含二苯砜噻二唑硫醚的二巰基高折射率單體及合成方法
【技術領域】
[0001] 本發明設及光學樹脂技術領域，具體是設及一種含二苯諷唾二挫硫離的二琉基高 折射率單體及合成方法。
【背景技術】
[0002] 由于具有高折射率的光學材料在光纖、LED封裝材料、建筑材料、觸摸屏、鏡片樹 月旨、光學濾鏡、光電器件W及減反射涂層領域中具有很好的的發展前景，因此高折射率光學 材料一直是人們重點研究的材料之一。
[0003] 傳統無機材料雖然具有很高的折射率，但無機材料因為密度大，初性差，不易加 工，不易染色，尤其是在制備減反射涂層中，由于不易做到無機材料的折射率連續可調，該 就無疑增加了加工過程的成本。
[0004] 相比較于無機材料，光學樹脂由于其質輕、抗沖擊、易加工成型、可染色及優異的 光學性能，越來越受到人們的青睞。但是，通常光學樹脂的折射率只能通過基團的改變在 一個相對較小的范圍內進行調節，較低的折射率且綜合性能不太理想限制了光學樹脂的適 用范圍，所W合成新的高性能透明樹脂成為光學塑料發展的必然趨勢，根據經典的電磁理 論，為提高樹脂的折射率，可W通過在聚合物分子結構中引入具有較高的摩爾折射度和較 小分子體積的基團，如硫、苯環、面素、重金屬等。
[0005] 含硫光學樹脂具有折光指數高，色散低，比重小，環境穩定性好，固化成膜后機械 性能優異，耐刮擦性強等優點，因此含硫樹脂的綜合性能一般優于其它樹脂，也是近幾年研 究較為熱口的一類光學樹脂。本發明就采用引入硫離和諷基來制備一種含二苯諷唾二挫硫 離的二琉基高折射率單體。
【發明內容】
[0006] 本發明要解決的技術問題為克服現有技術中的不足指出，提供一種含二苯諷唾二 挫硫離的二琉基高折射率單體，該單體不僅自身具有較高的折射率，而且采用多種方法制 備成聚合物后，其聚合物也有著很高的折射率，同時滿足作為光學材料要求的透光率W及 較好的機械性能，拓寬了實際應用范圍，可作為減反射涂層，LED封裝材料等多種場合使用。
[0007] 本發明要解決的另一個技術問題為提供上述含二苯諷唾二挫硫離的二琉基高折 射率單體的合成方法。
[000引為解決本發明的技術問題，所采用的技術方案為：一種含二苯諷唾二挫硫離的二 琉基高折射率單體，其分子結構如式（I)所示：
【主權項】
1. 一種含二苯砜噻二唑硫醚的二巰基高折射率單體，其分子結構如式（I)所示：
2. -種如權利要求1所述含二苯砜噻二唑硫醚的二巰基高折射率單體的合成方法，包 括Wi 11 iamson合成法，其特征在于：在保護氣氛條件下，將2, 5-二巰基-1，3, 4-噻二唑、堿 以及4, 4'-二氯二苯砜于反應容器中反應過夜，反應溫度為150~240°C，反應結束后冷卻， 加入萃取劑，收集有機相，用水洗去無機物，再用醇洗去未反應掉的反應物，干燥產物，得到 式（I)所示樹脂單體。
3. 根據權利要求2所述的含二苯砜噻二唑硫醚的二巰基高折射率單體的合成方 法，其特征在于：2, 5-二巰基-1,3, 4-噻二唑與堿的摩爾比為1:0. 5~1. 1，2, 5-二巰 基-1，3, 4-噻二唑與4, 4' -二氯二苯砜的摩爾比為2~2. 6:1。
4. 根據權利要求2或3所述的含二苯砜噻二唑硫醚的二巰基高折射率單體的合成方 法，其特征在于：所述堿是似0!1、1(0!1、似 20)3、1(20)3、似!10)3、腿0) 3、三乙胺和對二甲胺基吡啶 中的一種或幾種的混合物。
5. 根據權利要求2所述的含二苯砜噻二唑硫醚的二巰基高折射率單體的合成方法，其 特征在于：洗去未反應掉的反應物所用的醇為無水乙醇或無水甲醇。
6. -種如權利要求1所述含二苯砜噻二唑硫醚的二巰基高折射率單體的應用，其特征 在于：式（I)所示單體與環氧氯丙烷反應制備如式（II)所示的環氧單體，
【專利摘要】本發明涉及光學樹脂技術領域，具體是涉及一種含二苯砜噻二唑硫醚的二巰基高折射率單體及合成方法。通過Williamson合成法將2,5-二巰基-1,3,4-噻二唑、堿以及4,4’-二氯二苯砜于反應容器中反應，冷卻，加入萃取劑，收集有機相，用水洗去無機物，再用醇洗去未反應掉的反應物，干燥產物，得到該含二苯砜噻二唑硫醚的二巰基高折射率單體，該單體含有硫醚鍵和砜基的對稱二巰基分子，在保證較高折射率的基礎上解決了后續反應選擇反應物的問題，兩端的巰基可以與多種官能團反應制備相應的具有較高折射率的聚合物，并且具有較好的透光率、機械性能以及附著力，可作為減反射涂層以及LED封裝等多種場合的應用。
【IPC分類】C07D285-125, C07D417-14
【公開號】CN104672175
【申請號】CN201510098886
【發明人】徐衛兵, 陳凱, 毛亞俊, 周正發
【申請人】合肥工業大學
【公開日】2015年6月3日
【申請日】2015年3月5日