雙軸取向聚酯膜和使用雙軸取向聚酯膜的脫模膜的制作方法

            文檔序號:3619817閱讀:221來源:國知局
            專利名稱:雙軸取向聚酯膜和使用雙軸取向聚酯膜的脫模膜的制作方法
            技術領域
            本發明涉及一種脫模膜,其中,在各種光學檢測適應性優異、且低聚物向膜表面的析出量極少的聚酯膜上設置有脫模層,該脫模膜例如,不僅用于制造在液晶顯示器(以下有時簡記為IXD)中使用的偏光板、相位差板等IXD組成構件,制造等離子體顯示器面板(以下有時簡記為rop)組成構件,制造有機電致發光(以下有時簡記為有機EL)組成構件等各種顯示器組成構件,還適合于各種光學用途等。
            背景技術
            以往,以聚酯膜為基材的脫模膜,用于制造液晶偏光板、相位差板組成構件,制造PDP組成構件,制造有機EL組成構件等各種顯示器組成構件等,在各種光學用途等中使用。作為脫模膜使用上的問題,可以列舉在高溫下在脫模層表面析出的低聚物在制造工序內產 生各種故障。近年來,伴隨IT (Information Technology)領域的飛躍發展,隨著制造IXD、PDP、有機EL等顯示構件時所使用的脫模膜品質提高,存在伴隨低聚物析出的各種問題明顯化的情況。為了應對上述各種用途,不僅希望脫模性優異,而且希望膜表面的雜質極少。SP,這是因為特別也有透過光觀察的所謂重視視覺辨認性的用途,所以甚至是在通常的膜用途中完全沒有問題的膜表面的雜質也會造成大問題。例如,列舉液晶偏光板的制造工序的一例,該制造工序雖然包括經由粘接劑層貼合脫模膜和偏光板并纏繞為卷狀的工序等,但可以認為低聚物是經過粘接劑涂布后的干燥工序而析出的。在脫模層表面析出的低聚物向貼合的對方的粘接劑層表面轉移,在將附著低聚物的帶有粘接劑層的偏光板與玻璃基板貼合而制造LCD時,有時會產生得到的LCD的亮度下降等的弊端。近年來,以提高LCD的視覺辨認性為目的,有將顯示畫面的亮度進一步提高的趨勢,上述弊端越來越成為嚴重的問題。另一方面,以實現制造成本伴隨生產率提高而降低為目的,伴隨制造工序的高速化,特別有將干燥工序中的干燥溫度設定得高的趨勢,因為上述的低聚物更容易析出、污染輥而造成在生產中帶來障礙的狀況。在伴隨液晶偏光板的顯示能力、色相、對比度、雜質混入等光學評價的檢測工序中,采取由目測或使用放大鏡進行的防止缺陷品流出的對策,但在使用結晶化的低聚物附著的脫模膜時,因雜質混入而判斷為不良品,存在產生制品成品率下降等弊端的問題。不僅上述的雜質問題,而且液晶顯示裝置的組成構件等,為了評價顯示能力、色相、對比度等,通常也是適時地進行檢測。但是,將以往的雙軸取向聚酯作為基材使用的脫模膜,因為具有各向異性,所以對于伴隨光學評價的檢測造成障礙,在檢測中進行如下操作預先暫時剝離除去該表面保護膜,在檢測結束后再次重新貼合新的表面保護膜。用新的表面保護膜重新貼合,是因為表面保護膜即使能夠再貼合,但如果再貼合就有損美觀程度的緣故。在上述的檢測中,表面保護膜的剝離和再貼合,在工序上需要2個工序,在極度地追求成本降低的該領域中,成為大的障礙。作為解決上述問題的方法,提出將雙軸取向聚酯的取向主軸的方向制成實質上與偏光板或相位差板的取向軸的方向相同,或以90°進行疊層的方法,但在使用雙軸取向聚酯膜的方法中,因為難以嚴格控制取向主軸的方向,所以有成品率變差的問題。現有技術文獻專利文獻 專利文獻I :日本特開平6-16941號公報專利文獻2 :日本特開平7-3215號公報專利文獻3 :日本特開2000-44904號公報專利文獻4 日本特開2000-238441號公報專利文獻5 :日本特開平7-101026號公報專利文獻6 :日本特開2001-335649號公報專利文獻7 :日本特開2001-62960號公報

            發明內容
            發明所要解決的課題本發明是鑒于上述實際情況而完成的,其解決課題是提供雙軸取向聚酯膜和使用該雙軸取向聚酯膜的脫模膜,其能夠容易地檢測出在光學檢測中的缺陷,低聚物析出量極少,例如,不僅用于制造液晶偏光板、相位差板等液晶組成構件,制造PDP組成構件,制造有機EL組成構件等各種顯示器組成構件,還適合于各種光學用途等。用于解決課題的方法本發明的發明者們鑒于上述實際情況進行了深入研究,結果發現根據具有特定結構的膜,就能夠容易解決上述課題,從而完成了本發明。S卩,本發明的第I要點在于一種雙軸取向聚酯膜,其特征在于,其為取向主軸方向為11度以下且在膜濁度值為10 25 %的聚酯膜的至少一個面具有含有硅烷化合物涂布層的膜,將該膜以180°C加熱5分鐘時的上述涂布層表面的低聚物量為3. Omg/m2以下,本發明的第2要點在于一種脫模膜,其特征在于,其為在上述聚酯膜的涂布層上設置有脫模層的膜,該膜的剝離力為10 lOOmN/cm范圍。發明的效果根據本發明,就能夠提供雙軸取向聚酯膜和使用該雙軸取向聚酯膜的脫模膜,其能夠容易地檢測出在光學檢測中的缺陷,低聚物析出量極少,例如,不僅用于制造液晶偏光板、相位差板等液晶組成構件,制造PDP組成構件,制造有機EL組成構件等各種顯示器組成構件,還適合于各種光學用途等,本發明的工業價值高。
            具體實施例方式以下,詳細說明本發明。作為本發明的聚酯,例如代表性地可以列舉結構單元的80摩爾%以上為對苯二甲酸乙二醇酯的聚對苯二甲酸乙二醇酯、結構單元的80摩爾%以上為2,6-萘二甲酸乙二醇酯的聚2,6-萘二甲酸乙二醇酯、結構單元的80摩爾%以上為對苯二甲酸1,4-環己烷二甲醇酯的聚對苯二甲酸1,4-環己烷二甲醇酯等。其它可以列舉聚間苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸1,4-丁二醇酯等。作為上述優勢構成成分以外的共聚成分,例如,可以使用丙二醇、1,3_ 丁二醇、2,3- 丁二醇、季戊二醇、丙二醇、丁二醇、己二醇、二甘醇、三甘醇、聚乙二醇、聚丁二醇、聚亞烷基二醇等的二醇成分,間苯二甲酸、2,7-萘二甲酸、間苯二甲酸-5-磺酸鈉、草酸、丙二酸、琥珀酸、己二酸、壬二酸、癸二酸、二苯醚二甲酸和羥基一元羧酸等的酯形成性衍生物。另外,作為聚酯,在均聚物或共聚物以外,也可以使用與其他樹脂的小比例的摻合物。作為在聚對苯二甲酸乙二醇酯中摻合的樹脂的例子,例如,可以列舉間苯二甲酸共聚物、對苯二甲酸環己烷二甲醇酯共聚物、聚乙二醇共聚物等的各種共聚聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯和共聚聚萘二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯等。本發明的聚酯膜的特性粘度通常為0. 40 0. 90,優選為0. 45 0. 80,更優選為0. 50 0. 70的范圍。特性粘度小于0. 40,則膜的機械強度有變弱的傾向,特性粘度大于 0. 90時,則熔融粘度變高,有時會產生給擠出機帶來負荷,或增加制造成本等的問題。以往,作為減少膜的低聚物的方法,使用由固相聚合預先使聚合物中的低聚物量減少、將最終膜的低聚物減少的處理方法,但固相聚合時,有因為特性粘度變高或工序增加而成本上升的問題。另外,在膜制造工序的擠出機中,熔融溫度變高或滯留時間變長時,就會觀察不到使低聚物減少的效果。作為向聚酯膜賦予滑動性并且調整膜濁度值的優選方法,使用在聚酯膜中配合顆粒的方法。能夠通過所配合的惰性顆粒種類、粒徑、含量來調整膜濁度值。作為在聚酯膜中含有的惰性顆粒,例如,可以列舉二氧化硅、碳酸鈣、碳酸鎂、碳酸鋇、硫酸鈣、磷酸鈣、磷酸鎂、高嶺土、氧化鋁、氧化鈦等的顆粒。另外,也可以使用在日本特公昭59-5216號公報、日本特開昭59-217755號公報等中記載的耐熱性有機顆粒。作為其它耐熱性有機顆粒的例子,可以列舉熱固性尿素樹脂、熱固性酚醛樹脂、熱固性環氧樹脂、苯并三聚氰二胺樹脂等。在膜原料的制造工序中,還可以使用使催化劑等金屬化合物的一部分沉淀、微分散得到的析出顆粒。另一方面,關于使用的顆粒的形狀并沒有特別限定,可以使用球狀、塊狀、棒狀、扁平狀等任意I種形狀。另外,關于其硬度、比重、色澤等也沒有特別限制。這些一系列的顆粒可以根據需要并用2種以上。另外,使用的顆粒的平均粒徑通常為0. I 5iim、優選為0. 2 3iim的范圍。平均粒徑小于0. I y m時,顆粒容易凝集,有時分散性會變得不充分,或不能提高膜濁度。另一方面,在大于5 Pm時,膜的表面粗糙度變得過粗,在后續工序中,在涂布設置各種表面功能層時等有時會產生問題。另外,聚酯層中的顆粒含量通常為0. 05 5重量%、優選為0. 003 3重量%的范圍。顆粒含量小于0.05重量%時,有時膜的滑動性不充分,或不能提高膜濁度。另一方面,添加大于5重量%時,有膜濁度變得過高的傾向。作為在聚酯中添加顆粒的方法,沒有特別限定,能夠采用現有公知的方法。例如,可以在將聚合物聚合的任意階段中添加。
            另外,通過如下等方法進行使用帶有通風孔的混煉擠出機,摻合在乙二醇或水等中分散的顆粒的漿料與聚酯原料的方法,或使用混煉擠出機,將干燥得到的顆粒與聚酯原料摻合的方法。另外,在本發明的聚酯膜中,在上述顆粒以外,根據需要還可以添加現有公知的抗氧化劑、防靜電劑、熱穩定劑、潤滑劑、染料、顏料等。本發明的聚酯膜,在至少I個表面設置含有硅烷化合物的涂布層,將以180°C熱處理10分鐘后的涂布層表面的低聚物量設為3. Omg/m2以下,優選設為2. 8mg/m2以下,更優選設為I. 60mg/m2以下,特別優選設為I. 00mg/m2以下。表面低聚物量大于3. Omg/m2時,在脫模膜和粘接層的加熱制造工序中,因為表面低聚物會成為雜質而不理想。為了達到上述目的,在本發明中,在防止低聚物析出的方面,以設置含有硅烷化合物劑的涂布層為特征,但在沒有含有硅烷化合物的涂布層時,因為由熱處理而在膜表面大量析出低聚物,所以在生產工序中用于搬運膜的輥會被低聚物污染,或析出的低聚物成為 雜質而不理想。含有硅烷化合物的涂布層,例如通過使用硅烷偶聯劑形成,所謂硅烷偶聯劑是在I個分子中具有至少2種反應性不同的官能團,一般是YRSiX3所示的化合物。其中,Y為乙稀基、環氧基、氣基等的有機官能團,R為亞甲基、亞乙基、亞丙基等那樣的亞烷基,X為甲氧基、乙氧基等那樣的可水解基團和烷基,但在本發明中供給的硅烷偶聯劑,優選Y為氨基。在Y為乙烯基或環氧基時,有低聚物的密封效果變少的傾向。作為具體的化合物,例如,可以列舉N-P (氨基乙基)Y-氨基丙基三甲氧基硅烷、N- ^ (氛基乙基)Y _氛基丙基二乙氧基娃燒、N-0 (氛基乙基)Y-氛基丙基甲基二甲氧基娃燒等。就在本發明中使用的優選的硅烷偶聯劑而言,硅烷偶聯劑是下述通式所示的化合物。Y_(CH2)3_Si_(X)3(上述式中,X表示-OCH3 或-OCH2CH3, Y 表示-NH2 或-NHCH2CH2NH2)就更優選的硅烷偶聯劑而言,硅烷偶聯劑是下述通式所示的化合物。Z_(CH2)3_Si_(X)3(上述式中,X表示-OCH3 或-OCH2CH3, Z 表示-NHCH2CH2NH2。)在含有本發明的硅烷化合物的防低聚物析出層中,根據需要,可以并用上述硅烷偶聯劑以外的水溶性或水分散性的粘合劑樹脂。作為這樣的粘合劑樹脂,例如,可以列舉聚乙烯醇、聚酯、聚氨酯、丙烯酸樹脂、乙烯基樹脂、環氧樹脂、酰胺樹脂等。它們也可以通過各自的骨架結構共聚等而實質性上具有復合結構。作為具有復合結構的粘合劑樹脂,例如,可以列舉丙烯酸樹脂接枝聚酯、丙烯酸樹脂接枝聚氨酯、乙烯基樹脂接枝聚酯、乙烯基樹脂接枝聚氨酯等。在作為本發明目的的防止低聚物向膜表面析出上,優選在上述粘合劑中使用聚乙烯醇。以重量份計,粘合劑成分的配合量相對于涂布層優選為50重量份以下的范圍,更優選為30重量份以下的范圍。在本發明的膜的涂布層中,根據需要,還可以包含交聯反應性化合物。
            作為交聯反應性化合物,選自羥甲基化或烷羥基(alkylol)化的尿素類、三聚氰胺類、三聚氰二胺類、丙烯酰胺類、聚酰胺類等的化合物、聚胺類、環氧化合物、噁唑啉化合物、氮丙唳化合物、嵌段異氰酸酯化合物、娃燒偶聯劑、鈦偶聯劑、招錯(zircoaluminate)類偶聯劑、金屬螯合物、有機酸酐、有機過氧化物、熱或光反應性的乙烯基化合物或感光性樹脂等的多官能低分子化合物和高分子化合物。交聯反應性化合物通過與主要在涂布層中含有的樹脂所具有的官能團進行交聯反應,能夠改善涂布層的凝集性、表面硬度、耐擦傷性、耐溶劑性、耐水性。例如,上述官能團為羥基時,作為交聯反應性化合物,優選三聚氰胺類化合物、嵌段異氰酸酯化合物、有機酸酐等,上述官能團為有機酸及其酸酐時,作為交聯反應性化合物,優選環氧類化合物、三聚氰胺類化合物、噁唑啉類化合物、金屬螯合物等,上述官能團為胺類時,作為交聯反應性化合物,優選環氧類化合物等,優選選擇使用與涂布層中包含的樹脂所具有的官能團的交聯反應效率高的交聯反應性化合物。交聯反應性化合物,只要在I個分子中包含2個以上的反應性官能團,則既可以為低分子量化合物,也可以為具有反應性官能團的高分子聚合物中的任意化合物。 交聯反應性化合物的配合量,相對于涂布層,以重量比計,優選50重量份以下的范圍,更優選30重量份以下的范圍,特別優選15重量份以下的范圍。在本發明的涂布層中,根據需要,為了改善涂布層的滑動性,還可以包含惰性顆粒。涂布層的厚度優選在0. 01 2 ii m的范圍,更優選在0. 03 0. 5 ii m的范圍,特別優選在0. 06 0. 2 ii m的范圍。涂布層的厚度小于0. 01 ii m時,有時不能得到充分的防止低聚物析出的效果,大于2 ii m時,有抗粘連性不充分的傾向。作為本發明膜的基材的雙軸取向聚酯膜,取向主軸的傾斜度為11度以下,優選為9度以下。另外,在這里所謂的取向主軸的方向被稱為取向角,是指相對于膜寬度方向或縱向的主軸的傾斜度。在使用取向主軸的傾斜度大于11度的雙軸取向聚酯膜的脫模膜中,在正交尼科耳棱鏡檢測時,漏光大,給雜質和傷等的缺陷檢測帶來障礙。取向主軸的方向,能夠通過變更縱向拉伸中的溫度和拉伸倍率、橫向拉伸中的溫度和拉伸倍率、以及松弛處理等的條件來調整。本發明為了使偏光板的雜質和傷等的缺陷檢測更容易,將膜濁度值設為10 25%,優選設為14 21%的范圍。濁度值小于10%時,光透過聚酯膜時的散射光少,檢測性良好,在聚酯膜表面存在傷時,在檢測時,聚酯膜表面的傷明顯,就不能準確地進行檢測體本身的缺陷檢測。另外,濁度值大于25%時,表面的散射光多,在檢測中應該檢測出的缺陷沒有被檢測出而不理想。另外,本發明的聚酯膜優選2層結構以上的構成。能夠通過配合在中間層中添加的顆粒來調整膜濁度,通過配合在表層中添加的顆粒來調整膜的表面性。本發明通過在膜中配合的顆粒,調整膜濁度,但在單層的情況下,在提高膜濁度時,因為進行大量地配合顆粒等的方法,所以膜兩面的表面粗糙度變大。在將表面粗糙度大的聚酯膜用作脫模膜的情況下,在將脫模膜貼合于偏光板的粘接材料時,有時因為表面突起的影響而卷入氣泡,或者在脫模膜的表面轉印于粘接材料的表面而在面板上貼合偏光板時,有時會產生氣泡。本發明膜的厚度通常為10 IOOiim的范圍,優選為20 75 iim的范圍,更優選為20 50iim的范圍。大于該范圍時,有時膜的處理性會變差,或制造成本上升。接著,具體說明本發明的聚酯膜的制造例,但不受以下的制造例任何限定。S卩,優選使用先前說明的聚酯原料,以冷卻輥冷卻固化從模頭擠出的熔融片,得到未拉伸片的方法。此時,為了提高片的平面性,必須提高片與旋轉冷卻鼓的附著力,優選采用靜電施加附著法和/或液體涂布附著法。接著,得到的未拉伸片在雙軸方向上被拉伸。此時,首先將上述未拉伸片在I個方向由輥或拉幅機方式的拉伸機進行拉伸。拉伸溫度通常為70 120°C,優選為80 110°C,拉伸倍率通常為2. 5 7倍,優選為3. 0 6倍。接著,在垂直相交于第I段拉伸方向的方向上拉伸,此時,拉伸溫度通常為70 170°C,拉伸倍率通常為3. 0 7倍,優選為3. 5 6倍。然后,繼續以180 270°C的溫度在緊拉下或30%以內的松弛下進行熱處理,得到雙軸取向膜。 在上述拉伸中,也可以采用將I個方向的拉伸以2階段以上進行的方法。此時,優選以最終2個方向的拉伸倍率分別為上述范圍的方式進行。另外,在本發明中,關于構成脫模膜的聚酯膜的制造,也可以采用同時雙軸拉伸法。所謂同時雙軸拉伸法是在將上述未拉伸片通常以70 120°C、優選以80 110°C,在溫度被控制狀態下在機械方向和寬度方向上同時進行拉伸使其取向的方法,作為拉伸倍率,以面積倍率計為4 50倍,優選為7 35倍,更優選為10 25倍。然后,繼續以170 2500C的溫度在緊拉下或30%以內的松弛下進行熱處理,得到拉伸取向膜。關于采用上述拉伸方式的同時雙軸拉伸裝置,可以采用螺旋方式、縮放方式、線性驅動方式等現有公知的拉伸方式。在聚酯膜表面形成涂布層的方法沒有特別限制,但適合采用在制造聚酯膜的工序中涂敷涂布液的方法。具體而言,可以列舉在未拉伸片表面涂敷涂布液進行干燥的方法,在單軸拉伸膜表面涂敷涂布液進行干燥的方法,在雙軸拉伸膜表面涂敷涂布液進行干燥的方法等。其中,在未拉伸膜或單軸拉伸膜表面涂敷涂布液后,對膜進行熱處理的過程中同時將涂布層干燥固化的方法較為經濟。另外,作為形成涂布層的方法,根據需要,也能夠采用并用上述涂布方法中的幾種的方法。具體而言,可以列舉在未拉伸片表面涂布第一層進行干燥,然后在單軸方向上拉伸后涂布第二層進行干燥的方法等。作為在聚酯膜表面涂敷涂布液的方法,可以使用在原崎勇次著、稹書店、1979年發行的一 f ^ 方式(譯文涂布方式)”中所示的逆向輥式涂布、照相凹版涂布、棒式涂布、氣刀式涂布等。在本發明中使用的涂布液,通常從安全性和衛生性的觀點出發,優選將水作為主要介質進行調制。只要在以水為主要介質的情況下,以改善向水的分散的目的或以改善成膜性能的目的,也可以含有少量有機溶劑。在與主要介質的水混合使用時,有機溶劑優選以在水中溶解的范圍使用,但如果是長時間放置不分離那樣穩定的乳濁液(乳液),也可以以在水中不溶解的狀態使用。有機溶劑可以單獨使用,單根據需要,也可以并用2種以上。在本發明中,在涂布層上形成的脫模層只要是含有具有脫模性的材料,就沒有特別限定。其中,通過含有固化型有機硅樹脂的脫模層而脫模性變得良好故而優選。既可以使用以固化型有機硅樹脂為主要成分的類型,也可以使用通過與聚氨酯樹脂、環氧樹脂、醇酸樹脂等有機樹脂的接枝聚合等產生的改性有機硅類型。作為固化型有機硅樹脂的種類,可以使用加成型、縮聚型、紫外線固化型、電子束固化型、無溶劑型等中的任意I種固化反應類型。列舉具體例子,可以列舉信越化學工業(株)生產的KS-774、KS-775、KS-778、KS-779H、KS-847H、KS-856、X-62-2422、X-62-2461,DowCorningAsia (株)生產的 DKQ3-202、DKQ3-203、DKQ3-204、DKQ3-205、DKQ3-210,Toshiba Silicone Co.,Ltd (株)生產的YSR-3022、TPR-6700、TPR-6720、TPR-6721、Dow Corning Toray Co. , Ltd.(株)生產的SD7220、SD7226、SD7229等。為了調整脫模層的剝離性等,還可以并用剝離控制劑。另外,如上所述有時也在脫模層中添加具有氨基 的硅烷化合物。在本發明中,作為在聚酯膜上設置脫模層的方法,可以使用逆向輥式涂布、照相凹版涂布、棒涂、刮刀涂布等現有公知的涂布方式。在本發明中的脫模層的涂布量,通常為0. 01 lg/m2的范圍。在本發明中,在不設置脫模層的面,可以設置粘接層、防靜電層、防低聚物析出層等的涂布層,另外,也可以在聚酯膜上施加電暈處理、等離子體處理等的表面處理。本發明的脫模膜的剝離力為10 100mN/cm,優選為10 50mN/cm的范圍。剝離力小于10mN/cm時,剝離力變得過輕,即使在本來不需要剝離的情況下,有時也會產生容易剝離的弊端,另一方面,在大于100mN/cm時,剝離力變得過重,在剝離時粘接劑變形,由于在后面的工序中產生問題,或粘接劑附著于脫模膜側,故而不理想。另外,粘接劑層或脫模層的涂膜干燥和/或固化(熱固化、電離放射線固化等)可以各自分別或同時進行。在同時進行時,優選以80°C以上的溫度進行。作為干燥和固化的條件,優選以80°C以上進行10秒鐘以上。干燥溫度低于80°C或固化時間小于10秒時,涂膜的固化不完全,由于涂膜變得易于脫落而不理想。實施例接著,列舉實施例進一步說明本發明。但本發明只要不超出其要點,就不受以下的實施例限定。另外,在以下的實施例、比較例中的物性評價方法如下。( I)聚酯的特性粘度的測定精密稱量Ig聚酯,加入IOOml苯酚/四氯乙烷=50/50 (重量比)的混合溶劑,使其溶解,在30°C測定。(2)平均粒徑(Cl5O)將使用島津制作所生產的離心沉降式粒度分布測定裝置(SA-CP3型)測定得到的等值球形分布中的累計體積分率50%的粒徑作為平均粒徑d50。(3)取向主軸的方向(取向角)的測定使用卡爾 蔡司公司(Carl Zeiss)生產的偏光顯微鏡,觀察聚酯膜的取向,測定聚酯膜面內的主取向軸的方向相對于聚酯膜的寬度方向傾斜多少度,作為取向角。對于得到該測定的膜的中央部和兩端的共計3處實施,將3處之內最大的取向角值作為最大取向角。(4)膜濁度根據JIS-K6714,由株式會社日本電色工業生產的分球式濁度計NDH-20D測定膜的濁度。(5)膜的熱處理重疊A4尺寸的繪圖紙(Kent paper)和進行熱處理的聚酯膜。此時,以具有涂布層的面為外側的方式,用曲別針等將四角夾住,將繪圖紙和聚酯膜固定。在氮氣氛下,在180°C的烘箱中放置上述聚酯膜10分鐘進行熱處理。(6)熱處理后的膜表面低聚物量以上部開放、底邊的面積為250cm2的方式,折疊熱處理后的聚酯膜,制成四方形的箱。設置涂布層時,將涂布層面設為內側。接著,在以上述方法制成的箱中加入IOml的DMF,·放置3分鐘后回收DMF。將回收的DMF供給液相色譜(島津LC-7A),求出DMF中的低聚物量,將該值除以與DMF接觸的膜面積,作為膜表面低聚物量(mg/m2)。DMF中的低聚物量由標準試樣峰面積和測定試樣峰面積的峰面積比求出(絕對校正曲線法)。標準試樣的制成,準確稱量預先分離獲得的低聚物(環狀三聚體),溶解在準確稱量得到的DMF中而制成。標準試樣的濃度優選0. 001mg/ml 0. 01mg/ml的范圍。液相色譜的條件如下所述。流動相A :乙腈流動相B :2%乙酸水溶液柱三菱化學(株)生產,MCI GEL ODS IHU柱溫40°C流速1ml/分鐘檢測波長254nm(7)脫模膜的剝離力(F)的評價在試樣膜的脫模層表面貼合雙面粘接膠帶(日東電工生產“No. 502”)的一個面后,剪切為50mmX300mm的尺寸,然后測定在室溫放置I小時后的剝離力。剝離力使用拉伸試驗機((株)Intesco生產“Intesco model 2001型”),在拉伸速度300mm/分鐘的條件下,進行180°剝離。(8)實用特性<在正交尼科耳棱鏡下的目測檢測性>按照在膜上涂布脫模劑以干燥機溫度120°C、線速度30m/min的條件得到的脫模膜的寬度方向,與偏光膜的取向軸平行的方式,經由粘接劑,使脫模膜與偏光膜附著,制成偏光板,在所附著的脫模膜上,以取向軸與膜寬度方向垂直相交的方式,使檢測用的偏光板重疊,從偏光板側照射白色光,用目測觀察檢測用的偏光板,按照以下基準評價在正交尼科耳棱鏡下的目測檢測性。另外,在測定時,從相對于得到的膜的寬度方向的中央部和兩端部的共計3處,分別切出4A尺寸的樣品來實施。“判斷基準”〇無光干涉性,能夠檢測A :有光干涉,但能夠檢測X :有光干涉,不能檢測〇和A為實際使用上沒有問題的級別<脫模特性>
            通過從具有粘接層的疊層膜剝離脫模膜時的狀況,評價脫模特性。〇脫模膜干凈地剝離,未見粘接劑附著于脫模層的現象A :脫模膜被剝離,但以快速剝離時,粘接劑附著于脫模層X :粘接劑附著于脫模膜<輥污染狀況>在制造具有粘接層的疊層膜時,目測觀察制造裝置的各輥,評價由低聚物造成的輥的污染狀況。〇在制造后的棍表面未見附著物
            A :在制造后的輥表面稍微可見附著物,但在制造上為無障礙級別X :在制造后的輥表面可見附著物,必須進行輥清潔。<聚酯(A)的制造>在反應器中以100重量份對苯二甲酸二甲酯和60重量份乙二醇為起始原料,作為催化劑,加入四水合乙酸鎂,將反應開始溫度設為150°C,隨著甲醇的蒸餾除去,使溫度緩慢上升,3小時后達到230°C。4小時后,使酯交換反應實質上結束。在該反應混合物中添加酸式磷酸乙酯后,移入縮聚槽,加入0. 04份三氧化二銻,進行4小時縮聚反應。即,將溫度從230°C緩慢升溫到280°C。另一方面,壓力從常壓緩慢降低,最終設為0. 3mmHg。反應開始后,由反應槽的攪拌動力變化,在相當于特性粘度0. 63的時刻停止反應,氮加壓下使聚合物排出,得到聚酯的片材(A)。該聚酯的特性粘度為0. 63。<聚酯(B)的制造>在聚酯(A)的制造方法中,添加酸式磷酸乙酯后,添加平均粒徑0.8iim的合成碳酸鈣顆粒的乙二醇漿料,使顆粒相對于聚酯的含量為I重量%,除此以外,使用與聚酯(A)的制造方法同樣的方法得到聚酯(B)。得到的聚酯(B)的特性粘度為0. 63。<聚酯(C)的制造>在聚酯(B)的制造方法中,將添加顆粒設為平均粒徑I. 5 Pm的合成碳酸鈣顆粒,將其相對于聚酯的含量設為I重量%,除此以外,使用與聚酯(B)的制造方法同樣的方法得到聚酯(C)。得到的聚酯(C)的特性粘度為0. 63。在以下的實施例、比較例中使用的涂布液用的化合物如下。 涂布液化合物例娃燒偶聯劑(A)為N-P (氨基乙基)Y-氨基丙基三甲氧基硅烷,在涂布液配制中,濃度調整的稀釋液使用純水。娃燒偶聯劑(B)為N-P (氨基乙基)Y-氨基丙基三乙氧基硅烷,在涂布液配制中,濃度調整的稀釋液使用純水。娃燒偶聯劑(C)為Y-氨基丙基三甲氧基硅烷,在涂布液配制中,濃度調整的稀釋液使用純水。娃燒偶聯劑(D)為N-苯基-Y -氨基丙基三甲氧基硅烷,在涂布液配制中,濃度調整的稀釋液使用純水。
            硅烷偶聯劑(E)為Y-環氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷,在涂布液配制中,因為在純水中難以溶解,所以濃度調整的稀釋液使用2%乙酸水溶液。PVA類樹脂皂化度=88摩爾%、聚合度=500的聚乙烯醇涂布液-A的配制配制含有90重量%硅烷偶聯劑(A)、10重量% PVA類樹脂的涂布液。涂布液的固體成分濃度設為2重量%。涂布劑-B E
            在涂布劑-A的配制中,將涂布液變更為下述表示的配合以外,以與涂布液-A的配制同樣的方法,得到涂布液-B F。<涂布液配合>涂布液-A :硅烷偶聯劑(A) /PVA類樹脂=90/10涂布液-B :硅烷偶聯劑(B) /PVA類樹脂=90/10涂布液-C :硅烷偶聯劑(C) /PVA類樹脂=90/10涂布液-D :硅烷偶聯劑(D) /PVA類樹脂=90/10涂布液-E :硅烷偶聯劑(E) /PVA類樹脂=90/10涂布液-F的配制配制含有80份聚氨酯水分散體A (大日本化學工業(株)生產的HydranAP-40)、20份聚酯水分散體B (大日本化學工業(株)生產的FINEDIC ES-670 ( 7 r i 'y r -y >7 7^ES-670))的涂布液。在涂布液中,固體成分濃度設為2重量%。聚酯膜-I作為中間層的原料,將70wt%聚酯(A)和30wt%聚酯(B)作為中間層的原料進行混合,作為表層的原料,混合84wt%聚酯(A)和16wt%聚酯(B),分別供給2臺帶有通風口的擠出機,以290°C熔融擠出后,使用靜電施加附著法在將表面溫度設定在40°C的冷卻輥上冷卻固化,得到未拉伸片。接著,在100°C在縱向拉伸2. 8倍后,在該縱向拉伸膜的表面涂敷涂布液-A,在拉幅機內經過預熱工序,以120°C施加5. I倍橫向拉伸后,以220°C進行10秒鐘的熱處理,然后,以180°C在橫向施加4%的松弛,得到寬4000mm的主卷(masterroll)。從距離該主卷一端1400mm的位置進行開縫,在芯上纏繞1000m,得到聚酯膜-I。得到的膜的總厚度為38 ii m,各自的層厚為4 u m/30 u m/4 u m0聚酯膜-2在聚酯膜-I中,將原料配合變更為在表I中表示的原料配合_2,將涂布液-A變更為涂布液-B,除此以外,與聚酯膜-I同樣操作,得到聚酯膜_2。聚酯膜-3在聚酯膜-I中,將原料配合變更為在表I中表示的原料配合_3,除此以外,與聚酯膜-I同樣操作,得到聚酯膜-3 5。聚酯膜-4在聚酯膜-I中,將原料配合變更為在表I中表示的原料配合_4,除此以外,與聚酯膜-I同樣操作、得到聚酯膜-3 5。
            聚酯膜-5在聚酯膜-I中,將涂布液-A變更為涂布液-C,除此以外,與聚酯膜-I同樣操作,得到聚酯膜-5。聚酯膜-6在聚酯膜-I中,將涂布液-A變更為涂布液-D,除此以外,與聚酯膜-I同樣操作,得到聚酯膜-6。聚酯膜-7在聚酯膜-I中,將縱向的拉伸倍率變更為2. 9倍,除此以外,與聚酯膜的制造-I同樣操作,得到聚酯膜-8。
            聚酯膜-8在聚酯膜-I中,將縱向的拉伸倍率變更為3. 4倍,將橫向的拉伸倍率變更為4. 2倍,除此以外,與聚酯膜-I同樣操作,得到聚酯膜_9。聚酯膜-9在聚酯膜-I中,將涂布液-A變更為涂布液-E,除此以外,與聚酯膜-I同樣操作,得到聚酯膜-9。聚酯膜-10在聚酯膜-I中,不進行縱向拉伸后的涂布,除此以外,與聚酯膜-I同樣操作,得到聚酯膜-10。聚酯膜-11在聚酯膜-I中,將涂布液-A變更為涂布液-F,除此以外,與聚酯膜-I同樣操作,得到聚酯膜-U。聚酯膜-12在聚酯膜-I中,將原料配合變更為在表I中表示的原料配合_5,除此以外,與聚酯膜-I同樣操作,得到聚酯膜-12。聚酯膜-13在聚酯膜-I中,將原料配合變更為在表I中表示的原料配合_6,除此以外,與聚酯膜-I同樣操作,得到聚酯膜-13。[表I]
            權利要求
            1.一種雙軸取向聚酯膜,其特征在于 其為取向主軸的方向為11度以下、且在膜濁度值為10 25%的聚酯膜的至少一個面具有含有硅烷化合物的涂布層的膜,將該膜以180°C加熱5分鐘時的所述涂布層表面的低聚物量為3. Omg/m2以下。
            2.如權利要求I所述的雙軸取向聚酯膜,其特征在于 硅烷化合物具有氨基。
            3.一種脫模膜,其特征在于 其為在權利要求I所述的膜的涂布層上設置有脫模層的膜,該脫模膜中,剝離力為10 100mN/cm的范圍。
            全文摘要
            本發明提供一種雙軸取向聚酯膜和脫模膜,其能夠容易地檢測出在光學檢測中的缺陷、低聚物析出量極少,例如,不僅用于制造液晶偏光板、相位差板等液晶組成構件,制造PDP組成構件,制造有機EL組成構件等各種顯示器組成構件,還適合于各種光學用途等。該雙軸取向聚酯膜為取向主軸的方向為11度以下、且在膜濁度值為10~25%的聚酯膜的至少一個面具有含有硅烷化合物的涂布層的膜,將該雙軸取向聚酯膜以180℃加熱5分鐘時上述涂布層表面的低聚物量為3.0mg/m2以下,該脫模膜為在該雙軸取向聚酯膜的涂布層上設置有脫模層的膜,該脫模膜中,剝離力為10~100mN/cm范圍。
            文檔編號C08J7/04GK102762367SQ20118001020
            公開日2012年10月31日 申請日期2011年2月23日 優先權日2010年2月23日
            發明者椚原一弘 申請人:三菱樹脂株式會社
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