專利名稱：聚合物光子晶體光纖制備方法
技術領域：
本發明屬于光通訊技術領域中涉及的一種聚合物光子晶體光纖的制備方法。
背景技術：
光纖是光通訊的信息傳輸載體，是實現大容量高速寬網的主要手段之一，目前得 到迅速發展，主干線的通訊基本上實現了光纖傳輸，但光纖在局域網和光纖入戶方面還沒 有真正實現。目前主干線用光纖是由石英材料制成的，其成本高、柔韌性差，不適用于局域 網和光纖入戶，聚合物光纖以其柔韌性好、成本低、制備容易等優點引起了人們的廣泛關 注，希望聚合物光纖在局域網和光纖入戶方面得到較多的應用，從而實現真正意義的光纖 入戶。但是目前作為聚合物光纖纖芯的聚甲基丙烯甲酯材料(PMMA)的損耗較大，其典型值 大于 140dB/km。
發明內容
本發明提供一種聚合物光子晶體光纖的制備方法，采用MPOF為34孔PMMA聚合物 光纖，光纖外徑230微米，孔直徑14微米，使用氮氣吹洗光纖孔道內表面，4份1毫升lmol/ L銀氨溶液與1份1毫升0. 5mol/L葡萄糖溶液混合的混合溶液，在3Kpa真空將蒸餾水稀釋 的混合溶液吸至MPOF中，在65攝氏度水浴中加熱2-60分鐘。其中，所述的一種聚合物光子晶體光纖的制備方法，其特征在于混合溶液經蒸餾 水稀釋濃度為0. 16mol/L。其中，所述的一種聚合物光子晶體光纖的制備方法，其特征還在于混合溶液中添 加有苯酚，其與蒸餾水稀釋的混合溶液濃度比為2 1。其中，所述的一種聚合物光子晶體光纖的制備方法，其特征還在于在65攝氏度 水浴中加熱5-30分鐘。
具體實施例方式采用MPOF為34孔PMMA聚合物光纖，光纖外徑230微米，孔直徑14微米，使用氮 氣吹洗光纖孔道內表面，4份1毫升lmol/L銀氨溶液與1份1毫升0. 5mol/L葡萄糖溶液混 合的混合溶液，在3Kpa真空將蒸餾水稀釋的混合溶液吸至MPOF中，在65攝氏度水浴中加 熱2-60分鐘。其中，混合溶液經蒸餾水稀釋濃度為0. 16mol/L。其中，混合溶液中添加有苯酚，其與蒸餾水稀釋的混合溶液濃度比為2 1。其中，當添加與蒸餾水稀釋的混合溶液濃度比為2 1的苯酚，在65攝氏度水浴 中加熱時間減小到5-30分鐘，銀層厚度在50-300nm之間，電阻為0. 5歐姆/厘米。使用上述方法，在MPOF內部不會形成“銀島”避免光纖微孔堵塞，銀層形貌規則， 厚度均勻。同時混合溶液的濃度對銀層的厚度有較大影響，應當避免使用濃度過大的混合 溶液。
本發明不限于上述實施例，在本發明的構思范圍內，根據上述說明書的描述，本領 域的普通技術人員還可作出一些顯而易見的改變，但這些改變均應落入本發明權利要求的 保護范圍之內。
權利要求
1.一種聚合物光子晶體光纖的制備方法，其特征在于采用MPOF為34孔PMMA聚合物 光纖，光纖外徑230微米，孔直徑14微米，使用氮氣吹洗光纖孔道內表面，4份1毫升lmol/ L銀氨溶液與1份1毫升0. 5mol/L葡萄糖溶液混合的混合溶液，在3Kpa真空將蒸餾水稀釋 的混合溶液吸至MPOF中，在65攝氏度水浴中加熱2-60分鐘。
2.如權利要求1所述的聚合物光子晶體光纖的制備方法，其特征在于混合溶液經蒸 餾水稀釋濃度為0. 16mol/L。
3.如權利要求2所述的聚合物光子晶體光纖的制備方法，其特征在于混合溶液中添 加有苯酚，其與蒸餾水稀釋的混合溶液濃度比為2 1。
4.如權利要求3所述的聚合物光子晶體光纖的制備方法，其特征在于在65攝氏度水 浴中加熱5-30分鐘。
全文摘要
本發明涉及一種聚合物光子晶體光纖，以聚合物光子晶體光纖空氣陣列為模板，制備銀微米管陣列修飾聚合物光子晶體光纖，光纖表面孔洞獲得規則的銀微米管狀結構，具有良好導電性。
文檔編號C08L33/12GK102122020SQ20101050527
公開日2011年7月13日 申請日期2010年10月13日 優先權日2010年10月13日
發明者孫義興, 廖鄭洪, 張華 , 張臘生, 李濤, 李炳惠, 許建國, 謝河彬, 譚會良, 陳曲 申請人:成都亨通光通信有限公司