肟酯光敏引發劑的制作方法
【專利摘要】式I、II、III、IV或V的肟酯化合物為有效的光敏引發劑，其中Z為例如(式A)；Z1為例如NO2、未經取代或經取代的C7-C20芳酰基或未經取代或經取代的C4-C20雜芳酰基；條件為至少一個Z1不同于NO2；Z2為例如未經取代或經取代的C7-C20芳酰基；R1、R2、R3、R4、R5和R6為例如氫、鹵素、或未經取代或經取代的C1-C20烷基、未經取代或經取代的C6-C20芳基、或未經取代或經取代的C4-C20雜芳基；R9、R10、R11、R12和R13為例如氫、鹵素、OR16、未經取代或經取代的C1-C20烷基；條件為R9與R13不為氫或氟；R14為例如未經取代或經取代的C6-C20芳基或C3-C20雜芳基；Q為例如C6-C20亞芳基或C3-C20亞雜芳基；Q1為-C1-C20亞烷基-CO-；Q2為亞萘甲酰基；Q3為例如亞苯基；L為例如O-亞烷基-O-；R15為例如氫或C1-C20烷基；R20為例如氫、或未經取代或經取代的C1-C20烷基。
【專利說明】肟酯光敏引發劑
[0001] 本發明涉及基于特定咔唑衍生物的新肟酯化合物和其作為光敏引發劑在可光聚 合組合物中的用途，特別是在光致抗蝕劑配制劑中的用途，例如在濾色器應用中的黑色矩 陣用樹脂中的用途。
[0002] 具有咔唑結構部分的肟酯化合物在本領域中已知為光敏引發劑。例如， W002/100903 公開相應化合物。JP2006-030809-A、JP2006-162784 和JP2009-128419 的寬 泛通常范疇還涵蓋具有咔唑結構部分的化合物。JP2005-099258-A中描述二聚咔唑化合物。
[0003] 然而，具體實例均未提供具有如對本發明化合物所給出的特征的化合物。
[0004] 在光聚合技術中仍需要具有高反應性、易于制備且易于處理的光敏引發劑。例如 在濾色器抗蝕劑應用中，對于高色彩質量性能需要經高度著色的抗蝕劑。隨著顏料含量的 增加，色彩抗蝕劑的固化變得更加困難。因此，需要具有高敏感性的光敏引發劑。此外，這些 新光敏引發劑也必須滿足對于性能如易處理性、高溶解性、熱穩定性和儲存穩定性的高工 業要求。此外，顯示器應用中的引發劑應促進圖案的表面光滑、對基板的粘著性等。此外， 用于制備化合物的相應中間體應容易獲得。因此，仍需要提供如上文所給出的要求的完美 平衡的光敏引發劑化合物。例如在以下方面的可得到性間的可接受的平衡：制備方法和工 藝以及化合物性能，例如敏感性、溶解性等。
[0005] 現已發現所選化合物尤其提供這些性能。因此，本發明的主題為式I、II、III、IV 或V的化合物
【權利要求】
1.式I、II、III、IV或V的化合物，
Z為
或未經取代或經一個或多個相同或不同Rltl取代的C 4-C2tl雜芳酰基； Z1彼此獨立地為no2、C7-C2tl芳酰基或C 4-C2tl雜芳酰基，其中C7-C2tl芳酰基或C 4-C2tl雜芳 酰基未經取代或經一個或多個相同或不同Rltl取代； 條件為式III中的至少一個Z1不同于NO2 ; Z2為C7-C2tl芳酰基或C4-C2tl雜芳酰基，其中C 7-C18芳酰基或C4-C2tl雜芳酰基未經取代或 經一個或多個相同或不同Rltl取代；或Z2為NO2 ; R2、R3、R4、R5 和 R6 彼此獨立地為氫、鹵素、0R16、SR17、NR18R19 或 C「C2Q 烷基，該 C「C2。 烷基未經取代或經一個或多個鹵素、〇R16、C00R16、CONR18R 19或NR18R19取代； 或札、R2、R3、R4、R5和R6彼此獨立地為C 6-C2tl芳基或C4-C2tl雜芳基，其各自未經取代或 經一個或多個C1-C6烷基、C1-C4鹵代烷基或鹵素取代；R 9、R1(l、Rn、R12和R13彼此獨立地為氫、 鹵素、0R 16、SR17、NR18R19、CN、NO2或間隔有一個或多個0、S或NR 2I的C2-C2tl烷基，其中該間 隔的C2-C 2tl烷基未經取代或經以下基團取代：一個或多個齒素、OR16、COOR16、SR 17、CONR18R19、 C6-C2tl芳基、C3-C2tl雜芳基或C 3-C2tl環烷基、間隔有一個或多個0、S、NR21的C3-C 2tl環烷基； 或R9、R1(l、Rn、R12和R13彼此獨立地為未經取代或經以下基團取代的C 1-C2tl烷基：一個 或多個鹵素、〇R16、SR17、C00R16、C0NR18R 19、NR18R19、苯基、C3-C8 環烷基、C3-C2tl 雜芳基或 M ; 條件為R9與R13不為氫或氟； R14為C6-C2tl芳基或C3-C2tl雜芳基，其各自未經取代或經以下基團取代：一個或多個苯 基、鹵素、C1-C4 鹵代烷基、CN、NO2、OR16、SR17、NR18R 19、PO (OCkH2k+1) 2、SO-C1-Cltl 烷基、SO2-C1-C10
或間隔有一個或多個〇、CO、S、C (0)0、OC(O)、亞苯 - $ 基、亞萘基或NR21的C2-C2tl烷基，或該C6-C 2tl芳基或該C3-C2tl雜芳基各自經一個或多個C1-C 2q 烷基取代，該C1-C2tl烷基未經取代或經一個或多個鹵素、C00R16、CONR 18R19、苯基、C3-C8環烷 基、C 3-C2tl雜芳基、C6-C2tl芳氧基羰基、C 3-C2tl雜芳氧基羰基、0R16、SR17、NR 18R19或M取代；Q為 C6-C2tl亞芳基或C3-C2tl亞雜芳基，其各自未經取代或經以下基團取代：一個或多個苯基、鹵 素、C 1-C4 鹵代烷基、CN、N02、0R16、SR17、NR18R 19、PO (0CkH2k+1) 2、SO-C1-Cltl 烷基、SO2-C1-Cltl 烷基、
或間隔有一個或多個〇、CO、S、C (0)0、OC(O)、亞苯基、亞萘 基或NR2I的C2-C2tl烷基，或該C6-C 2tl亞芳基或該C3-C2tl亞雜芳基各自經一個或多個C1-C 2tl烷 基取代，該C1-C2tl烷基未經取代或經一個或多個鹵素、C00R16、CONR 18R19、苯基、C3-C8環烷基、 C3-C2tl雜芳基、C6-C2tl芳氧基羰基、C 3-C2tl雜芳氧基羰基、0R16、SR17、NR 18R19或M取代； Q1為直接鍵、C「C2(I亞烷基、C「C2(I亞烯基，該C1-C 2tl亞烷基或C1-C2tl亞烯基未經取代或經 以下基團取代：一個或多個鹵素、〇R16、C00R16、NR18R 19、C1-C2tl雜芳基、
苯基或經鹵素、C1-C2tl烷基、C1-C4鹵代烷基、0R 16、SR17、或NR18R19取代的苯基； 或Q1為C3-Cltl亞環烷基或C3-C ltl亞環烯基，其其均任選地間隔有0、CO或NR21 ; 或Q1為間隔有一個或多個〇的C2-C2tl亞烷基或間隔有一個或多個0的C 2-C2tl亞烯基， 該間隔WC2-C2tl亞烷基或C2-C2tl亞烯基未經取代或經以下基團取代：一個或多個鹵素、0R 16、
C00R16、NR18R19、C1-C 2tl雜芳基、 苯基或經鹵素、C1-C2tl烷基、C1-C 4鹵代 烷基、0R16、SR17、或NR18R19取代的苯基； 或Q1為亞苯基、亞萘基、亞香豆素基或C1-C2tl亞雜芳基，其各自未經取代或經以下基團 取代：一個或多個C1-C12烷基、苯基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、CN、N0 2、0R16、SR17、NR18R19或任選 地間隔有〇、CO或NR 21的C3-Cltl環烷基； 或Q1為亞苯基-0*或亞萘基-〇*，其各自未經取代或經一個或多個C1-C6燒基、鹵素、苯 基、0R16、SR17 或 NR18R19 取代； 或Q1為C1-C2tl亞烷基-CO*或亞苯基-C0*，其未經取代或經一個或多個C 1-C6烷基、鹵 素、苯基、〇R16、SR17 或 NR18R19 取代； 或Q1為任選地間隔有一個或多個0的C1-C2tl亞烷基-0-C0*，且該間隔或未經間隔的 C1-C2tl亞烷基-0-C0*未經取代或經一個或多個OH取代； 或Q1為亞苯基-0-C0*，其未經取代或經一個或多個C1-C6烷基、C 1-C4鹵代烷基、鹵素、 苯基、0R16、SR17 或 NR18R19 取代；
其中該雙星號表示與咔唑基的鍵且其中該亞萘 P為整數1或2 ;其中Q1定義中的星號表示與L的鍵；
f 甲酰基或亞苯甲酰基未經取代或經一個或多個相同或不同Rltl取代；Q3為亞苯基、亞萘基或
G 為 NO2 或-COR28 ; L為C「C2(I亞燒基、C2-C12亞稀基、O -亞苯基-0、0-亞蔡基-0、S-C「C 2(l亞燒基-S、S-亞 苯基-s、s-亞萘基-S、 C2-C2tl亞烷基，該C2-C2tl亞烷基間隔有一個或多個選自如下基團：0、S、CO、（co)o、 O(CO)、亞苯基和亞萘基， 或L為O-C1-C2tl亞烷基-0、間隔有一個或多個選自如下基團的O-C2-C 2tl亞烷基-0 :0、 s、co、（co)o、o(co)、亞苯基和亞萘基， 或L為間隔有一個或多個選自如下基團的S-C2-C2tl亞烷基-S :o、s、co、（co)o、o(co)、 亞苯基和亞萘基， 其中所定義的所有基團L未經取代或經一個或多個鹵素取代； R" 14為未經取代或經以下基團取代的C1-C2tl烷基：苯基或經一個或多個鹵素、C 1-C2tl烷 基、C1-C4鹵代烷基、0R16、SR17或NR 18R19取代的苯基； 或R〃14為間隔有一個或多個〇、⑶、S、C(O) 0、OC(O)、亞苯基、亞萘基或NR21的C2-C2tl烷 基，其中該間隔的C2-C2tl烷基未經取代或經以下基團取代：一個或多個鹵素、0R16、C00R 16、 CONR18R19、苯基或經0R16、SR17或NR 18R19取代的苯基； 或R〃14為CN、CONR18R19、NO2、C 1-C4齒代烷基、S (O)m-C1-C6烷基、未經取代或經C1-C 12烷 基或SO2-C1-C6烷基取代的S (O)m-苯基； 或R〃14為未經取代或經C1-C12烷基取代的SO2O-苯基；或為二苯基膦酰基或二-(C 1-C4 燒氧基）_勝醜基； 或r〃14為C6-C2tl芳基或C3-C 2tl雜芳基，其各自未經取代或經以下基團取代：一個或 多個苯基、鹵素、C1-C4 鹵代烷基、CN、N02、0R16、SR17、NR18R 19、P0(0CkH2k+1)2、SO-C1-C ltl 烷基、 SO2-C1-Cltl烷基或間隔有一個或多個0、CO、S、C(O) 0、OC(O)、亞苯基、亞萘基或NR21的C2-C20 烷基，或其各自經一個或多個C1-C2tl烷基取代，該C1-C 2tl烷基未經取代或經以下基團取代： 一個或多個鹵素、C00R16、CONR18R 19、苯基、C3-C8環烷基、C3-C2tl雜芳基、C 6-C2tl芳氧基羰基、 C3-C2tl 雜芳氧基羰基、OR16、SR17 或 NR18R19 ; R15為氫、C3-C8環燒基、C2-C 5鏈烯基、C1-C2tl燒氧基或C1-C2tl燒基，該C 1-C2tl燒基未經取 代或經一個或多個鹵素、苯基、C1-C2tl烷基苯基或CN取代； 或R15為苯基或萘基，其各自未經取代或經一個或多個C1-C6烷基、C 1-C4鹵代烷基、鹵 素、CN、0R16、SR17 或 NR18R19 取代； 或R15為C3-C2tl雜芳基、苯甲氧基或苯氧基，其各自未經取代或經一個或多個C 1-C6烷 基、C1-C4鹵代烷基或鹵素取代； k為整數1-10 ; m為整數1或2 ; R' 14具有如對R14所給出的含義之一或為C1-C2tl烷基； R' 15具有如對R15所給出的含義之一； X1為0、CO、S或直接鍵； X2 為 0、S、SO 或 SO2 ; X3 為 0、S 或 NR' 2。； R16為氫、苯基-C1-C3烷基、C「C2(I烷基，該C 1-C2tl烷基未經取代或經以下基團取代：一個 或多個鹵素、〇H、SH、CN、C3-C6 鏈烯氧基、0 (C1-C4 烷基）、0CH2CH2CN、OCH2CH2 (CO) 0 (C1-C4 烷 基）、0 (CO) - (C1-C4 烷基）、0 (CO) - (C2-C4)鏈烯基、0 (CO)-苯基、（CO) OH、（CO) 0 (C1-C4 烷基）、 C3-C2tl環烷基、so2-(crc 4鹵代烷基）、(KC1-C4鹵代烷基）、CKC1-C 2tl亞芳基）-M、或間隔有一 個或多個0的C3-C2tl環烷基； 或R16為間隔有一個或多個〇、S或NR21的C2-C2tl烷基，該間隔的C 2-C2tl烷基未經取代或 經O-C6-C2tl亞芳基-M取代，該O-C6-C2tl亞芳基-M中的該亞芳基未經取代或經一個或多個 C1-C6烷基或0 (C1-C6烷基）取代； 或 R16 為（CH2CH2O) n+1H、（CH2CH2O) n (CO)-(C1-C8 烷基）X1-C8 烷酰基 X2-C12 鏈烯基、C3-C6 鏈烯酰基、或未經間隔或間隔有一個或多個〇、S、CO或NR21的C3-C2tl環烷基； 或R16為未經間隔或間隔有一個或多個0的C1-C8烷基-C3-C ltl環烷基； 或R16為未經取代或經一個或多個C1-C6烷基、鹵素、OH或C 1-C3烷氧基取代的苯甲酰 基； 或R16為苯基、萘基或C3-C2tl雜芳基，其各自未經取代或經以下基團取代：一個或多個鹵 素、OH、C1-C12烷基、C1-C12烷氧基、CN、NO 2、苯基-C1-C3烷氧基、苯氧基、C1-C12烷基硫基、苯 基硫基、N^-C 12烷基）2、二苯基氨
n 為 1-20 ; R17為氫、C2-C12鏈烯基、C3-C 2tl環烷基或苯基-C1-C3烷基，其中該C2-C 12鏈烯基、C3-C2。 環烷基或苯基-C1-C3烷基未經間隔或間隔有一個或多個0、S、CO或NR21 ; 或R17為C1-C2tl烷基，其未經取代或經以下基團取代：一個或多個0H、SH、CN、C 3-C6鏈烯 氧基、0CH2CH2CN、OCH2CH2 (CO) 0 (C1-C4 烷基）、0 (CO) - (C2-C4)鏈烯基、0 (CO) - (C1-C4 烷基）、 0 (CO)-苯基、COOR16 或 S-C6-C2tl 亞芳基-M ; 或R17為C1-C2tl烷基，其未經取代或經以下基團取代：一個或多個0H、SH、CN、C 3-C6鏈烯 氧基、OCH2CH2CN' OCH2CH2 (CO) O (C1-C4 烷基）、O (CO) - (C2-C4)鏈烯基、O (CO) - (C1-C4 烷基）、 O(CO)-苯基或 COOR16 ; 或R17為間隔有一個或多個〇、s、CO或NR2I的C2-C2tl烷基，該間隔的C 2-C2tl烷基未經取 代或經S-C6-C2tl亞芳基-M取代； 或 R17 為（CH2CH2O) nH、（CH2CH2O) n (CO) - (C1-C8 烷基）、C2-C8 烷酰基或 C3-C6 鏈烯酰基； 或R17為未經取代或經一個或多個C1-C6烷基、鹵素、OH、C 1-C4烷氧基 或C1-C4燒基硫基取代的苯甲醜基； 或R17為苯基、萘基或C3-C2tl雜芳基，其各自未經取代或經以下基團取代：一個或多個鹵 素、CfC12燒基、CfC4 1?'代燒基、C1-C12燒氧基、CN、NO2、苯基-CfC 3燒氧基、苯氧基、CfC12燒 基硫基、苯基硫基、N (C1-C12烷基）2、二苯基氨基、（CO) 0 (C1-C8烷基）、（CO)-C1-C8烷基、（CO)
R18和R19彼此獨立地為氫、C1-C2tl烷基、C 2-C4羥基烷基、C2-Cltl烷氧基烷基、C2-C 5鏈烯基、 C3-C2tl環烷基、苯基-C1-C3烷基、C 1-C8烷酰基X1-C8烷酰基氧基、C3-C 12鏈烯酰基、SO2-(C1-C4 鹵代烷基）或苯甲酰基； 或R18和R19為苯基、萘基或C3-C2tl雜芳基，其各自未經取代或經一個或多個鹵素、C 1-C4 鹵代烷基、C1-C2tl烷氧基、C1-C12烷基、苯甲酰基或C 1-C12烷氧基取代； 或R18和R19與其所連接的N原子一起形成未經間隔或間隔有0、S或NR2I的5員或6 員飽和或不飽和環，且該5員或6員飽和或不飽和環未經取代或經以下基團取代：一個或多 個 C1-C2tl 烷基、C1-C2tl 烷氧基、=0、0R16、SR17、NR31R32、COR 41、NO2、鹵素、C1-C4 鹵代烷基、CN、苯
或未經間隔或間隔有一個或多個〇、S、CO或NR21的C 3-C2tl環烷基； 或R18和R19與其所連接的N原子一起形成基團
R2tl為氫、COR41或C1-C2tl烷基，其未經取代或經一個或多個鹵素、0R 16、SR17、C00R16、 CONR18R19、NR18R19、PO (0CkH2k+1) 2 或 M 取代； 或R2tl為間隔有一個或多個〇、CO、C(0)0、OC(O)或NR2I WC2-C2tl烷基，其中該間隔的 C2-C2tl烷基未經取代或經一個或多個鹵素、0R16、SR 17、C00R16、C0NR18R19、NR18R 19或M取代； 或R2tl為C6-C2tl芳基或C3-C 2tl雜芳基，其各自未經取代或經以下基團取代：一個或多個苯 基、鹵素、CrC4齒代烷基、CN、N02、0R16、SR 17、NR18R19、M、
或間隔有一個或 多個0、S或NR21的C1-C2tl烷基，或該C6-C 2tl芳基或該C3-C2tl雜芳基各自經一個或多個C1-C 2tl 烷基取代，該C1-C2tl烷基未經取代或經一個或多個鹵素、C00R16、CONR 18R19、苯基、C3-C8環烷 基、C 3-C2tl雜芳基、C6-C2tl芳氧基羰基、C 3-C2tl雜芳氧基羰基、OR16、SR17或NR 18R19取代； R' 2Q為氫、COR41或C1-C2tl烷基，該C 1-C2tl烷基未經取代或經一個或多個鹵素、0R16、SR17、 COOR16、CONR18R19、NR18R 19 或 PO (0CkH2k+1) 2 取代； 或R' 2〇為間隔有一個或多個〇、CO、C(0)0、OC(O)或NR2I的C2-C 2tl烷基，其中該間隔的 C2-C2tl烷基未經取代或經一個或多個鹵素、0R16、SR 17、C00R16、CONR18R19或NR18R 19取代； 或R' 2(|為C6-C2tl芳基或C3-C2tl雜芳基，其各自未經取代或經以下基團取代：一個或多個 苯基、齒素、C1-C4齒代烷基、CN、N02、0R16、SR 17.
或間隔有一個或多 個0、S或NR21的C1-C2tl烷基，或該C6-C 2tl芳基或該C3-C2tl雜芳基各自經一個或多個C1-C 2tl烷 基取代，該C1-C2tl烷基未經取代或經一個或多個鹵素、C00R16、CONR 18R19、苯基、C3-C8環烷基、 C3-C2tl雜芳基、C6-C2tl芳氧基羰基、C 3-C2tl雜芳氧基羰基、OR16、SR17或NR 18R19取代； R21為氫、C1-C2tl烷基、C1-C 4鹵代烷基或間隔有一個或多個0、CO、C(O)O或OC(CO)的 C2-C20 燒基， 或R21為COR41、苯基-C1-C4烷基或未經間隔或間隔有一個或多個0或CO的C 3-C8環烷 基， 或R21為苯基或萘基，其均未經取代或經以下基團取代：一個或多個C1-C2tl烷基、鹵素、
R22、R23、R24、R25、R26 或 R27 彼此獨立地為氫、C0R41、N02 或
，或 R22、R23 或 R24中的一個和R25、R26或R27中的一個與X 3和其所連接的苯環一起形成雜芳族環體系； R28為C6-C2tl芳基或C3-C2tl雜芳基，其各自未經取代或經一個或多個苯基、鹵素 X1-C4鹵 代烷基、CN、N02、0R16、SR17、NR18R 19或間隔有一個或多個0、S或NR2I的C2-C2tl烷基取代，或該 C6-C2tl芳基或C3-C2tl雜芳基各自經一個或多個C 1-C2tl烷基取代，該C1-C2tl烷基未經取代或經 以下基團取代：一個或多個鹵素、C00R 16、CONR18R19、苯基、C3-C8環烷基、C 3-C2tl雜芳基、C6-C2。 芳氧基羰基、C 3-C2tl 雜芳氧基羰基、OR16、SR17 或 NR18R19 ; R29 為 COOR16、CONR18R19、（CO)R16 ;或 R29具有對R18和R19所給出的含義之一； R3tl 為 C00R16、C0NR18R19、（CO) R16 ;或 R3tl 具有對 R16 所給出的含義之一； R31和R32彼此獨立地為氫、C1-C2tl烷基、C 1-C4鹵代烷基、C3-Cltl環烷基或苯基； 或R31和R32與其所連接的N原子一起形成未經間隔或間隔有0、S或NR2I的5員或6員 飽和或不飽和環，且該5員或6員飽和或不飽和環未經稠合或該5員或6員飽和或不飽和 環與苯環稠合；
R33、R34、R35、R36、R37、R 38、R39 和 R4tl 彼此獨立地為氫、 NO2、COR41、C1-C20 1I
烷基、C1-C4齒代烷基、0R16、SR17、NR 18R19、齒素、CN、苯基或未經間隔或間隔有一個或多個0、 S、CO 或 NR21 的 C3-C2tl 環烷基； 或 R35 和 R36 或 R37 和 R38，或 R35 和 R36 與 R37 和 R38 均為 R41 為 C6-C2q 芳基或C3-C2ci雜芳基，其各自未經取代或經一個或多個苯基、鹵素、C1-C 4鹵代烷基、CN、N02、 0R16、SR17、NR18R19或間隔有一個或多個0、S或NR 21的C2-C2tl烷基取代，或該C6-C2tl芳基或該 C3-C2tl雜芳基各自經一個或多個C1-C2tl烷基取代，該C 1-C2tl烷基未經取代或經以下基團取 代：一個或多個齒素、C00R16、CONR18R19、苯基、C 3-C8環烷基、C3-C2tl雜芳基、C6-C 2tl芳氧基羰 基、C3_C2(I 雜方氧基撰基、OR16、SR17 或 NR18R19 ;
或R41為氫、〇H、C1-C2tl烷基、C1-C 4齒代烷基、間隔有一個或多個0、CO或NR2I的C2-C2q 烷基，或R41為未經間隔或間隔有〇、S、CO或NR2I的C3-C 2tl環烷基； 為氫、C3-C8環燒基、C2-C5鏈烯基、C 1-C2tl燒氧基或為C1-C2tl燒基，該C1-C 2tl燒基未經 取代或經一個或多個鹵素、苯基、C1-C2tl烷基苯基或CN取代； 或R42為苯基或萘基，其均未經取代或經一個或多個C1-C6烷基、C 1-C4鹵代烷基、鹵素、 CN、0R16、SR17 或 NR18R19 取代； 或R42為苯甲氧基或苯氧基，其均未經取代或經一個或多個C1-C6烷基、C 1-C4鹵代烷基 或鹵素取代。
2.根據權利要求1的式I、II、III或IV的化合物，其中
Z1為C7-C2tl芳酰基，其未經取代或經一個或多個相同或不同的R ltl取代；1^、1?2、1?3、1?4、1? 5 和R6為氫； Rio和Ri2為氫； R11 為氫、OR16 或 C1-C2tl 烷基； R9和R13彼此獨立地為OR16或C1-C 2tl烷基； R14為C6-C2tl芳基，其未經取代或經以下基團取代：一個或多個NO 2、OR16、NR18R19或C1-C 2tl 烷基，該C1-C2tl烷基未經取代或經SR17取代； Q為C6-C2tl亞芳基； Qi為C1-C2tl亞燒基；
G 為-COR28 ; L為O-C1-C2tl亞烷基-0、間隔有一個或多個0的O-C2-C 2tl亞烷基-0 ; R " 14為C1-C2tl烷基或C6-C2tl芳基，該C 6-C2tl芳基未經取代或經C1-C2tl烷基取代； R15 為 C1-C2tl 烷基； R' 14 為 C1-C2tl 烷基； R' 15 為 C1-C2tl 烷基； X3與R24和R27和其所連接的苯環一起形成雜芳族環體系； R16為C1-C2tl烷基，其未經取代或經以下基團取代：一個或多個鹵素、0H、0(C 1-C4烷基）、 O (CO) - (C1-C4 燒基）或 O (C1-C2tl 亞芳基）-M ; 或R16為間隔有一個或多個〇的C2-C2tl烷基，該間隔的C 2-C2tl烷基經O-C6-C2tl亞芳基-M 取代，該O-C6-C2tl亞芳基-M中的該亞芳基未經取代或經0 (C1-C6烷基）取代； 或R16為C1-C8烷酰基； R17為未經取代或經COOR16取代的C1-C2tl烷基； R18和R19彼此獨立地為C1-C2tl烷基， 或R18和R19與其所連接的N原子一起形成未經間隔或間隔有0的5員或6員飽和或不 飽和環，或R18和R19與其所連接的N原子一起形成基團
R2O為C1-C2tl烷基或間隔有一個或多個0的C2-C 2tl烷基，其中該間隔的C2-C2tl烷基未經 取代或經NR18R19取代；
R22、R23、R25 和 R26 為氫； R24和R27與X3和其所連接的苯環一起形成雜芳族環體系； R28為未經取代或經C1-C2tl烷基取代的C6-C 2tl芳基； R33、R35、R36、R37、R38和R 4tl彼此獨立地為氫；
R39 為 COR41 ; R41為未經取代或經C1-C2tl烷基取代的C6-C 2tl芳基。
3.根據權利要求2的式I、II、III或IV的化合物，其中 Z1為經Rltl取代的C7-C2tl芳酰基； R " 14為C1-C2tl烷基或經C1-C2tl烷基取代的C 6-C2tl芳基； R16為C1-C2tl烷基，其未經取代或經以下基團取代：一個或多個鹵素、0H、0 (C1-C4烷基）、 0 (CO) - (C1-C4 燒基）或 0 (C1-C2tl 亞芳基）-M ; 或R16為間隔有一個或多個〇的C2-C2tl烷基，該間隔的C 2-C2tl烷基經O-C6-C2tl亞芳基-M 取代，該O-C6-C2tl亞芳基-M中的該亞芳基經0 (C1-C6烷基）取代； 或R16為C1-C8烷酰基； R17為經COOR16取代的C1-C2tl烷基； R18和R19彼此獨立地為C1-C2tl烷基， 或R18和R19與其所連接的N原子一起形成未經間隔或間隔有0的6員飽和環； 或R18和R19與其所連接的N原子一起形成基團
R2O為C1-C2tl烷基或間隔有一個或多個〇的C2-C 2tl烷基，其中該間隔的C2-C2tl烷基經 NR18R19 取代；
R24和R27與X3和其所連接的苯環一起形成咔唑基環體系； R28為經C1-C2tl烷基取代的C6-C 2tl芳基； R41為經C1-C2tl烷基取代的C6-C 2tl芳基。
4. 一種可光聚合組合物，其包含 (a) 至少一種烯鍵式不飽和可光聚合化合物，和 (b) 至少一種如權利要求1所定義的式I、II、III、IV或V的化合物作為光敏引發劑。
5. 根據權利要求4的可光聚合組合物，其中該組分（a)為通過飽和或不飽和多元酸酐 與環氧樹脂和不飽和單羧酸的反應產物反應獲得的樹脂。
6. 根據權利要求4的可光聚合組合物，其除該光敏引發劑（b)外，額外包含至少一種其 他光敏引發劑（c)和/或其他添加劑（d)。
7. 根據權利要求6的可光聚合組合物，其包含顏料或顏料混合物或一種或多種顏料與 一種或多種染料的混合物作為其他添加劑（d)。
8. 根據權利要求7的可光聚合組合物，其包含分散劑或分散劑混合物作為其他添加劑 ⑷。
9. 根據權利要求4-8中任一項的可光聚合組合物，其基于該組合物包含0. 05-25重 量％光敏引發劑（b)或光敏引發劑（b)和（C)。
10. 根據權利要求4-9中任一項的可光聚合組合物，其包含光敏劑，尤其為選自二苯甲 酮、二苯甲酮衍生物、噻噸酮、噻噸酮衍生物、蒽醌、蒽醌衍生物、香豆素和香豆素衍生物的 化合物作為其他添加劑（d)。
11. 根據權利要求4-10中任一項的可光聚合組合物，其額外包含粘合劑聚合物（e)，尤 其為甲基丙烯酸酯與甲基丙烯酸的共聚物。
12. -種制備根據權利要求1的式I、II、III、IV或V的化合物的方法，其通過使式IA、
其中 Z、Zi、Z2、Q、Qi、Q2、Q3、L、Rp R2、R3、R4、R5、R6、R 2tl 和 R14 如權利要求 1 中所定義， 與式2的酰基鹵化物或式3的酸酐在堿或堿混合物存在下反應
其中Hal為齒素，尤其C1，且R15如權利要求1中所定義。
13. -種使含有烯鍵式不飽和雙鍵的化合物光聚合的方法，包括以150-600nm范圍內 的電磁輻射或以電子束或以X射線輻照根據權利要求4-11中任一項的組合物。
14. 一種濾色器，通過如下制備：在透明基材上提供紅色、綠色和藍色像元和任選地黑 色矩陣，其均包含光敏樹脂和顏料；和在所述基材的表面上或濾色器層的表面上提供透明 電極，其中所述光敏樹脂包含多官能丙烯酸酯單體、有機聚合物粘合劑和如權利要求1所 定義的式I、II、III、IV或V的光聚合引發劑。
其中 Z、Zp Z2、Q、Qp Q2、Q3、L、Rp R2、R3、R4、R5、R6、R 2tl 和 R14 如權利要求 1 中所定義。
16. -種涂覆基板，其在至少一個表面上涂有根據權利要求4的組合物。
17. -種照相產生浮凸圖象的方法，其中使根據權利要求16的涂覆基板經受成圖象曝 光且隨后用顯影劑移除未曝光部分。
18. 根據權利要求1的式I、II、III、IV或V的化合物在使包含至少一種烯鍵式不飽和 可光聚合化合物的組合物光聚合中的的用途。
19. 根據權利要求13的方法，其用于產生著色和未著色油漆和清漆，粉末涂料，印刷油 墨，印刷板，粘著劑，牙科組合物，凝膠涂層，光致抗蝕劑，用于包封電氣和電子組件，用于制 造磁性記錄材料，微機械部件，波導，光學開關，鍍覆掩模，彩色打樣體系，玻璃纖維光纜涂 料，絲網印刷模版，借助立體平版印刷的三維物體，用于全息記錄的圖象記錄材料，微電子 電路，脫色材料，含有微膠囊的配制劑。
【文檔編號】C07D209/88GK104284888SQ201380023834
【公開日】2015年1月14日 申請日期:2013年5月6日 優先權日:2012年5月9日
【發明者】西前祐一, 倉久敏, 國本和彥, 山上隆平, 田中慶太 申請人:巴斯夫歐洲公司