專利名稱：具有降冰片烷骨架的聚酰胺酰亞胺及其制造方法
技術領域：
本發明涉及作為具有高耐熱性和透明性的聚合物有用的、具有降冰片烷骨架的聚酰胺酰亞胺。此外，本發明涉及其制造方法。
背景技術：
以往，對于光電子儀器等中所用的光學部件用樹脂而言，從向電子基板等的安裝エ藝、高溫工作下的耐熱性、機械特性或其通用性考慮，一直廣泛使用環氧樹脂。但是，近年來，光電子儀器領域中，高強度的激光、藍色光、近紫外光的利用也擴大，從而需求透明性、耐熱性和耐光性比以往更優異的樹脂。通常，環氧樹脂在可見光下的透明性高，但在紫外至近紫外區域得不到充分的透明性。此外，由脂環族環氧樹脂和酸酐形成的固化物雖然在近紫外區域的透明性較高，但存 在因熱、光而容易著色等問題。另外，出于提高耐熱、耐紫外線著色性的需求，研究了各種環氧樹脂(例如，參見專利文獻I 4)。另ー方面，聚酰胺、聚酰胺酰亞胺等耐熱性樹脂在耐熱性、絕緣性、耐光性、機械特性方面優異，并且可溶于多種溶劑、操作性優異，因此在電子領域中廣泛用作半導體元件的表面保護膜、層間絕緣膜等。其中，具有脂環族結構的聚酰胺在紫外區域的透明性優異，因此開始將其作為光電子儀器、各種顯示器等的材料進行研究(例如，參見專利文獻5)。有文獻記載上述的具有脂環族結構的聚酰胺可通過將具有脂環族結構的ニ羧酸制成酰基鹵(acid halide)后，使其與ニ胺類反應來制造。此外，作為具有脂環族結構的聚酰亞胺的制造方法，還已知將ニ羧酸制成酰基鹵的方法(例如，參見專利文獻6)。現有技術文獻專利文獻專利文獻I:日本特開2007-308683號公報專利文獻2:日本特開2006-131867號公報專利文獻3:日本特開2003-171439號公報專利文獻4:日本特開2004-75894號公報專利文獻5:日本專利第3091784號公報專利文獻6:日本特開2008-31406號公報
發明內容
發明要解決的問題但是，隨著近年來的光電子儀器、各種顯示器等的技術進步，需求耐熱性、透明性等進ー步優異的材料。此外，在專利文獻5中所記載那樣的聚酰胺的制造方法雖然是通過使ニ胺與羧酸或其衍生物聚合來進行制造，但ニ胺與ニ羧酸的反應需要240°C 350°C這樣的高溫。在專利文獻6中所記載那樣的聚酰亞胺的制造方法中，由于反應中產生有害的鹵素系氣體，因此必需處理裝置等。因此，在制造成本方面存在問題，需求エ業上簡便的制造方法。本發明是為了解決上述問題而進行的。具體地說，涉及一種耐熱性和透明性優異的、具有降冰片烷骨架的聚酰胺酰亞胺及其制造方法。解決問題的方法即，本發明如下。本發明涉及一種下述通式(I)所表示的具有降冰片烷骨架的聚酰胺酰亞胺。[化I]
權利要求
1.一種下述通式(I)所表示的具有降冰片烷骨架的聚酰胺酰亞胺，
2.一種下述通式(I)所表示的具有降冰片烷骨架的聚酰胺酰亞胺的制造方法，其特征在于，使下述通式(II)所表示的降冰片烷三羧酸酐與ニ異氰酸酯化合物在極性溶劑中反應，
3.根據權利要求2所述的具有降冰片烷骨架的聚酰胺酰亞胺的制造方法，其特征在于，所述ニ異氰酸酯化合物為下述通式(III)所表示的ニ異氰酸酯化合物， OCN-X-NCO (III) 其中，式中X為選自碳原子數為4 16的ニ價脂肪族基團、碳原子數為4 16的ニ價脂環族基團和ニ價芳香族基團中的ニ價有機基團。
4.根據權利要求2或3所述的具有降冰片烷骨架的聚酰胺酰亞胺的制造方法，其特征在于，所述通式(II)所表示的降冰片烷三羧酸酐利用包括下述(I) (3)エ序的方法來得到， (I)エ序在含有釕化合物、鈷化合物和鹵化物鹽的催化劑體系的存在下，使下述通式(IV)所表示的降冰片烯ニ羧酸衍生物與甲酸酯(HC00R2)反應，制成下述通式(V)所表示的降冰片烷三羧酸衍生物，
5.根據權利要求4所述的具有降冰片烷骨架的聚酰胺酰亞胺的制造方法，所述釕化合物為在分子內兼具羰基配體和鹵素配體的釕絡合物。
6.根據權利要求4或5所述的具有降冰片烷骨架的聚酰胺酰亞胺的制造方法，所述鹵化物鹽為季銨鹽。
7.根據權利要求4 6中任一項所述的具有降冰片烷骨架的聚酰胺酰亞胺的制造方法，所述催化劑體系進ー步含有堿性化合物。
8.根據權利要求7所述的具有降冰片烷骨架的聚酰胺酰亞胺的制造方法，所述堿性化合物為叔胺化合物。
9.根據權利要求4 8中任一項所述的具有降冰片烷骨架的聚酰胺酰亞胺的制造方法，所述催化劑體系進ー步含有酚化合物。
10.根據權利要求4 9中任一項所述的具有降冰片烷骨架的聚酰胺酰亞胺的制造方法，所述催化劑體系進ー步含有有機鹵素化合物。
全文摘要
使下述通式(I)所表示的具有降冰片烷骨架的聚酰胺酰亞胺與下述通式(II)所表示的降冰片烷三羧酸酐和二異氰酸酯化合物在極性溶劑中反應。由此，提供耐熱性和透明性優異的、具有降冰片烷骨架的新的聚酰胺酰亞胺及其制造方法。(其中，式(I)中X為選自碳原子數為4～16的二價脂肪族基團、碳原子數為4～16的二價脂環族基團和二價芳香族基團中的二價有機基團)。
文檔編號C08G73/14GK102791770SQ20108006529
公開日2012年11月21日 申請日期2010年12月3日 優先權日2010年3月29日
發明者川上廣幸 申請人:日立化成工業株式會社