乙醋，滴加完后，利用紅外監測反應的進行程度，當2230cm1處的NC0信號消失后，視為反 應結束，降溫停止反應，減壓除去溶劑，純化后得到產物，產率：76%。
[0026]
[0027] 用Br址eAV400超導核磁共振譜儀進行測試，結果如下：
[0028]電NMR(400MHz,CDCI3)δ(卵m) : 7. 76 (2H)，6. 30 (2H)，6. 00 (2H)，4. 35 (4H)，3. 29 (4 Η)，2. 09 巧Η).
[0029] 用阿貝折光儀測得折射率為：1. 6331
[0030] 將制備的化合物M1，季戊四醇Ξ丙締酸醋及光引發劑按照表1配置成涂布液。 [003。 用ΙΟμπι線棒，將涂布液涂布在陽T膜上，在80°C烘箱中放置120s后取出，經紫 外光（光強：50mW/cm2,曝光時間：10s)曝光后，得到聚醋薄膜，測試相關性能，在結果在表2 中列出。
[003引實施例2:
[0033] 在裝有機械攬拌、加熱、回流冷凝W及恒壓滴液漏斗的四口瓶內，分別加入0.Imol 的2, 5-二琉基嚷二挫及乙酸下醋，逐漸升溫至30度，緩慢滴加含有0. 2mol中間產物A1的 乙酸下醋溶液，滴加完后，利用薄層層析監測反應的進行程度。反應結束，降溫停止反應，減 壓除去溶劑，純化后得到產物，產率：69%。
[0034]
[003引用化址eAV400超導核磁共振譜儀進行測試，結果如下：
[0036] 電NMR(400MHz，CDCI3)δ(卵m) :6. 21 (2H)，5. 40 (2H)，4. 40 (8H)，3. 12 (4H)，3. 51 (4 Η),2. 08 (6Η)
[0037] 用阿貝折光儀測得折射率為：1. 5912
[0038] 將制備的化合物M2,季戊四醇Ξ丙締酸醋及光引發劑按照下表1配置成涂布液。 [003引用10μπι線棒，將涂布液涂布在陽T膜上，在80°C烘箱中放置120s后取出，經紫外 光（光強：50mW/cm2,曝光時間：10s)曝光后，得到聚醋薄膜，測試相關性能，結果在表2中 列出。
[0040] 實施例3 :
[0041] 在裝有機械攬拌、加熱、回流冷凝W及恒壓滴液漏斗的四口瓶內，分別加入0.Imol 的2, 5-二琉基嚷二挫及乙酸下醋，逐漸升溫至30度，緩慢滴加含有0. 2mol中間產物A2的 乙酸下醋溶液，滴加完后，利用薄層層析監測反應的進行程度。反應結束，降溫停止反應，減 壓除去溶劑，純化后得到產物，產率：73%。
[0042]
[0043] 用化址eAV400超導核磁共振譜儀進行測試，結果如下：
[0044] 咱NMR(400MHz，CDC!3)δ(卵m) : 7. 38 (4H)，7. 21 (4H)，6. 85 (8H)，5. 83 (2H)，5. 51 (2 Η)，3. 01 (4H)，2. 76 (4H)，2. 1U6H)
[0045] 用阿貝折光儀測得折射率為：1. 6237
[0046] 將制備的化合物M3,季戊四醇Ξ丙締酸醋及光引發劑按照下表1配置成涂布液。
[0047] 用10μπι線棒，將涂布液涂布在陽Τ膜上，在80°C烘箱中放置120s后取出，經紫外 光（光強：50mW/cm2,曝光時間：10s)曝光后，得到聚醋薄膜，測試相關性能，結果在表2中 列出。
[004引 實施例4 :
[0049] 在裝有機械攬拌、加熱、回流冷凝W及恒壓滴液漏斗的四口瓶內，分別加入0.Imol 的2, 5-二琉基嚷二挫及乙酸下醋，逐漸升溫至30度，緩慢滴加含有0. 2mol中間產物A3的 乙酸下醋溶液，滴加完后，利用薄層層析監測反應的進行程度。反應結束，降溫停止反應，減 壓除去溶劑，純化后得到產物，產率：56%。
[0050]
[0051] 用Bruke AV400超導核磁共振譜儀進行測試，結果如下：
[0052] 電NMR (400MHz, CDCI3) δ(卵m) :7.88 (4H), 7. 56-7. 21 (16H), 6.91 (8H), 6.70 (8H), 6. 10 (2H)，5. 56 (2H)，4. 56 (8H)，4. 20 (8H)，3. 31 (4H)，2. 56 (4H)，2. 13巧Η)
[0053] 用阿貝折光儀測得折射率為：1. 6315
[0054] 將制備的化合物M4,季戊四醇Ξ丙締酸醋及光引發劑按照下表1配置成涂布液。 用10 μπι線棒，將涂布液涂布在PET膜上，在80°C烘箱中放置120s后取出，經紫外光（光 強：50mW/cm2,曝光時間：10s)曝光后，得到聚醋薄膜，測試相關性能，結果在表2中列出。 [00財對比例1
[0056] 將季戊四醇Ξ丙締酸醋，氧化錯分散液（固含量20%)及光引發劑按照下表1配 置成涂布液。
[0057] 用10 μπι線棒，將涂布液涂布在陽T膜上，在80°C烘箱中放置120s后取出，經紫外 光（光強：50mW/cm2,曝光時間：10s)曝光后，測試相關性能，在結果在表2中列出。
[005引表1實施例涂布液配方
[0059] 單位：克
[0060]
[0061] 表2固化膜性能測試
[0062]
【主權項】
1. 一種高折射率化合物，其特征在于，具有如下結構：其中，Ri為如下取代基的一種：>->-* ：〇2. -種聚酯薄膜，其特征在于，所述薄膜表面含有權利要求1所述的高折射率化合物。
【專利摘要】一種高折射率化合物，它具有如下結構：，所述化合物折射率較高，經紫外光固化成膜后達到1.58以上，可以用于光學薄膜材料的硬化涂層中，使得聚酯薄膜的折射率得到提高。
【IPC分類】C08J7/06, C09D4/02, C07D285/125
【公開號】CN105254588
【申請號】CN201510759569
【發明人】楊金梁, 陳月霞, 劉偉峰, 千昌富
【申請人】中國樂凱集團有限公司
【公開日】2016年1月20日
【申請日】2015年11月10日