專利名稱：紅外敏感的光敏組合物的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種紅外敏感的光敏組合物，尤其是，涉及一種用于能夠由數字信號如計算機數據直接制板的正性平版印刷板前體的成像層(用于所謂的直接制板)的紅外敏感的光敏組合物。
但使用(1)靜電復印的方法在工藝如起電，曝光和顯影中復雜，且需要復雜和大規模的設備。方法(2)在后加熱工藝過程中需要高度敏感的印刷材料，且難以在日光下處理。因為方法(3)和(4)使用銀鹽，處理復雜且不經濟。方法(5)是一種相對趨向完美的方法，但仍有去除板上的硅氧烷殘余物的問題。
另一方面，激光近年來發展顯著，尤其是，容易得到在近紅外紅外的發射區域具有高輸出的小型化固體態激光器和半導體激光器。在制板體系的緊湊性，制板工作時的環境光和制板材料成本方面，該激光非常適用作由數字信號如計算機數據直接制板的曝光光源。
作為常規平版印刷板材料，日本專利公開號No.27919/1971公開了一種按照數據通過加熱包含記錄層的印刷材料而形成圖像的方法，其中將在加熱之前不溶或微溶并在加熱之后變得更加可溶于溶劑的聚合物化合物或組合物混入所述層，和日本專利延遲公開No.69192/1981公開了一種具有包含線性酚醛清漆型苯酚樹脂和炭黑的熱敏層的熱敏記錄材料。但這些專利僅公開其中圖像不使用激光束記錄的情形的例子，而如果在由數字數據如計算機直接制板的情況下圖像通過具有近紅外紅外發射區域的激光器作為曝光光源而記錄，由于背景染色和印刷壽命的下降而必然不能得到良好的印刷物質。為了得到良好的印刷物質，要求曝光區域(非圖像區域)應該容易在曝光之后通過堿顯影處理而溶解并留下未曝光區域(圖像區域)且剩余的圖像區域具有良好的耐久性。即，根據理解，因為圖像的記錄性能不好，如果激光束用于以上熟知的技術，非圖像區域難以溶解且圖像區域容易溶解。
為了解決已有技術中的這些問題，日本專利延遲公開No.285275/1995公開，作為成像層使用一種包含粘結劑，吸收光并產生熱的物質，和熱可分解的且基本上降低粘結劑在不分解狀態下的溶解度的物質的圖像記錄材料，這樣得到具有良好的記錄性能，能夠通過原樣使用常規處理裝置和印刷機由數字信號如計算機數據直接制板的平版印刷板材料。
另外，日本專利延遲公開No.215693/2001公開了具有正性成像層的成像材料，其中所述正性成像層含有產酸劑和酸分解化合物。
另外，日本專利延遲公開No.282643/1998公開了對于包含光-熱轉化物質和包含有機酸的堿溶性樹脂的正性光敏組合物，可通過未曝光區域中的殘余膜速率。
另外，日本專利延遲公開No.324808/2001公開了一種包含特定重量比的光-熱轉化物質，酚醛清漆樹脂，和包含(甲基)丙烯酸和(甲基)丙烯酸酯的丙烯酸酯樹脂的正性光敏組合物，而且可以得到高速度并提高未曝光區域的殘余膜速率。
但在以上公開的技術，需要進一步提高在其中顯影溶液活性改變的情況下的加工性能(顯影寬容度)和印刷壽命。
本發明的以上目的通過以下方式而實現。
(1)一種紅外敏感的光敏組合物，包含(A)樹脂，(B)酚醛清漆樹脂，和(C)光-熱轉化物質，其中樹脂(A)至少具有作為共聚物組分的(1)(甲基)丙烯酸或結構式(I)表示的單體；和(2)至少一種選自(甲基)丙烯酸酯，(甲基)丙烯酰胺衍生物，和苯乙烯衍生物的化合物 其中R1表示氫原子或烷基基團；和X表示亞芳基基團或以下結構式之一表示的基團 -Ar-Y-其中Y表示二價連接基團；和Ar表示亞芳基基團。
(2)根據上述(1)的紅外敏感的光敏組合物，其中組分(1)是(甲基)丙烯酸，和組分(2)是至少一種選自(甲基)丙烯酰胺衍生物和苯乙烯衍生物的化合物。
(3)根據上述(1)的紅外敏感的光敏組合物，其中組分(1)是結構式(I)表示的單體 其中R1表示氫原子或烷基基團，和X表示可以具有取代基的亞芳基基團或以下結構式之一表示的基團 -Ar-Y-其中Y表示二價連接基團，和Ar表示可以具有取代基的亞芳基基團。
(4)根據上述(1)的紅外敏感的光敏組合物，其中X表示亞芳基基團。
(5)根據上述(1)的紅外敏感的光敏組合物，其中X表示以下結構式之一表示的基團 -Ar-Y-其中Y表示二價連接基團，和Ar表示亞芳基基團。
(6)根據上述(1)的紅外敏感的光敏組合物，其中X表示以下結構式表示的基團 其中Y表示-NR2-Z-，R2表示氫原子或烷基基團，和Z表示二價連接基團。
(7)根據上述(1)的紅外敏感的光敏組合物，其中組分(1)是一種選自下列化合物(a-29)、(a-33)、(a-34)、(a-35)、和(a-36)的單體 按照上述方式，不應用酸分解化合物，也可以獲得顯示優異顯影寬容度和印刷壽命的紅外敏感的光敏組合物。發明詳述以下詳細描述本發明的紅外敏感的光敏組合物。
首先描述其中樹脂(A)(以下樹脂(A)有時稱作樹脂(A)或組分(A))是丙烯酸酯樹脂的情形。
即，描述可用于本發明紅外敏感的光敏組合物的丙烯酸酯樹脂(A)的情形，其優選至少具有作為共聚物組分的(1)至少一種(甲基)丙烯酸，和(2)至少一種(甲基)丙烯酰胺衍生物或苯乙烯衍生物。(相應的共聚物組分有時稱作共聚物組分(1)和共聚物組分(2)。)在這種情況下，樹脂(A)的共聚物組分(1)包含至少一種(甲基)丙烯酸。
在該說明書中，丙烯酸和甲基丙烯酸總稱(甲基)丙烯酸。術語“包括(甲基)丙烯酸作為共聚物組分”是指，包含至少丙烯酸或甲基丙烯酸作為共聚物組分。這類似適用于稍后描述的(甲基)丙烯酰胺衍生物。
丙烯酸酯樹脂(A)的(甲基)丙烯酸含量優選為丙烯酸酯樹脂(A)的2-50mol％，更優選5-40mol％，和進一步更優選10-30mol％。如果(甲基)丙烯酸的含量小于以上范圍，堿顯影能力下降，而如果含量大于該范圍，膜殘余率不利地下降。
隨后描述可用于本發明紅外敏感的光敏組合物的樹脂(A)的情形，其優選具有作為共聚物組分的至少(1)至少一種表示為結構式(I)的單體，和(2)至少一種選自(甲基)丙烯酸酯，(甲基)丙烯酰胺衍生物，和苯乙烯衍生物的化合物。(相應的共聚物組分有時稱作共聚物組分(1)和共聚物組分(2)。)在該說明書中，丙烯酸和甲基丙烯酸總稱(甲基)丙烯酸。術語“包括(甲基)丙烯酸酯作為共聚物組分”是指，包含至少丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯作為共聚物組分。這類似適用于稍后描述的(甲基)丙烯酰胺衍生物。
用于本發明紅外敏感的光敏組合物的樹脂(A)的共聚物組分(I)包含至少一種表示為結構式(I)的單體。
在結構式(I)中，R1表示氫原子或烷基基團，并優選氫原子或具有1-4個碳原子的烷基基團。
X表示可具有取代基的亞芳基基團或任何以下結構式 -Ar-Y-其中Y表示二價連接基團，和Ar表示亞芳基基團。Y和Ar可具有取代基。
作為Y表示的二價連接基團，可以例舉的有可具有取代基的亞烷基基團，亞芳基基團，亞氨基基團和亞芳氧基(aryleneoxy)基團。取代基的例子包括烷基基團，羥基基團，烷氧基基團，鹵素原子，苯基基團，二甲基氨基基團，環氧乙烷基團，乙烯基基團，和o-羧基苯甲酰氧基基團。
當X表示-C(＝O)-Y-時，Y可以是-NR2-Z-，其中R2表示氫原子或烷基基團，和Z表示二價連接基團。作為Z表示的二價連接基團，可以例舉的有與上述Y相同的基團。
以下給出結構式(I)表示的單體的具體例子，但本發明不限于此。 a-14R＝-H，a-15R＝-CH3
在上式(I)表示的單體的例子中，優選化合物(a-29)、(a-33)、(a-34)、(a-35)、和(a-36)。
表示為結構式(I)的單體在樹脂(A)中的含量優選為1-90mol％，更優選2-50mol％，和進一步更優選5-30mol％。如果單體的含量小于以上范圍，堿顯影能力下降，而如果含量大于該范圍，膜殘余速率不利地下降。
樹脂(A)的共聚物組分(2)包含至少一種選自(甲基)丙烯酸酯，(甲基)丙烯酰胺衍生物，和苯乙烯衍生物的化合物。共聚物組分(2)可包含一種選自(甲基)丙烯酸酯，(甲基)丙烯酰胺衍生物，和苯乙烯衍生物的化合物，可包含任意兩種這些化合物，或可包含三種或更多化合物。即，例如，樹脂(A)的共聚物組分(2)可包含總共四種的兩種選自(甲基)丙烯酸酯的化合物和兩種選自苯乙烯衍生物的化合物。
本發明中的共聚物組分(2)的(甲基)丙烯酸酯是取代的或未取代的烷基酯或芳基酯。作為烷基基團，例如列舉甲基，乙基，n-丙基，異丙基，n-丁基，異丁基，t-丁基，n-己基，n-庚基，n-辛基和2-乙基己基。作為芳基基團，例如列舉苯基，1-萘基，2-萘基和芐基。烷基基團和芳基基團可被取代，例如列舉，羥基基團，烷氧基基團，鹵素原子，苯基基團，二甲基氨基基團，環氧乙烷基團，乙烯基基團，和o-羧基苯甲酰氧基基團作為取代基。
作為本發明中的丙烯酸酯，優選使用丙烯酸甲酯，甲基丙烯酸甲酯，甲基丙烯酸乙酯，甲基丙烯酸異丙酯和甲基丙烯酸正丁基酯。
(甲基)丙烯酸酯可在本發明中單獨或兩種或多種結合使用。
(甲基)丙烯酸酯在樹脂(A)中的含量優選為0-95mol％，更優選5-90mol％，和進一步更優選10-80mol％。
構成本發明共聚物組分(2)的(甲基)丙烯酰胺衍生物并不特別限定，只要它們是(甲基)丙烯酰胺的衍生物，但優選使用表示為結構式(c)的(甲基)丙烯酰胺衍生物
其中R1表示氫原子或烷基基團，R2和R3分別表示氫原子，具有1-10個碳原子的烷基基團，或具有6-10個碳原子的芳基基團，條件是R2和R3不同時表示氫原子。
R1表示氫原子或烷基基團，和優選氫原子或具有1-4個碳原子的烷基基團。
作為表示為R2和R3的具有1-10個碳原子的烷基基團，例如列舉甲基，乙基，n-丙基，n-丁基，異丁基，t-丁基，n-己基，n-庚基，n-辛基和2-乙基己基。作為具有6-10個碳原子的芳基基團，例如列舉，苯基，1-萘基和2-萘基。烷基基團和芳基基團可被取代，且例如列舉羥基基團，烷氧基基團，鹵素原子，苯基基團，二甲基氨基基團，環氧乙烷基團，乙烯基基團，和o-羧基苯甲酰氧基基團作為取代基。但R2和R3不同時表示氫原子。
以下給出(甲基)丙烯酰胺衍生物的具體例子，但本發明不限于此此。
(c-1)N-叔-丁基丙烯酰胺(c-2)N-(n-丁氧基甲基)丙烯酰胺(c-3)N-叔-丁基甲基丙烯酰胺(c-4)N-(1，1-二甲基-3-氧丁基)丙烯酰胺(c-5)N，N-二甲基甲基丙烯酰胺(c-6)N，N-二甲基丙烯酰胺(c-7)N-異丙基丙烯酰胺(c-8)N-甲基甲基丙烯酰胺(c-9)N-苯基甲基丙烯酰胺(c-1 0)N-[3-(二甲基氨基)丙基]丙烯酰胺在共聚物組分(2)中，(甲基)丙烯酰胺衍生物可單獨或兩種或多種結合使用。
(甲基)丙烯酰胺衍生物在樹脂(A)中的含量優選為0-95mol％，更優選5-90mol％，和進一步更優選20-80mol％。
構成本發明共聚物組分(2)的苯乙烯衍生物并不特別限定，只要它們是苯乙烯的衍生物，但優選使用表示為結構式(b)的苯乙烯衍生物 其中R4，R5和R6-R10分別表示氫原子或取代基。
表示為R4，R5和R6-R10的取代基并不特別限定，且例如列舉烷基基團，芳基基團，羥基基團，羧基基團和鹵素原子作為取代基。R4，R5和R6-R10可連接形成環。
以下給出苯乙烯衍生物的具體例子，但本發明不限于此此。
(b-1)4-溴苯乙烯(b-2)β-溴苯乙烯(b-3)4-氯-α-甲基苯乙烯(b-4)3-氯苯乙烯(b-5)4-氯苯乙烯(b-6)2，6-二氯苯乙烯(b-7)2-氟苯乙烯(b-8)3-氟苯乙烯(b-9)4-氟苯乙烯(b-10)甲基苯乙烯(b-11)乙烯基甲苯(b-12)反式-β-甲基苯乙烯
除了以上苯乙烯，可例舉的有乙烯基苯甲酸，乙烯基苯甲酸甲酯，羥基苯乙烯，p-苯乙烯磺酸鈉，p-苯乙烯亞磺酸鉀，p-氨基甲基苯乙烯和1，4-二乙烯基苯。上述苯乙烯衍生物可單獨或兩種或多種結合使用。
苯乙烯衍生物在樹脂(A)中的含量優選為0-95mol％，更優選5-90mol％，和進一步更優選20-80mol％。
包含共聚物組分(1)和(2)的樹脂(A)本身具有優選的特性，如，優選的顯影寬容度，但可通過與第三共聚物組分的共聚反應而得到對其它各種特性的進一步提高或改進。例如，其它各種特性包括化學耐性，印刷壽命，敏感度，顯影能力，等。作為第三共聚物組分，可例舉的有丙烯酸酯，丙烯腈，馬來酰亞胺，乙酸乙烯酯，N-乙烯基吡咯烷酮，等。
本發明樹脂(A)的重均分子量優選為5,000-200,000，更優選10,000-120,000，進一步更優選10,000-100,000，尤其優選20,000-80,000，和最優選30,000-60,000。如果分子量太小，不能得到足夠的涂布，而如果太大，顯影能力往往下降。
共聚反應可以使用常規已知的接枝共聚反應方法，嵌段共聚反應方法和無規共聚反應方法。
當本發明紅外敏感的光敏組合物用于平版印刷板的光敏層，樹脂(A)的含量優選為基于總固體含量的1-50wt％，更優選1-40wt％，進一步更優選2-30wt％，和最優選5-20wt％。如果樹脂(A)的含量超過50wt％，印刷壽命在燃燒時不利地下降。
以下詳細描述按照本發明的酚醛清漆樹脂(B)。
作為酚醛清漆樹脂，本發明優選使用的酚醛清漆樹脂例如有苯酚-甲醛樹脂，m-甲酚-甲醛樹脂，p-甲酚-甲醛樹脂，混合m-/p-甲酚-甲醛樹脂，和混合苯酚-甲酚(可以使用任何m-，p-，或m-/p-混合物)-甲醛樹脂，和焦沒食子酚-丙酮樹脂。
正如U.S.專利4,123,279所公開，例如列舉具有3-8個碳原子的烷基基團作為取代基的苯酚和甲醛的縮聚反應產物，如，t-丁基苯酚-甲醛樹脂和辛基苯酚-甲醛樹脂。這些縮聚反應產物的重均分子量優選為500或更多，更優選1,000-700,000，和數均分子量優選為500或更多，和更優選750-650,000。縮聚反應產物的分散度(重均分子量/數均分子量)優選為1.1-10。
如果根據本發明紅外敏感的光敏組合物用于平版印刷板的光敏層，優選的是，用于本發明的酚醛清漆樹脂的使用比例應該是光敏層的總固體含量的10-95wt％，和更優選20-90wt％。如果酚醛清漆樹脂的含量低于10wt％，通過燃燒處理提高印刷壽命的效果低，因此該光敏組合物在某些情況下不適用。
除了酚醛清漆樹脂，優選進一步將不溶于水和可溶于堿水溶液的樹脂(以下僅稱作堿溶性樹脂)加入本發明的紅外敏感的光敏組合物。
堿溶性樹脂的例子包括，如，聚羥基苯乙烯，羥基苯乙烯聚鹵化物，N-(4-羥基苯基)甲基丙烯酰胺共聚物，氫醌單甲基丙烯酸酯共聚物，公開于日本專利延遲公開No.28244/1995的磺酰基酰亞胺聚合物，和公開于日本專利延遲公開No.36184/1995的含羧基基團的聚合物。另外，也可使用各種堿溶性高分子量化合物這些例如公開于日本專利延遲公開No.34711/1976的具有苯酚羥基基團的丙烯酸酯樹脂，公開于日本專利延遲公開No.866/1990的具有磺酰氨基基團的丙烯酸酯樹脂，和氨基甲酸乙酯樹脂。
這些堿溶性高分子量化合物優選具有重均分子量500-20,000和數均分子量200-60,000。這些堿溶性高分子量化合物可單獨或兩種或多種結合使用，且它們的用量是基于整個組合物的80wt％或更低。
另外，為了提高圖像的敏化性能，如U.S.專利4,123,279所公開，優選使用具有3-8個碳原子的烷基基團作為取代基的苯酚和甲醛的縮合產物，如，t-丁基苯酚-甲醛樹脂和辛基苯酚-甲醛樹脂。
這些堿溶性樹脂的用量一般是基于組合物總重的90wt％或更低。在分子中具有任何官能團苯酚羥基基團，亞磺酰氨基基團和活性亞氨基基團的高分子量化合物作為其它堿溶性樹脂特別優選用于本發明。
將光-熱轉化劑(C)(以下還稱作“組分(C)”)加入本發明的紅外敏感的光敏組合物。
用于本發明的光-熱轉化劑(C)并不特別限定，只要它們是吸收紅外線并產生熱的物質。除了紅外吸收染料，可以使用列舉之外的稱作紅外吸收顏料和紅外吸收染料的各種顏料。
作為這些顏料，可以使用市售顏料和描述于Color Index(C.I.)Handbook，Saishin Ganryo Binran(最新顏料手冊)，由Nippon Canryo Gijutsu Kyokai編輯(1977)，Saishin Ganryo Oyo Gijutsu(最新顏料應用技術)，CMC PublishingCo.(1986)，和Insatsu Ink Gijutsu(印刷油墨技術)，CMC Publishing Co.(1984)的顏料。
作為可用于本發明的顏料的種類，可以例舉黑色顏料，黃色顏料，橙色顏料，褐色顏料，紅色顏料，紫色顏料，藍色顏料，綠色顏料，熒光顏料，金屬粉末顏料，和聚合物共軛染料。具體地，可以使用不溶性偶氮顏料，偶氮色淀顏料，縮合偶氮顏料，螯合物偶氮顏料，酞菁-系列顏料，蒽醌-系列顏料，苝-系列顏料，萘環酮(perinone)-系列顏料，硫靛-系列顏料，喹吖啶酮-系列顏料，二噁嗪-系列顏料，異吲哚啉酮-系列顏料，喹酞酮-系列顏料，染色色淀顏料，吖嗪顏料，亞硝基顏料，硝基顏料，天然顏料，熒光顏料，無機顏料和炭黑。
這些顏料可無需表面處理而使用或可進行表面處理。作為表面處理的方法，可以例舉使用樹脂和蠟的表面涂布方法，利用表面活性劑的方法，和在顏料表面上結合反應性物質(如，硅烷偶聯劑，環氧化合物和聚異氰酸酯)的方法。這些表面處理方法描述于Kinzoku Sekkenno Seishitsuto Oyo(金屬皂的性質和應用)，Saiwai Shobo Co.，Insatsu Ink Gijutsu(印刷油墨技術)，CMC Publishing Co.(1984)，和Saishin Ganryo Oyo Gijutsu(最新顏料的應用技術)，CMC Publishing Co.(1986)顏料具有優選0.01-10μm，更優選0.05-1μm，和尤其優選0.1-1μm的顆粒尺寸。如果這些顏料的顆粒尺寸低于0.01μm，難以得到記錄層的涂布溶液中的分散穩定性，而如果顆粒尺寸超過10μm，不能得到均勻記錄層。
可以使用用于制造油墨和調色劑的熟知分散方法作為顏料分散方法。分散裝置的例子包括超聲分散器，砂磨機，超微磨碎機，珠磨機，超磨機，球磨機，葉輪，分散器，KD磨機，膠體磨機，負特性管(dynatron)，三輥磨機，和壓力捏合機，且分散裝置的細節詳細描述于Saishin Ganryo OyoGijutsu(最新顏料的應用技術)，CMC Publishing Co.(1986)作為用于此的染料，可以使用市售染料和例如描述于Yuki GoseiKagaku Kyokai(1970)編輯的Senryo Binran(染料手冊)的熟知的染料。這些染料的具體例子包括偶氮染料，金屬配合物偶氮染料，吡唑啉酮偶氮染料，蒽醌染料，酞菁染料，碳鎓染料，醌亞胺染料，次甲基染料和菁染料。
在上述顏料和染料中，吸收紅外線或近紅外線的那些特別優選使用，因為它們適用于發射紅外線或近紅外線的激光器。
作為吸收紅外線或近紅外線的這些顏料，優選使用炭黑。另外，作為吸收紅外線或近紅外線的染料，例如可以列舉公開于日本專利延遲公開Nos.125246/1983，84356/1984，202829/1984和78787/1985的菁染料，公開于日本專利延遲公開Nos.173696/1983，181690/1983和194595/1983的次甲基染料，公開于日本專利延遲公開Nos.112793/1983，224793/1983，48187/1984，73996/1984，52940/1985和63744/1985的萘醌染料，公開于日本專利延遲公開No.112792/1983的squarylium染料，和公開于英國專利434,875的菁染料。
另外，還優選使用公開于U.S.專利5,156,938的近紅外吸收敏化染料。另外，特別優選使用公開于U.S.專利3,881,924的取代的芳基苯并(硫代)吡喃鎓鹽，公開于日本專利延遲公開No.142645/1982(對應于U.S.專利4,327,169)的三次甲基噻喃鎓鹽，公開于日本專利延遲公開Nos.181051/1983，220143/1983，41363/1984，84248/1984，84249/1984，146063/1984和146061/1984的吡喃鎓系列化合物，公開于日本專利延遲公開No.216146/1984的菁染料，公開于U.S.專利4,283,475的五次甲基硫代吡喃鎓鹽，公開于日本專利出版物Nos.13514/1993和19702/1993的吡喃鎓化合物，且作為市售產品，特別優選使用Epolight III-178，Epolight III-130，和Epolight III-125(Epoline制造)。
作為尤其優選的染料的其它例子，可以例舉作為結構式(I)和(II)公開于U.S.專利4,756,993的近紅外吸收染料。
這些顏料或染料的用量是基于材料總固體含量的0.01-50wt％，優選0.1-10wt％，而在染料的情況下，尤其優選0.5-10wt％，和在顏料的情況下，尤其優選3.1-10wt％的量可加入組合物。
如果顏料或染料的加入量低于0.01wt％，敏感度下降，而如果它超過50wt％，成像層的均勻性損失且成像層的耐久性下降。這些染料或顏料可與其它組分一起加入相同的層，另外，可提供其它層且它們可加入其中。
以下描述可用于制造用于本發明成像層組合物的光敏組合物的其它組分。
用于增加敏感度的環狀酸酐，苯酚和有機酸可根據需要進一步加入光敏組合物。另外，用于在曝光之后立即得到可見圖像的印相劑，作為圖像的著色劑的染料，和其它填料可加入光敏組合物。
環狀酸酐的例子包括，如U.S.專利4,115,128所公開，鄰苯二甲酸酐，四氫鄰苯二甲酸酐，六氫鄰苯二甲酸酐，3，6-橋氧基-Δ4-四氫鄰苯二甲酸酐，四氯鄰苯二甲酸酐，馬來酸酐，氯代馬來酸酐，α-苯基馬來酸酐，琥珀酸酐和均苯四酸酐。苯酚的例子包括雙酚A，p-硝基苯酚，p-乙氧基苯酚，2，3，4-三羥基二苯酮，4-羥基二苯酮，2，4，4’-三羥基二苯酮，4，4’，4”-三羥基-三苯基甲烷，和4，4’，3”，4”-四羥基-3，5，3’，5’-四甲基三苯基甲烷。
有機酸的例子包括，如日本專利延遲公開Nos.88942/1985和96755/1990所公開，可以例舉磺酸，亞磺酸，烷基硫酸，膦酸，次膦酸，磷酸酯和羧酸，具體地，p-甲苯磺酸，十二烷基苯磺酸，p-甲苯亞磺酸酸，乙基硫酸，苯基膦酸，苯基次膦酸，磷酸苯基酯，磷酸二苯基酯，苯甲酸，間苯二酸，己二酸，p-甲苯甲酸，3，4-二甲氧基苯甲酸，鄰苯二甲酸，對苯二甲酸，1，4-環己烯-2，2-二羧酸，芥酸，月桂酸，n-十一酸和抗壞血酸。
環狀酸酐，苯酚和有機酸在光敏組合物中的含量優選為0.05-15wt％，和更優選0.1-5wt％。
作為用于在曝光之后立即得到可見圖像的印相劑(printing out agent)，在曝光時釋放酸的光敏化合物和與酸形成鹽以改變顏色色調的有機染料可結合使用。
在曝光時釋放酸的光敏化合物的例子包括，如，公開于日本專利延遲公開No.36209/1975的o-萘醌二疊氮化物-4-磺酸鹵化物；公開于日本專利延遲公開No.36223/1978的三鹵代甲基-2-吡喃酮和三鹵代甲基-s-三嗪；公開于日本專利延遲公開No.62444/1980的各種o-醌二疊氮化物化合物；公開于日本專利延遲公開No.77742/1980的2-三鹵代甲基-5-芳基-1，3，4-噁二唑化合物；和重氮鎓鹽。
這些化合物可單獨和混合使用，且加入量優選為基于組合物總重的0.3-15wt％。
在本發明的光敏組合物中，使用至少一種通過與一種化合物的光解產物相互作用而改變顏色色調的有機染料，所述化合物通過光解產生酸性物質。
作為這些有機染料，可以使用二苯基甲烷系列，三芳基甲烷系列，噻嗪系列，噁嗪系列，吩嗪系列，呫噸系列，蒽醌系列，亞氨基萘醌系列和偶氮次甲基系列染料。
這些染料的具體例子包括亮綠，曙紅，乙基紫，赤蘚紅B，甲基綠，晶體紫，堿性荸薺素，苯酚酞，1，3-二苯基三嗪，茜素紅S，百里酞，甲基紫2B，喹哪啶紅，玫瑰Sengale，百里酚磺基酞，二甲苯酚藍，甲基橙，橙IV，二苯基硫代卡巴腙，2，7-二氯熒光素，對甲基紅，剛果紅，苯并紅紫素4B，α-萘基紅，尼羅藍-2B，尼羅藍-A，Phenacetalin，甲基紫，孔雀石綠，副品紅，油藍色#603(Orient Kagaku Kogyo Co.，Ltd.的產品)，油粉紅#312(OrientKagaku Kogyo Co.，Ltd.的產品)，油紅5B(Orient Kagaku Kogyo Co.，Ltd.的產品)，油猩紅#308(Orient Kagaku Kogyo Co.，Ltd.的產品)，油紅OG(OrientKagaku Kogyo Co.，Ltd.的產品)，油紅RR(Orient Kagaku Kogyo Co.，Ltd.的產品)，油綠#502(Orient Kagaku Kogyo Co.，Ltd.的產品)，Spiron紅BEHSpecial(Hodogaya Kagaku Kogyo Co.，Ltd.的產品)，維多利亞純藍BOH(Modogaya Kagaku Kogyo Co.，Ltd.的產品)，專利純藍色(SumitomoMikuni Kagaku Kogyo Co.，Ltd.的產品)，蘇丹藍色II(產物BASE Co.，Ltd.的產品)，m-甲酚紫，甲酚紅，若丹明B，羅丹明6G，第一酸紫R，磺基鹼性蕊香紅B，金色胺，4-p-二乙基氨基苯基亞氨基萘醌，2-羧基苯胺基-4-p-二乙基氨基苯基亞氨基萘醌，2-碳硬脂基氨基-4-p-二羥基乙基氨基苯基-亞氨基萘醌，p-甲氧基苯甲酰基-p’-二乙基氨基-o’-甲基苯基亞氨基N-乙酰苯胺，氰基-p-二乙基氨基苯基亞氨基N-乙酰苯胺，1-苯基-3-甲基-4-p-二乙基氨基苯基亞氨基-5-吡唑啉酮，和1-β-萘基-4-p-二乙基氨基苯基亞氨基-5-吡唑啉酮。
尤其優選的有機染料是三芳基甲烷系列染料。在三芳基甲烷系列染料中，公開于日本專利延遲公開No.2934471/1987和日本專利No.2969021的具有磺酸化合物作為抗衡陰離子的那些是尤其有用的。
這些染料可單獨或混合使用。這些染料的加入量優選為基于光敏組合物總重的0.3-15wt％。這些染料可根據需要與其它染料和顏料結合使用，且此時的量是基于染料和顏料的總重的70wt％或更低，優選50wt％或更低。
另外，各種添加劑可根據用途加入本發明的組合物，如，用于提高圖像的油墨接受性能的具有疏水基團的各種樹脂，如，辛基苯酚-甲醛樹脂，t-丁基苯酚-甲醛樹脂，t-丁基苯酚-苯甲醛樹脂，松香改性的酚醛清漆樹脂，和這些改性的酚醛清漆樹脂的o-萘醌二疊氮基磺酸酯；和用于提高涂膜的柔韌性的增塑劑，如，鄰苯二甲酸二丁酯，鄰苯二甲酸二辛酯，羥乙酸丁基酯，磷酸三甲酚基酯和二辛基己二酸酯。
這些添加劑的加入量優選為基于組合物總重的0.01-30wt％。
另外，熟知的樹脂可加入組合物以進一步提高膜的耐磨性。例如，聚乙烯基縮醛樹脂，聚氨酯樹脂，環氧樹脂，氯乙烯樹脂，尼龍，聚酯樹脂和丙烯酸酯樹脂可用于這種場合。樹脂可單獨或結合使用。
加入量優選為基于組合物總重的2-40wt％。
表面活性劑可加入本發明的光敏組合物以拓寬顯影寬容度，如，可以加入例如公開于日本專利延遲公開Nos.251740/1987和68355/1992的非離子表面活性劑，和例如公開于日本專利延遲公開Nos.121044/1984和13149/1992的兩性表面活性劑。非離子表面活性劑的具體例子包括脫水山梨醇三硬脂酸酯，脫水山梨醇單棕櫚酸酯，脫水山梨醇三油酸酯，硬脂酸單甘油酯，聚氧乙烯脫水山梨醇單油酸酯和聚氧乙烯壬基苯基醚，且兩性表面活性劑的具體例子包括烷基二(氨基乙基)甘氨酸，烷基聚氨基乙基甘氨酸鹽酸鹽，Amorgen K(商品名，Daiichi Kogyo Seiyaku Co.，Ltd.的產品，N-十四烷基-N，N-甜菜堿型)，2-烷基-N-羧基乙基-N-羥基乙基咪唑啉鎓甜菜堿，和Rebon15(商品名，Sanyo Kasei Co.，Ltd.的產品，烷基咪唑啉系列)。
以上非離子和兩性表面活性劑在光敏組合物中的比例優選為0.05-15wt％，和更優選0.1-5wt％。
涂層表面質量的提高表面活性劑，如，例如公開于日本專利延遲公開No.170950/1987的氟表面活性劑可加入本發明的光敏組合物以提高涂層表面質量。
它們的用量優選是基于光敏組合物的總重的0.001-1.0wt％，和更優選0.005-0.5wt％。
黃色染料可加入本發明的光敏組合物，如，可優選使用在417nm處的光吸收是在436nm處的70％或更多的黃色染料。
當用于平版印刷板的光敏材料由本發明光敏樹脂組合物制成，該光敏樹脂組合物首先在合適的載體上作為成像層提供。將本發明的光敏樹脂組合物溶解或分散在以下描述的單個或混合有機溶劑中，涂覆在載體上并干燥。
任何熟知的有機溶劑可用作溶劑，但考慮到干燥時的有利性，優選使用具有沸點40℃-200℃，尤其優選60℃-160℃的溶劑。
有機溶劑的例子包括醇，如，甲醇，乙醇，n-丙基醇，異丙基醇，n-丁基醇，異丁基醇，和二丙酮醇；酮，如丙酮，甲基乙基酮，甲基丙基酮，甲基丁基酮，甲基戊基酮，甲基己基酮，二乙基酮，二異丁基酮，環己酮，甲基環己酮和乙酰基丙酮；烴，如苯，甲苯，二甲苯，環己烷和甲氧基苯；乙酸酯，如乙酸乙酯，乙酸n-丙基酯，乙酸異丙基酯，乙酸n-丁基酯，乙酸異丁基酯，乙酸乙基丁基酯和乙酸己基酯；鹵化物，如二氯甲烷，二氯乙烷和單氯苯；醚，如異丙基醚，n-丁基醚，二噁烷，二甲基二噁烷和四氫呋喃；多元醇和其衍生物，如乙二醇，甲基溶纖劑，甲基溶纖劑乙酸酯，乙基溶纖劑，二乙基溶纖劑，溶纖劑乙酸酯，丁基溶纖劑，丁基溶纖劑乙酸酯，甲氧基甲氧基乙醇，二甘醇單甲基醚，二甘醇二甲基醚，二甘醇甲基乙基醚，二甘醇二乙基醚，丙二醇，丙二醇單甲基醚，丙二醇單甲基醚乙酸酯，丙二醇單乙基醚，丙二醇單乙基醚乙酸酯，丙二醇單丁基醚和3-甲基-3-甲氧基丁醇；和特別的溶劑，如，二甲基亞砜和N，N-二甲基甲酰胺。這些有機溶劑優選單獨或作為混合物使用。
固體含量在用于涂布的組合物中的濃度優選為2-50wt％。
本發明使用各種涂布方法，如，輥涂布，浸涂，氣刀涂布，凹版涂布，凹版膠印涂布，料斗涂布，葉片涂布，線刀涂布，和噴涂。干燥之后的涂布重量優選為0.3-4.0g/m2。
隨著涂布量下降，可節約用于得到圖像的曝光量但膜強度下降。隨著涂布量增加，曝光量增加但光敏膜變得堅固，結果，如果該板用作印刷板，可得到具有高的可印刷片材數的印刷板(具有高印刷壽命)。
涂覆在載體上的光敏組合物一般通過熱空氣干燥。加熱溫度是30℃-200℃，和尤其優選40℃-140℃。干燥溫度可在干燥過程中保持恒定或可逐步增加。去除干燥空氣的水分有時帶來良好的結果。優選在速率0.1-30m/秒，尤其優選0.5-20m/秒下將熱干燥空氣供給涂覆表面。
消光層優選在如此得到光敏層表面的上提供消光層以縮短在使用真空印刷架的接觸曝光時的抽空時間并防止暈光。具體地，使用的例如公開于日本專利延遲公開No.125805/1975，日本專利出版物Nos.6582/1982和28986/1986的消光層的涂布方法，和例如公開于日本專利出版物No.62337/1987的使用熱融合固體顆粒的方法。
用于光敏平版印刷板的載體是具有尺寸穩定性的板且可優選使用迄今用作平版印刷板載體的載體。這些載體的例子包括紙；層壓有塑料(如，聚乙烯，聚丙烯和聚苯乙烯)的紙；金屬板，如，鋁(包括鋁合金)，鋅，鐵和銅；塑料膜，如二乙酸纖維素，三乙酸纖維素，丙酸纖維素，丁酸纖維素，乙酸丁酸纖維素，硝酸纖維素，聚對苯二甲酸乙二酯，聚乙烯，聚苯乙烯，聚丙烯，聚碳酸酯，和聚乙烯基縮醛；和如上層壓或沉積有金屬的紙或塑料膜；且優選使用鋁板。鋁板包括純鋁板和鋁合金板。可以使用各種鋁合金，如，鋁與金屬如硅，銅，錳，鎂，鉻，鋅，鉛，鉍或鎳的合金。除了某些量的鐵和鈦，這些組合物包括可忽略量的雜質。
載體根據需要進行表面處理。例如，在光敏平版印刷板的情況下，載體的表面進行親水化處理。在金屬載體，尤其是，具有鋁表面的載體的情況下，優選進行表面處理如制紋處理，在硅酸鈉，氟鋯酸鉀或磷酸鉀水溶液中的浸漬處理，或陽極氧化處理。另外，還優選使用例如公開于U.S.專利2,714,066，在制紋處理之后在硅酸鈉水溶液中進行浸漬處理的鋁板，或例如公開于U.S.專利3,181,461的在陽極氧化處理之后通過浸漬在堿金屬硅酸鹽水溶液中而表面處理的鋁板。
陽極氧化處理通過在電解質溶液中使用鋁板作為陽極通電而進行，所述溶液包含無機酸如磷酸，鉻酸，硫酸，硼酸等，或有機酸如草酸，氨基磺酸等，或這些酸的鹽的水溶液或非水溶液中的一種或兩種或多種的組合。
例如公開于U.S.專利3,658,662的硅酸鹽電沉積也是有用的。除了使載體表面親水，這些親水化處理的進行是用于防止載體與位于載體上的光敏組合物的有害反應，或用于提高載體與光敏層的粘附性。在通過制紋對鋁板進行表面糙化之前，如果需要，鋁板的表面可以進行預處理以去除板表面上的軋制油或暴露清潔的鋁板表面。
一般來說，將溶劑如三氯乙烯和表面活性劑用于脫脂處理以去除軋制油，且堿刻蝕劑，如氫氧化鈉和氫氧化鉀廣泛用于暴露清潔的表面。
作為表面制紋方法，可以使用任何機械，化學和電化學方法。機械方法包括球研磨法，轟擊法，和其中研磨料如浮石和類似物的水分散淤漿板的表面上用尼龍刷摩擦的刷涂方法，作為化學方法，例如公開于日本專利延遲公開No.31187/1979的將板浸漬在無機酸的鋁鹽的飽和水溶液中的方法是優選的，而作為電化學方法，優選使用一種在氫氯酸，硝酸或這些酸的組合的酸電解質溶液中進行交流電電解的方法。在這些表面糙化方法中，例如公開于日本專利延遲公開No.137993/1980的一種將機械表面糙化與電化學表面糙化結合的方法是優選的，這樣會獲得感光圖像與載體的強粘附性。上述的表面制紋優選進行使得鋁板表面的中心線表面粗糙度(Ra)達到0.3-1.0μm。將如此表面處理的鋁板根據需要進行洗滌和化學刻蝕。
刻蝕溶液一般選自用于溶解鋁的堿或酸的水溶液。在這種情況下，刻蝕溶液選擇使得不在刻蝕表面上形成衍生自刻蝕溶液成分的不同于鋁的膜。優選的刻蝕劑的例子包括，作為堿性物質，氫氧化鈉，氫氧化鉀，磷酸三鈉，磷酸二鈉，磷酸三鉀和磷酸二鉀；和作為酸物質，硫酸，過硫酸，磷酸，氫氯酸和其鹽。與鋁相比具有較低離子化傾向的金屬，如，鋅，鉻，鈷，鎳和銅的鹽不是優選的由于在刻蝕表面上形成不必要的膜。最優選設定這些刻蝕劑的濃度和溫度，使得所要使用的鋁或合金的溶解速率是0.3-40g/m2/1分鐘浸漬時間，但也可使用低于或高于此的溶解速率。
刻蝕通過將鋁板浸漬在刻蝕溶液中或將刻蝕溶液涂覆到鋁板上而進行，且優選進行刻蝕使得刻蝕量變成0.5-10g/m2。優選使用堿性水溶液，因為刻蝕速度快。在這種情況下，因為產生污跡，一般進行去污處理。作為用于去污處理的酸，使用硝酸，硫酸，磷酸，鉻酸，氫氟酸和硼氟酸。將刻蝕處理的鋁板根據需要用水洗滌并陽極氧化。陽極氧化可通過本領域的常用方法而實現。
具體地，通過在包含一種或兩種或多種組合的硫酸，磷酸，鉻酸，草酸，氨基磺酸或苯磺酸的水溶液或非水溶液中將直流或交流電施用到鋁板，可在鋁載體的表面上進行陽極氧化物膜。
陽極氧化的處理條件不能無條件地確定，因為條件隨著所用的電解質溶液而各異地波動，但一般優選的是，電解質溶液的濃度是1-80wt％，溫度是5-70℃，電流密度是0.5-60安培/dm2，電壓是1-100V，和電解質時間是30秒-50分鐘。在這些陽極氧化處理中，例如公開于英國專利1,412,768的在硫酸中在高電流密度下進行進行陽極氧化的方法，和公開于U.S.專利3,511,661的用磷酸作為電解質浴進行陽極氧化的方法是尤其優選的。如此糙化并進一步陽極氧化的鋁板可根據需要進行親水處理。作為其優選的例子，其中有例如公開于U.S.專利2,714,066和3,181,461的用堿金屬硅酸鹽，如鈉硅酸鹽水溶液進行處理，例如公開于日本專利出版物No.22063/1961的用氟鋯酸鉀進行處理，和例如公開于U.S.專利4,153,461的用聚乙烯基磺酸進行處理的方法。
有機底涂層優選的是，根據本發明的光敏平版印刷板在涂布光敏層之前具有有機底涂層，這樣減少留在非圖像區域上的光敏層。用于這種底涂層的有機化合物選自羧基甲基纖維素，糊精，阿拉伯膠，有機膦酸，如，具有氨基基團的膦酸，如2-氨基乙基-膦酸，可具有取代基的苯基膦酸，萘基膦酸，烷基膦酸，甘油膦酸，亞甲基二膦酸，和亞乙基二膦酸，有機磷酸，如可具有取代基的苯基磷酸，萘基-磷酸，烷基磷酸，和甘油磷酸，有機次膦酸，如可具有取代基的苯基次膦酸，萘基次膦酸，烷基次膦酸，和甘油次膦酸，氨基酸，如甘氨酸和β-丙氨酸，和具有羥基基團的胺的鹽酸鹽如三乙醇胺的鹽酸鹽。這些化合物可作為兩種或多種的混合物使用。
另外優選的是，有機底涂層包含一種具有鎓基團的化合物。具有鎓基團的化合物公開于日本專利延遲公開Nos.10292/2000和108538/2000。
另外，至少一種選自在分子中具有聚(p-乙烯基苯甲酸)所示結構單元的高分子量化合物的化合物可用于本發明。更具體地，例舉p-乙烯基苯甲酸和乙烯基芐基三乙基銨鹽的共聚物，和p-乙烯基苯甲酸和乙烯基芐基三甲基氯化銨的共聚物。
有機底涂層可通過以下方法而提供，即，將一種通過將上述有機化合物溶解在水或單個或混合有機溶劑，如，甲醇，乙醇或甲基乙基酮中而得到的溶液涂覆到鋁板上并干燥得到有機底涂層。另外，將鋁板浸漬在一種通過將上述有機化合物在水或單個或混合有機溶劑如甲醇，乙醇或甲基乙基酮中而得到的溶液中，這樣有機化合物被吸附到鋁板上，板隨后用水或類似物洗滌，并干燥得到有機底涂層。根據前者方法，包含濃度0.005-10wt％的上述有機化合物的溶液可通過各種方式涂覆。例如，可以使用巴涂布(bar coating)，旋轉涂布，噴涂和幕涂中的任何方法。在后一方法中，溶液的濃度是0.01-20wt％，優選0.05-5wt％，浸漬溫度是20-90℃，優選25-50℃，和浸漬時間是0.1秒-20分鐘，和優選2秒-1分鐘。
形成有機底涂層的溶液的pH用堿性物質，如氨，三乙基胺或氫氧化鉀，或酸性物質，如鹽酸或磷酸調節至1-12。可將黃色染料加入溶液以提高光敏平版印刷板的色調再現性。另外，表示為結構式(a)的化合物可加入該溶液(HO)x-R5-(COOH)y(a)其中R5表示可具有取代基的具有14或更低碳原子的亞芳基基團；和x和y分別表示整數1-3。表示為結構式(a)的化合物的具體例子包括3-羥基苯甲酸，4-羥基苯甲酸，水楊酸，1-羥基-2-萘甲酸，2-羥基-1-萘甲酸，2-羥基-1-萘甲酸，2，4-二羥基苯甲酸，和10-羥基-9-蒽羧酸。有機底涂層的干涂布重量一般為1-100mg/m2，和優選2-70mg/m2。如果涂布重量低于2mg/m2，不能得到足夠的印刷壽命，而如果超過100mg/m2，也不能得到足夠的印刷壽命。
背涂層根據需要將背涂層提供在載體的背表面上。優選使用包含通過水解和縮聚公開于日本專利延遲公開No.45885/1993的有機高分子量化合物和公開于日本專利延遲公開No.35174/1994的有機或無機金屬化合物而得到的金屬氧化物的涂層作為這種背涂層。在這些涂層中，硅的烷氧基化合物如Si(OCH3)4，Si(OC2H5)4，Si(OC3H7)4和Si(OC4H9)9是便宜的和易得的，且得自這些化合物的金屬氧化物的涂層具有優異的對顯影溶液的耐性，因此特別優選。
如此得到的平版印刷板一般進行圖像曝光和顯影工藝。作為用于圖像曝光的光化線的光源，在近紅外紅外區域具有光發射波長的光源是優選的，和固體態激光和半導體激光是尤其優選使用。
包含(a)至少一種選自非還原糖的糖，和(b)至少一種堿，并具有pH9.0-13.5的顯影溶液優選用作使用本發明光敏組合物的平版印刷板的顯影溶液。以下詳細描述該顯影溶液。在該說明書中，除非另有所指，顯影溶液是指顯影引發劑(狹義上的顯影溶液)和顯影補充劑。
該顯影溶液優選包含至少一種選自非還原糖的化合物和至少一種堿作為主要組分，且溶液的pH優選為9.0-13.5。這些非還原糖是不具有游離醛基團和酮基團且不具有還原性能的糖。非還原糖劃分為其中還原基團相互鍵接的海藻糖型低聚糖，其中糖和非糖的還原基團相互鍵接的苷，和通過氫化作用還原糖而得到的糖醇，且可優選使用所有的這些非還原糖。海藻糖型低聚糖包括蔗糖和海藻糖，苷包括烷基苷，苯酚苷，和芥末油苷，和糖醇包括D-和L-阿糖醇，核糖醇，木糖醇，D-和L-山梨醇，D-和L-甘露糖醇，D-和L-艾杜糖醇，D-和L-塔羅糖醇，半乳糖醇，和異半乳糖醇。另外，優選使用通過氫化二糖而得到的麥芽糖醇和通過氫化低聚糖而得到的還原劑(還原淀粉糖漿)。其中的尤其優選的非還原糖是糖醇和蔗糖。總之，D-山梨醇，蔗糖和還原淀粉糖漿是優選的，因為它們在合適的pH范圍內具有緩沖作用而且便宜。
這些非還原糖可單獨或兩種或多種結合使用，且非還原糖在顯影溶液中的比例優選為0.1-30wt％，和更優選1-20wt％。
如果非還原糖的濃度低于該范圍，不能得到足夠的緩沖劑作用，而如果濃度高于該范圍，難以得到高濃度的顯影溶液并產生生產成本增加的問題。如果還原糖與堿結合使用，顯影溶液隨著時間的流逝變色成棕色且pH逐漸下降，導致顯影性能的下降。
迄今已知的堿性劑可用作與非還原糖結合使用的堿。這些堿劑的例子包括無機堿劑，如，氫氧化鈉，氫氧化鉀，氫氧化鋰，磷酸三鈉，磷酸三鉀，磷酸三銨，磷酸二鈉，磷酸二鉀，磷酸二銨，碳酸鈉，碳酸鉀，碳酸銨，碳酸氫鈉，碳酸氫鉀，碳酸氫銨，硼酸鈉，硼酸鉀，和硼酸銨。除了這些無機堿劑，還使用有機堿劑，如單甲基胺，二甲基胺，三甲基胺，單乙基胺，二乙基胺，三乙基胺，單異丙基胺，二異丙基胺，三異丙基胺，n-丁基胺，單乙醇胺，二乙醇胺，三乙醇胺，單異丙醇胺，二異丙醇胺，亞乙基亞胺，亞乙基二胺和吡啶。
這些堿劑單獨或兩種或多種結合使用。在這些堿劑中，氫氧化鈉和氫氧化鉀是優選的，因為可通過調節這些堿劑基于非還原糖的量而在寬pH范圍內進行pH調節。另外，磷酸三鈉，磷酸三鉀，碳酸鈉和碳酸鉀也由于它們自身的緩沖作用而優選。
這些堿劑加入使得顯影溶液的pH達到9.0-13.5，且加入量根據所需pH，所用的非還原糖的種類和加入量而確定。更優選的pH范圍是10.0-13.2。包含弱酸和非糖的強堿的堿性緩沖劑溶液可進一步組合用于顯影溶液。用作這種緩沖劑溶液的弱酸優選具有離解常數(pKa)10.0-13.2。
這些弱酸選自例如描述于有機酸在水溶液中的電離常數(PergamonPress Co.)中的弱酸。弱酸的例子包括醇，如，2，2，3，3-四氟丙醇-1(pKa12.74)，三氟乙醇(pKa12.37)，和三氯乙醇(pKa12.24)；醛，如，吡啶-2-醛(pKa12.68)，和吡啶-4-醛(pKa12.05)；具有苯酚羥基基團的化合物，如，水楊酸(pKa13.0)，3-羥基-2-萘甲酸(pKa12.84)，兒茶酚(pKa12.6)，五倍子酸(pKa12.4)，磺基水楊酸(pKa11.7)，3，4-二羥基磺酸(pKa12.2)，3，4-二羥基苯甲酸(pKa11.94)，1，2，4-三羥基苯(pKa11.82)，對苯二酚(pKa11.56)，連苯三酚(pKa11.34)，o-甲酚(pKa10.33)，間苯二酚(pKa11.27)，p-甲酚(pKa10.27)，和m-甲酚(pKa10.09)；肟，如，2-丁酮肟(pKa12.45)，乙酰肟(pKa12.42)，1，2-環庚烷二酮二肟(pKa12.3)，2-羥基苯甲醛肟(pKa12.10)，二甲基乙二肟(pKa11.9)，乙烷二酰氨基二肟(pKa；11.37)，和苯乙酮肟(pKa11.35)；核酸相關物質，如，腺苷(pKa12.56)，肌苷(pka12.5)，鳥嘌呤(pKa12.3)，胞嘧啶(pKa12.2)，次黃嘌呤(pKa12.1)，和黃嘌呤(pKa11.9)；除了以上，二乙基氨基甲基磺酸(pKa12.32)，1-氨基-3，3，3-三氟苯甲酸(pKa12.29)，異亞丙基二磺酸(pKa12.10)，1，1-亞乙基二膦酸(pKa11.54)，1-羥基-1，1-亞乙基二膦酸(pKa11.52)，苯并咪唑(pKa12.86)，硫代苯并酰胺(pKa12.8)，甲基吡啶硫代酰胺(pKa12.55)，和巴比土酸(pKa12.5)。
在這些弱酸中，磺基水楊酸和水楊酸是優選的。氫氧化鈉，氫氧化銨，氫氧化鉀，和氫氧化鋰優選用作堿以與弱酸結合使用。這些堿性劑單獨或兩種或多種結合使用。這些堿劑通過在所需范圍內以濃度和組合來調節pH而使用。
各種表面活性劑和有機溶劑可根據需要加入顯影溶液以加速顯影，分散顯影劑浮渣，和增加與印刷板圖像區域的油墨的親和性。作為優選的表面活性劑，可以例舉陰離子，陽離子，非離子，和兩性表面活性劑。
表面活性劑的優選例子包括非離子表面活性劑，如聚氧乙烯烷基醚，聚氧乙烯烷基苯基醚，聚氧乙烯聚苯乙烯基苯基醚，聚氧乙烯聚氧基亞丙基烷基醚，甘油脂肪酸偏酯，脫水山梨醇脂肪酸偏酯，季戊四醇脂肪酸偏酯，丙二醇單脂肪酸酯，蔗糖脂肪酸偏酯，聚氧乙烯脫水山梨醇脂肪酸偏酯，聚氧乙烯山梨醇脂肪酸偏酯，聚乙二醇脂肪酸酯，聚甘油脂肪酸偏酯，聚氧乙烯化蓖麻油，聚氧乙烯甘油脂肪酸偏酯，脂肪酸二乙醇酰胺，N，N-二-2-羥基烷基胺，聚氧乙烯烷基胺，三乙醇胺脂肪酸酯，和三烷基氧化胺；陰離子表面活性劑，如脂肪酸鹽，松香酸鹽，羥基烷烴磺酸鹽，烷烴磺酸鹽，二烷基磺基琥珀酸鹽，直鏈烷基苯磺酸鹽，支化鏈烷基苯磺酸鹽，烷基萘磺酸鹽，烷基苯氧基聚氧乙烯丙基磺酸鹽，聚氧乙烯烷基磺基苯基醚，N-甲基-N-油基牛磺酸鈉鹽，N-烷基磺基琥珀酸單酰氨基二鈉鹽，石油磺酸鹽，硫酸鹽化牛油，脂肪酸烷基酯硫酸鹽，烷基硫酸鹽，聚氧乙烯烷基醚硫酸鹽，脂肪酸單甘油酯硫酸鹽，聚氧乙烯烷基苯基醚硫酸鹽，聚氧乙烯苯乙烯基苯基醚硫酸鹽，烷基磷酸鹽，聚氧乙烯烷基醚磷酸鹽，聚氧乙烯烷基苯基醚磷酸鹽，苯乙烯-馬來酸酐共聚物的部分皂化產物，烯烴-馬來酸酐共聚物的部分皂化產物，和萘磺酸鹽-甲醛的縮合產物；陽離子表面活性劑，如烷基胺鹽，叔銨鹽，如四丁基溴化銨，聚氧乙烯烷基胺和聚乙烯多元胺衍生物；兩性表面活性劑，如，羧基甜菜堿，氨基羧酸，磺基甜菜堿，氨基硫酸鹽，和咪唑啉。在以上表面活性劑中，“聚氧乙烯”可包括聚氧化烯如聚甲醛，聚氧化丙烯和聚氧化丁烯，而且也包括其表面活性劑。
更優選的表面活性劑是在分子中包含全氟烷基基團的氟表面活性劑。這些氟表面活性劑的例子包括陰離子型，如全氟烷基羧酸鹽，全氟烷基磺酸鹽和全氟烷基磷酸鹽；兩性型，如全氟烷基甜菜堿；陽離子型，如全氟烷基三甲基銨鹽；和非離子型，如，全氟烷基氧化胺，全氟烷基環氧乙烷加成物，包含全氟烷基基團和親水基團的低聚物，包含全氟烷基基團和親油基團的低聚物，包含全氟烷基基團，親水基團，和親油基團的低聚物，和包含全氟烷基基團和親油基團的氨基甲酸乙酯。
這些表面活性劑可單獨或兩種或多種結合使用，且它們加入顯影溶液的量可以是優選0.001-10wt％，和更優選0.01-5wt％。
各種顯影穩定劑可用于顯影溶液。公開于日本專利延遲公開No.282079/1994的糖醇的聚乙二醇加成物，四烷基銨鹽如四丁基銨氫氧化物，磷鎓鹽如四丁基溴化磷鎓，和碘鎓鹽如二苯基氯化碘鎓例舉為這些顯影穩定劑的優選例子。另外，也可例舉公開于日本專利延遲公開No.51324/1975的陰離子表面活性劑和兩性表面活性劑，公開于日本專利延遲公開No.95946/1980的水溶性陽離子聚合物，和公開于日本專利延遲公開No.142528/1981的“水溶性”兩性高分子量電解質。
除了以上化合物，以下化合物可例舉為顯影穩定劑，如，公開于日本專利延遲公開No.84241/1984的有機硼化合物與亞烷基二醇的加成物，公開于日本專利延遲公開No.111246/1985的聚氧乙烯-聚氧丙烯嵌段聚合物型水溶性表面活性劑，公開于日本專利延遲公開No.129750/1985的聚氧乙烯-聚氧丙烯-取代的亞烷基二胺化合物，公開于日本專利延遲公開No.215554/1986的具有重均分子量300或更多的聚乙二醇，公開于日本專利延遲公開No.175858/1988的具有陽離子基團的含氟表面活性劑，公開于日本專利延遲公開No.39157/1990的通過將4摩爾或更多的環氧乙烷加成到酸或醇上而得到的水溶性環氧乙烷加成物，和水溶性聚亞烷基化合物。
有機溶劑根據需要加入顯影溶液。這種有機溶劑在水中的溶解度是10wt％或更低，優選5wt％或更低，如可以例舉1-苯基乙醇，2-苯基乙醇，3-苯基-1-丙醇，4-苯基-1-丁醇，4-苯基-2-丁醇，2-苯基-1-丁醇，2-苯氧基乙醇，2-芐氧基乙醇，o-甲氧基芐基醇，m-甲氧基芐基醇，p-甲氧基芐基醇，芐基醇，環己醇，2-甲基環己醇，3-甲基-環己醇，4-甲基環己醇，N-苯基乙醇胺，和N-苯基二乙醇胺。
有機溶劑的含量是基于工作溶液總重的0.1-5wt％。有機溶劑的用量與表面活性劑的用量密切相關，且優選隨著有機溶劑量的增加而增加表面活性劑的量。這是因為，如果表面活性劑的量是極少的和有機溶劑的量是主要的，有機溶劑不完全溶解，且不能預期良好的顯影性能。
另外，還原劑可加入顯影溶液。還原劑的加入是為了防止印刷板受污染。作為優選的有機還原劑，苯酚化合物，例如例舉硫代水楊酸，對苯二酚，密妥耳，甲氧基醌，間苯二酚，和2-甲基間苯二酚，和胺化合物，如亞苯基二胺和苯肼。更優選的無機還原劑的例子包括無機酸如亞硫酸，亞硫酸氫酸，亞磷酸，亞磷酸氫酸，亞磷酸二氫酸，硫代硫酸，和連二硫酸的鈉鹽，鉀鹽和銨鹽。
在這些還原劑中，亞硫酸鹽具有尤其優異的污染防止作用。這些還原劑的量是基于所用的顯影溶液的0.05-5wt％。
另外，顯影劑可包含有機羧酸。優選的有機羧酸是具有6-20個碳原子的脂族和芳族羧酸。脂族羧酸的具體例子包括己酸，庚酸，辛酸，月桂酸，肉豆蔻酸，棕櫚酸，和硬脂酸，且具有8-12個碳原子的鏈烷酸是尤其優選的。另外，可以使用在碳鏈中具有雙鍵的不飽和脂肪酸，或碳鏈可支化。芳族羧酸的例子包括其中苯環，萘環，或蒽環被羧酸基團取代的化合物，具體地o-氯苯甲酸，p-氯苯甲酸，o-羥基苯甲酸，p-羥基苯甲酸，o-氨基苯甲酸，p-氨基苯甲酸，2，4-二羥基苯甲酸，2，5-二羥基苯甲酸，2，6-二羥基苯甲酸，2，3-二羥基苯甲酸，3，5-二羥基苯甲酸，五倍子酸，1-羥基-2-萘甲酸，3-羥基-2-萘甲酸，2-羥基-1-萘甲酸，1-萘甲酸，和2-萘甲酸，且特別有效地使用羥基萘甲酸。
優選使用這些脂族和芳族羧酸作為鈉鹽，鉀鹽或銨鹽以增高水溶解度。用于顯影溶液的有機羧酸的含量并不特別限定，但如果其含量低于0.1wt％，不能得到足夠的效果，而如果超過10wt％，不僅不能得到進一步的效果，而且結合使用的其它添加劑的溶解性受到阻礙。因此，有機羧酸的優選的含量是基于所用顯影溶液的0.1-10wt％，更優選0.5-4wt％。
另外，如果需要，顯影溶液可包含防腐劑，著色劑，增稠劑，消泡劑和水軟化劑。水軟化劑的例子包括，如，聚磷酸，和其鈉鹽，鉀鹽和銨鹽，氨基聚羧酸，如，亞乙基二胺四乙酸，二亞乙基-三胺五乙酸，三亞乙基四胺六乙酸，羥基乙基亞乙基二胺三乙酸，次氨基三乙酸，1，2-二氨基環己烷四乙酸，和1，3-二氨基-2-丙醇四乙酸，和其鈉鹽，鉀鹽和銨鹽，氨基三(亞甲基膦酸)，亞乙基二胺四(亞甲基膦酸)，二亞乙基三胺五(亞甲基膦酸)，三亞乙基四胺六(亞甲基膦酸)，羥基乙基亞乙基二胺三(亞甲基膦酸)，和1-羥基乙烷-1，1-二膦酸，和其鈉鹽，鉀鹽和銨鹽。
水軟化劑的最佳值隨著螯合作用，所要使用的硬水的硬度和量而變化，但一般為基于所用顯影溶液的0.01-5wt％，更優選0.01-0.5wt％。如果加入量低于該范圍，不能充分得到預期效果，而如果量高于該范圍，出現對圖像區域的不利作用，如顏色消失。顯影溶液的其余組分是水。考慮到運輸，最好制備具有較少水含量的濃度以在使用時用水稀釋的顯影溶液。此時的濃度優選使得每種組分不分離或沉淀。
公開于日本專利延遲公開No.282079/1994的顯影溶液也可用作使用本發明光敏組合物的平版印刷板的顯影溶液。這是一種包含具有SiO2/M2O摩爾比(M表示堿金屬)0.5-2.0的硅酸堿金屬鹽，和通過將5摩爾或更多的環氧乙烷加成到具有4或更多羥基基團的糖醇上而得到的水溶性環氧乙烷加成物的顯影溶液。糖醇是一種對應于醇的多元醇，其中糖的醛基團和酮基團被還原以得到伯醇和仲醇。糖醇的具體例子包括D-和L-蘇糖醇，赤蘚醇，D-和L-阿糖醇，核糖醇，木糖醇，D-和L-山梨醇，D-和L-甘露糖醇，D-和L-艾杜糖醇，D-和L-塔羅糖醇，半乳糖醇，和異半乳糖醇。另外，也可例舉作為糖醇的縮合產物的二-，三-，四-，五-和六-甘油。以上水溶性環氧乙烷加成物可通過將5摩爾或更多的環氧乙烷加成到1摩爾糖醇上而得到。另外，如果需要，環氧乙烷加成物可與氧化丙烯嵌段共聚，只要不阻礙溶解度。環氧乙烷加成物可單獨或兩種或多種結合使用。
水溶性環氧乙烷加成物的加入量優選為基于顯影溶液(工作溶液)的0.001-5wt％，更優選0.001-2wt％。
各種表面活性劑和有機溶劑可根據需要加入顯影溶液，這樣加速顯影，分散顯影劑浮渣，和增加對印刷板圖像區域的油墨的親和性。
將用具有以上組成的顯影溶液顯影處理的PS板用洗滌水，包含表面活性劑的漂洗水，整飾劑或包含阿拉伯膠和淀粉衍生物作為主要組分的保護膠漿后處理。在按照本發明的PS板的后處理中，這些處理以各種組合使用。
近年來，用于PS板的自動處理器普遍用于制板和印刷工業以使制板工作合理化和標準化。這些自動處理器一般由顯影部分和后處理部分組成切配有PS板的傳輸單元，處理溶液罐，和噴霧裝置。顯影和后處理通過在水平傳輸PS板的同時利用噴嘴將抽吸至暴露PS板的分別處理溶液進行噴霧而進行。另外已知一種利用在液體中的導輥將PS板浸漬-傳輸經過一個填充有的處理溶液的處理溶液罐的處理方法，和一種通過供給確定少量的洗滌水并再利用廢溶液作為濃顯影溶液的稀釋劑溶液而在顯影之后洗滌板表面的方法。
在這些自動處理中，處理可通過將每種補充劑根據處理量，操作時間，等補充至分別處理溶液而進行。另外，也可采用其中處理基本上使用原溶液進行的非可回收的體系。將通過這些工藝得到的平版印刷板安裝到膠印印刷機上并用于印刷許多片材。
載體的制造載體A，B，C，D和E通過使用JIS-A-1050鋁板并通過結合以下給出的工藝進行處理而制成。
(a)機械表面糙化處理鋁板的機械表面糙化處理通過旋轉輥狀尼龍刷將包含水和具有比重1.12的研磨料(硅砂)的懸浮液的研磨料淤漿供給至鋁板的表面而進行。研磨料的平均顆粒尺寸是8μm，和最大顆粒尺寸是50μm。尼龍刷的材質是6·10尼龍，毛長度是50mm，和毛直徑是0.3mm。將具有直徑300mm的不銹鋼桶穿孔并將尼龍毛濃密地種植以制版尼龍刷。使用三個旋轉刷。兩個支撐輥(200mm)之間在每個刷的下部的距離是300mm。將刷輥壓向鋁板，直至旋轉刷的驅馬達的負荷達到在將刷輥壓向鋁板之前的負荷加上7kW的值。刷的旋轉方向與鋁板的移動方向相同。刷的轉數是200rpm。
(b)堿刻蝕處理
將以上得到的鋁板使用NaOH水溶液(濃度2.6wt％，鋁離子濃度6.5wt％)在70℃下進行噴霧刻蝕處理，這樣溶解6g/m2鋁板。該板隨后通過噴霧用井水洗滌。
(c)去污處理將鋁板用一種包含濃度1wt％的硝酸的水溶液(包含0.5wt％鋁離子)在30℃進行噴霧去污處理，并隨后將通過噴霧用井水洗滌。用于去污處理的硝酸的水溶液是在硝酸水溶液中通過交流電進行電化學表面糙化處理的工藝中的廢溶液。
(d)電化學表面糙化處理電化學表面糙化處理通過交流電壓60Hz連續進行。此時的電解質是包含10.5g/升硝酸的水溶液(包含5g/升鋁離子)和溫度是50℃。電流從0達到峰值的所需時間TP是0.8毫秒，負載比是1/1，且電化學表面糙化處理使用梯形矩形波形交流電以碳電極作為反電極而進行。鐵酸鹽用作支撐的陽極。使用徑向單元型電解質浴。
電流密度在峰值電流時是30A/dm2，和在其中鋁板是陽極的情況下以電量總和表示的電量是220C/dm2。5％的來自電源的電流轉移至支撐的陽極。
鋁板隨后通過噴霧用井水洗滌。
(e)堿刻蝕處理鋁板通過用包含濃度26wt％的氫氧化鈉和濃度6.5wt％的鋁離子的水溶液在32℃下噴霧而進行刻蝕處理，這樣溶解0.20g/m2鋁板。將主要包含氫氧化鋁的污跡去污，所述氫氧化鋁在早先步驟中通過交流電壓進行電化學表面糙化處理時形成，另外將所形成的凹坑的邊緣部分溶解以使邊緣部分光滑，并隨后將鋁板通過噴霧用井水洗滌。
(f)去污處理將鋁板使用包含濃度15wt％的硫酸的水溶液(包含4.5wt％鋁離子)在30℃下進行噴霧去污處理并隨后通過噴霧用井水洗滌。用于去污處理的硝酸水溶液是使用硝酸水溶液通過交流電進行的電化學表面糙化處理中的廢溶液。
(g)電化學表面糙化處理
電化學表面糙化處理通過交流電壓60Hz連續進行。此時的電解質是一種包含7.5g/升鹽酸的水溶液(包含5g/升鋁離子)和溫度是35℃。AC電源的波形是長方形且電化學表面糙化處理使用碳電極作為反電極而進行。鐵酸鹽用作支撐的陽極。使用徑向單元型電解質浴。
在峰值電流時的電流密度是25A/dm2，和電量在其中鋁板是陽極的情況下以電量總和表示時是50C/dm2。
鋁板隨后通過噴霧用井水洗滌。
(h)堿刻蝕處理將鋁板通過用包含濃度26wt％氫氧化鈉和濃度6.5wt％的鋁離子的水溶液在32℃下噴霧而進行刻蝕處理，這樣溶解0.10g/m2鋁板。將主要包含氫氧化鋁的污跡去污，所述氫氧化鋁在早先步驟中通過交流電壓進行電化學表面糙化處理時形成，另外將所形成的凹坑的邊緣部分溶解以使邊緣部分光滑，并隨后將鋁板通過噴霧用井水洗滌。
(i)去污處理將鋁板使用包含濃度25wt％的硫酸的水溶液(包含0.5wt％鋁離子)在60℃下進行噴霧去污處理，并隨后通過噴霧用井水洗滌。
(j)陽極氧化處理硫酸用作電解質。每種電解質包含濃度170g/升的硫酸(包含0.5wt％鋁離子)且電解質的溫度是43℃。鋁板通過噴霧用井水洗滌。
電流密度是約30A/dm2。氧化物膜的最終量是2.7g/m2。
載體A載體A通過順序進行每個以上工藝(a)-(j)使得工藝(e)中的刻蝕量變成3.5g/m2而制成。
載體B載體B通過順序進行每個以上工藝而制成，只是省略工藝(g)，(h)和(i)。
載體C載體C通過順序進行每個以上工藝而制成，只是省略工藝(a)，(g)，(h)和(i)。
載體D載體D通過順序進行每個以上工藝而制成，只是省略工藝(a)，(d)，(e)和(f)使得工藝(g)中的電量總和變成450C/dm2。
將如此得到的載體A，B，C和D繼續進行以下的水解處理和底涂處理。
(k)堿金屬硅酸鹽處理堿金屬硅酸鹽處理(硅酸鹽處理)通過將陽極氧化處理得到的鋁載體在30℃下浸漬在包含1wt％三硅酸二鈉水溶液的處理罐中10秒而進行。鋁板隨后通過噴霧用井水洗滌。粘附到板上的硅酸鹽的量是3.5mg/m2。
(1)底涂層的形成將具有以下給出的組成的用于形成底涂層的涂布溶液涂覆到用堿金屬硅酸鹽處理的鋁載體上，并隨后將載體在80℃下干燥15秒。干涂布重量是15mg/m2。
底涂層涂布溶液的組成 實施例I-1至I-32和對比例I-1至I-3將具有以下給出的組成的光敏溶液涂覆到以上得到的載體上，在爐中在150℃下干燥1分鐘，這樣得到具有層厚度2.0g/m2的正性紅外敏感的光敏組合物層的正性光敏平版印刷板。
光敏溶液的組成m-，p-甲酚線性酚醛清漆(m/p比率＝6/4，重均分子量7,500，包含量示于表I-1中0.5wt％未反應的甲酚)丙烯酸酯樹脂(A)(示于表I-1) 量示于表I-1中下示的光-熱轉化物質(菁染料A) 0.04g 菁染料A2，4，6-三(己氧基)苯重氮鎓-2-羥基-4-甲氧基二苯酮-5-磺酸鹽 0.01gp-甲苯磺酸 0.002g四氫鄰苯二甲酸酐 0.05g通過用1-萘磺酸鹽陰離子替換維多利亞純藍色BOH的抗衡陰離子0.015g而得到的染料氟表面活性劑，Meqafac F-176(由Dainippon Chemicals and Ink Co.，0.02gLtd.制造)甲基乙基酮 15g1-甲氧基-2-丙醇7g<光敏平版印刷板的評估>
顯影寬容度的評估試驗圖案使用Trendsetter(由Creo Co.制造)通過束強度9W和鼓旋轉速度150rpm以成像方式繪制到以上得到的光敏平版印刷板上。
然后，將印刷板用裝有堿顯影溶液的PS處理器900H(由Fuji Photo FilmCo.，Ltd.制造)在液體溫度30℃和顯影時間20秒下進行顯影。將進行良好顯影而沒有因顯影失敗而伴隨圖像區域的洗脫，歸因于光敏層殘余膜的染色和著色的顯影溶液的最高電導和最低電導之間的差異取為顯影寬容度并評估。所得結果在以下表I-1中給出。
堿顯影溶液A的組成SiO2·K2O(K2O/SiO2＝1/1(摩爾比))4.0wt％檸檬酸 0.5wt％聚乙二醇月桂基醚(重均分子量1,000) 0.5wt％水 95.0wt％堿顯影溶液B的組成D-山梨醇2.5wt％氫氧化鈉0.85wt％聚乙二醇月桂基醚(重均分子量1,000) 0.5wt％水 96.15wt％印刷壽命的評估按照以上評估顯影寬容度的相同方式，使用在進行良好顯影而沒有因顯影失敗而伴隨圖像區域的洗脫，歸因于光敏層殘余膜的染色和著色的顯影溶液電導時得到的平版印刷板，并進行印刷。印刷機Lithron(由KomoriInsatsuki Co.，Ltd.制造)用作印刷機和DIC-GEOS(N)sumi(由DainipponChemicals and Ink Co.，Ltd.制造)用作油墨。印刷壽命通過視覺觀察確認實心圖像密度變淺時的印刷片材的數目而評估。所得結果在以表I-1中給出。
燃燒處理之后的印刷壽命的評估將按照以上評估印刷壽命的相同方式顯影得到的平版印刷板的印刷板用一種燃燒用板調節溶液BC-3(由Fuji Photo Film Co.，Ltd.制造)擦拭，并隨后在約240℃進行燃燒處理7分鐘。印刷板隨后用水洗滌并隨后通過水稀釋至2倍體積的膠GU-7(由Fuji Photo Film Co.，Ltd.制造)進行處理。
隨后，使用印刷機Lithron(由Komori Insatsuki Co.，Ltd.制造)和DIC-GEOS(N)sumi(由Dainippon Chemicals and Ink Co.，Ltd.制造)進行印刷。燃燒之后的印刷壽命通過視覺觀察確認實心圖像密度變淺時的印刷片材的數目而評估。所得結果在以表I-1中給出。表I-1
表I-1(繼續)
在表I-1中，用于丙烯酸酯樹脂(A)的共聚物組分如下。
單體-a(甲基)丙烯酸a-1；丙烯酸a-2甲基丙烯酸單體-b苯乙烯衍生物例舉的化合物b-1至b-18單體-c丙烯酰胺衍生物例舉的化合物c-1至c-10單體-d(甲基)丙烯酸酯d-1丙烯酸甲酯d-2甲基丙烯酸甲酯d-3甲基丙烯酸乙酯從表I-1的結果顯然看出，實施例I-1至I-32中的樣品與對比例I-1至I-3中的樣品相比具有優異的顯影寬容度，尤其是，在進行燃燒處理時優異。
本發明的紅外敏感的光敏組合物具有優異的顯影寬容度和印刷壽命，尤其是，本發明可提供一種用于能夠由數字信號如計算機數據直接制板的正性平版印刷板前體的成像層(用于所謂的直接制板)的紅外敏感的光敏組合物。實施例II-1至II-37和對比例II-1至II-3將具有以下給出的組成的光敏溶液涂覆到以上得到的載體，在爐中在150℃下1分鐘，這樣得到具有層厚度2.0g/m2的正性紅外敏感的光敏組合物的正性光敏平版印刷板。
光敏溶液的組成m-，p-甲酚線性酚醛清漆(m/p比率＝6/4，重均分子量7,500，包含量示于表II-1中0.5wt％未反應的甲酚)丙烯酸酯樹脂(A)(示于表II-1)量示于表II-1中下示的光-熱轉化物質(菁染料A) 0.04g 菁染料A2，4，6-三(己氧基)苯重氮鎓-2-羥基-4-甲氧基二苯酮-5-磺酸鹽 0.01gp-甲苯磺酸 0.002g四氫鄰苯二甲酸酐 0.05g通過用1-萘磺酸鹽陰離子替換維多利亞純藍色BOH的抗衡陰離子0.015g而得到的染料氟表面活性劑，Meqafac F-176(由Dainippon Chemicals and Ink Co.，0.02gLtd.制造)甲基乙基酮 15g1-甲氧基-2-丙醇7g<光敏平版印刷板的評估>
顯影寬容度的評估試驗圖案使用Trendsetter(由Creo Co.制造)通過束強度9W和鼓旋轉速度150rpm以成像方式繪制到以上得到的光敏平版印刷板上。
然后，將印刷板用裝有堿顯影溶液的PS處理器900H(由Fuji Photo FilmCo.，Ltd.制造)在液體溫度30℃和顯影時間20秒下進行顯影。將進行良好顯影而沒有因顯影失敗而伴隨圖像區域的洗脫，歸因于光敏層殘余膜的染色和著色的顯影溶液的最高電導和最低電導之間的差異取為顯影寬容度并評估。所得結果在以下表II-1中給出。
堿顯影溶液A的組成SiO2·K2O(K2O/SiO2＝1/1(摩爾比)) 4.0wt％檸檬酸0.5wt％聚乙二醇月桂基醚(重均分子量1,000) 0.5wt％水95.0wt％堿顯影溶液B的組成D-山梨醇 2.5wt％氫氧化鈉 0.85wt％聚乙二醇月桂基醚(重均分子量1,000) 0.5wt％水96.15wt％印刷壽命的評估按照以上評估顯影寬容度的相同方式，使用在進行良好顯影而沒有因顯影失敗而伴隨圖像區域的洗脫，歸因于光敏層殘余膜的染色和著色的顯影溶液電導時得到的平版印刷板，并進行印刷。印刷機Lithron(由KomoriInsatsuki Co.，Ltd.制造)用作印刷機和DIC-GEOS(N)sumi(由DanlpponChemicals and Ink Co.，Ltd.制造)用作油墨。印刷壽命通過視覺觀察確認實心圖像密度變淺時的印刷片材的數目而評估。所得結果在以表II-1中給出。
燃燒處理之后的印刷壽命的評估將按照以上評估印刷壽命的相同方式顯影得到的平版印刷板的印刷板用一種燃燒用板調節溶液BC-3(由Fuji Photo Film Co.，Ltd.制造)擦拭，并隨后在約240℃進行燃燒處理7分鐘。印刷板隨后用水洗滌并隨后通過水稀釋至2倍體積的gum GU-7(由Fuji Photo Film Co.，Ltd.制造)進行處理。
隨后，使用印刷機Lithron(由Komori Insatsuki Co.，Ltd.制造)和DIC-GEOS(N)sumi(由Dainippon Chemicals and Ink Co.，Ltd.制造)進行印刷。燃燒之后的印刷壽命通過視覺觀察確認實心圖像密度變淺時的印刷片材的數目而評估。所得結果在以表II-1中給出。表II-1
表II-1(續)
在表II-1中，用于樹脂(A)的共聚物組分如下。
單體-a表示為結構式(I)的單體例舉的化合物a-1至a-36單體-b苯乙烯衍生物例舉的化合物b-1至b-17單體-c丙烯酰胺衍生物例舉的化合物c-1至c-10單體-d丙烯酸酯d-1丙烯酸甲酯d-2甲基丙烯酸甲酯d-3甲基丙烯酸乙酯d-4甲基丙烯酸異丙酯d-5甲基丙烯酸正丁基酯從表II-1的結果顯然看出，實施例II-1至II-37中的樣品與對比例II-1至II-3中的樣品相比具有優異的顯影寬容度，尤其是，在進行燃燒處理時優異。
通過在光敏平版印刷板的光敏層中使用本發明紅外敏感的光敏組合物，可得到具有優異的顯影寬容度和印刷壽命(尤其是，在其中進行燃燒處理的情況下)的光敏平版印刷板。
盡管本發明已根據其具體例子詳細描述，但本領域普通技術人員顯然看出，各種改變和改進可在不背離本發明主旨和范圍的情況下作出。
權利要求
1.一種紅外敏感的光敏組合物，包含(A)樹脂，(B)酚醛清漆樹脂，和(C)光-熱轉化物質，其中樹脂(A)至少具有作為共聚物組分的(1)(甲基)丙烯酸或結構式(I)表示的單體；和(2)至少一種選自(甲基)丙烯酸酯，(甲基)丙烯酰胺衍生物，和苯乙烯衍生物的化合物 其中R1表示氫原子或烷基基團；和X表示亞芳基基團或以下結構式之一表示的基團 -Ar-Y-其中Y表示二價連接基團；和Ar表示亞芳基基團。
2.根據權利要求1的紅外敏感的光敏組合物，其中組分(1)是(甲基)丙烯酸，和組分(2)是至少一種選自(甲基)丙烯酰胺衍生物和苯乙烯衍生物的化合物。
3.根據權利要求1的紅外敏感的光敏組合物，其中組分(1)是結構式(I)表示的單體 其中R1表示氫原子或烷基基團，和X表示亞芳基基團或以下結構式之一表示的基團 -Ar-Y-其中Y表示二價連接基團，和Ar表示亞芳基基團。
4.根據權利要求1的紅外敏感的光敏組合物，其中X表示亞芳基基團。
5.根據權利要求1的紅外敏感的光敏組合物，其中X表示以下結構式之一表示的基團 -Ar-Y-其中Y表示二價連接基團，和Ar表示亞芳基基團。
6.根據權利要求1的紅外敏感的光敏組合物，其中X表示以下結構式表示的基團 其中Y表示-NR2-Z-，R2表示氫原子或烷基基團，和Z表示二價連接基團。
7.根據權利要求1的紅外敏感的光敏組合物，其中組分(1)是一種選自下列化合物(a-29)、(a-33)、(a-34)、(a-35)、和(a-36)的單體
全文摘要
本發明公開了一種紅外敏感的光敏組合物，包含(A)樹脂，(B)酚醛清漆樹脂，和(C)光－熱轉化物質，其中樹脂(A)至少具有作為共聚物組分的(1)(甲基)丙烯酸或表示為本文所定義的結構式(I)的單體；和(2)至少一種選自(甲基)丙烯酸酯，(甲基)丙烯酰胺衍生物，和苯乙烯衍生物的化合物。
文檔編號C08K5/00GK1445608SQ0310747
公開日2003年10月1日 申請日期2003年3月20日 優先權日2002年3月20日
發明者芹川健, 河內幾生, 土屋光正, 中村一平 申請人:富士膠片株式會社