專利名稱：絕緣層用組合物的制作方法
技術領域：
本發明涉及絕緣層用組合物、尤其涉及用于形成晶體管等中的絕緣層的組合物。
背景技術：
作為電子紙等柔性顯示器件的基板，正在研究聚碳酸酯、聚對苯二甲酸乙二醇酯 等塑料基板。然而，由于這些塑料基板存在加熱時稍稍伸長或收縮的問題，因此需要提高其 耐熱性。另一方面，作為搭載于上述器件的基板上的晶體管，有機薄膜晶體管因薄型且柔軟 性出色而受矚目。塑料基板由于如上所述般到目前為止不具有充分的耐熱性，因此在基板 上制造有機薄膜晶體管的工藝優選盡可能以低溫進行。在有機薄膜晶體管的制造工藝中，通常對設置于柵電極與有機半導體層之間的 絕緣層即柵絕緣膜或為了保護有機薄膜晶體管而設置于最上部的絕緣性的保護膜進行成 膜·固化的工藝尤其要求高溫。因此，有機薄膜晶體管的制造工藝的低溫化中重要的是使 這些層的形成工序低溫化。作為以低溫形成柵絕緣膜的方法，已知的是對柵電極的表面進行陽極氧化的方法 (參見專利文獻1)或利用化學氣相沉積法成膜的方法(參見專利文獻幻。但是，在這些方 法中，柵絕緣膜的形成工藝繁瑣。因此，作為以低溫且簡便地形成柵絕緣膜的方法，正在研究利用涂布等手段形成 膜的方法。例如，在下述專利文獻1中，公開了旋涂聚乙烯基苯酚)或聚(蜜胺-甲 醛)并以200°C使其固化而形成柵絕緣膜的方法。以往技術文獻專利文獻專利文獻1 日本特開2003-25擬60號公報專利文獻2 日本特開2004-72049號公報非專利文獻非專利文獻 1 =Hagen Klauk et al. , J. Appl. Phys. , Vol. 92. , No. 9., ρ· 5259-5263 (2002)
發明內容
在為上述非專利文獻1所示的方法的情況下，柵絕緣膜的形成中需要以高溫進行 材料的固化。然而，在這樣的固化所需的溫度條件下，很多情況下不能充分地抑制塑料基板 的熱引起的伸縮，例如在制作具有微細像素的顯示器件的情況下，不能忽略其影響。因此， 近年來要求能夠以更低的溫度形成柵絕緣膜。另外，對于如上所述的有機薄膜晶體管中的柵絕緣膜或保護層，要求不容易產生 所施加的電壓引起的破壞，即絕緣耐壓高。但是，作為這些層，還趨于很難得到具備能夠以 低溫形成且具有高絕緣耐壓這兩種特性的層。因此，本發明正是鑒于上述問題而進行的，其目的在于，提供一種能夠以低溫形成絕緣層(例如，晶體管的柵絕緣膜或保護層)，且能夠形成具有出色的絕緣耐壓的絕緣層的 絕緣層用組合物。為了實現上述目的，本發明的絕緣層用組合物的特征在于，包含由在分子內具有 2個以上活性氫基的高分子化合物形成的第一化合物、和由在分子內具有2個以上因電磁 線或熱而生成與活性氫基反應的官能團(以下稱為“反應性官能團”。)的基團(以下稱為 “解離性基團”。)的低分子化合物形成的第二化合物。具有上述構成的本發明的絕緣層用組合物中，通過向第二化合物施加電磁線或熱 而由解離性基團生成反應性官能團，接著，該反應性官能團與第一化合物中的活性氫基發 生反應而進行固化。在此，第二化合物因電磁線或熱而容易生成反應性官能團，由此生成的 反應性官能團也容易與第一化合物的活性氫基發生反應。因此，對于本發明的絕緣層用組 合物而言，可通過照射電磁線或以較低溫度加熱來使其固化，在形成絕緣層(柵絕緣膜或 保護層)時不需要以往所需的高溫。因此，上述本發明的絕緣層用組合物即使在低溫下也 能夠良好地形成絕緣層。另外，在本發明的絕緣層用組合物中，由電磁線或熱而在第二化合物中形成反應 性官能團后，該反應性官能團容易與第一化合物所具有的活性氫基發生反應，其結果，所得 固化物具有第一化合物與第二化合物良好地結合而成的致密的結構。因此，根據本發明的 絕緣層用組合物，即使以比較低的溫度使所述組合物固化的情況下，也能夠形成絕緣性出 色且具有高的絕緣耐壓的絕緣層。在上述本發明的絕緣層用組合物中，第一化合物優選由具有選自酚性羥基、醇性 羥基、氨基、巰基及羧基中的至少一種基團作為活性氫基的高分子化合物形成。這些活性氫 基是能夠與在第二化合物中產生的反應性官能團良好地發生反應的基團。尤其，第一化合物優選為具有活性氫基的聚有機倍半硅氧烷樹脂，更優選為具有 下述通式(1)所示的基團及下述通式( 所示的基團中的至少一種基團的聚有機倍半硅氧 烷樹脂。通過使用這些聚有機倍半硅氧烷酸樹脂，可獲得能夠溶于醇類溶劑中、操作性出色 等效果。[化1]
權利要求
1.一種絕緣層用組合物，其中，包含由在分子內具有2個以上活性氫基的高分子化合物形成的第一化合物；和 由在分子內具有2個以上因電磁線或熱而生成與活性氫基反應的官能團的基團的低 分子化合物形成的第二化合物。
2.根據權利要求1所述的絕緣層用組合物，其中，所述第一化合物是具有選自酚性羥基、醇性羥基、氨基、巰基及羧基中的至少一種基團 作為所述活性氫基的高分子化合物。
3.根據權利要求1或2所述的絕緣層用組合物，其中， 所述第一化合物是具有活性氫基的聚有機倍半硅氧烷樹脂。
4.根據權利要求1 3中任意一項所述的絕緣層用組合物，其中，所述第一化合物是具有選自下述通式(1)所示的基團及下述通式( 所示的基團中的 至少一種基團作為所述活性氫基的聚有機倍半硅氧烷樹脂， [化1]
5.根據權利要求1 4中任意一項所述的絕緣層用組合物，其中，所述第二化合物中的所述因電磁線或熱而生成與活性氫基反應的官能團的基團是選 自封端的異氰酸根基及封端的異硫氰酸根基中的至少一種基團。
6.根據權利要求5所述的絕緣層用組合物，其中，所述封端的異氰酸根基或所述封端的異硫氰酸根基是下述通式(3a)所示的基團或下 述通式(3b)所示的基團，[化2]式中，X41及X42分別獨立地表示氧原子或硫原子，R41、R42、R43、R44、R45、R46及R47分別獨 立地表示氫原子或碳原子數1 20的1價有機基，Rf及&分別獨立地表示碳原子數1 20的2價有機基，a及b分別獨立地表示2 6的整數，c及d分別獨立地表示0 20的整數。
7.根據權利要求1 6中任意一項所述的絕緣層用組合物，其中， 所述第二化合物是選自下述通式Ga)所示的化合物及下述通式Gb)所示的化合物中 的至少一種化合物， [化3]
全文摘要
本發明的目的在于，提供一種能夠以低溫形成絕緣層(例如，晶體管的柵絕緣膜或保護層)，且能夠形成具有出色的絕緣耐壓的絕緣層的絕緣層用組合物。本發明的絕緣層用組合物包含由在分子內具有2個以上活性氫基的高分子化合物形成的第一化合物、和由在分子內具有2個以上因電磁線或熱而生成與活性氫基反應的官能團的基團的低分子化合物形成的第二化合物。
文檔編號C08L83/04GK102076776SQ200980123398
公開日2011年5月25日 申請日期2009年6月22日 優先權日2008年6月30日
發明者矢作公 申請人:住友化學株式會社