肟酯光引發劑的制作方法

專利名稱：：肟酯光引發劑的制作方法肟酯光引發劑本發明涉及基于特定葉喳衍生物的新型肟酯化合物，及其作為可光聚合組合物中的光引發劑的用途。由美國專利US3558309已知，某些肟酯衍生物是光引發劑。在US4255513中公開了肟酯化合物。US6596445描述了一些具有給電子基團的坊酯化合物。US4202697公開了丙烯酰^J^取代的坊酯。在JP7-140658A(-DerwentNo.95-234519/31);Bull.Chem.Soc.Jpn.1969，42(10),2981-3;Bull,Chem.Soc.Jpn.1975,48(8)，2393-4;Han'gukSomyuKonghakhoechi1990，27(9)，672-85(=Chem.Abstr.115:115174);Macromolecules，1991，24(15)，4322-7和EuropeanPolymerJournal,1970，933-943中描述了一些醛將酯化合物。在US4590145和JP61-024558-A(=DerwentNo.86-073545/1l)中公開了幾種二苯甲酮坊酯化合物。在Glas.Hem.Drus.Beograd，1981，46(6)，215-30;J.Chem.Eng.Data9(3)，403-4(1964);J.Chin.Chem.Soc.(Taipei)41(5)573-8，(1994);JP62-273259-A(=ChemicalAbstract型:83463w);JP62-28696l-A(=DerwentNo.88-025703/04);JP62-201859-A(=DerwentNo.87-288481/41);JP62-184056-A(=DerwentNo.87-266739/38);US5019482和J.ofPhotochemistryandPhotobiologyA107261-269(1997)中描述了一些對烷氧基-苯基肟酯化合物。此外，在WO02/100903、WO04/050653、WO06/018405、國際專利申請No.EP2006/068202和國際專利申請No.EP2006/068254中公開了將酯化合物。在光聚合技術中，仍然需要高度反應性、易于制備并易于處理的光引發劑。例如，在濾色片抗蝕劑應用領域中，高的色彩品質性能需要高度著色的抗蝕劑。隨著顏料含量的提高，有色抗蝕劑的固化變得M困難。因此，需M感性高于現有引發體系的光引發劑。此外，此類新型光引發劑還必須在如高溶解性、熱穩定性和儲存穩定性之類的性能方面符合高的工業要求。令人驚訝地發現，式i、ii和iii的化合物符合上述要求，R，為氫，(CO)R"2，C廣C2o烷氧基絲，苯基-C廣C4烷基，任選被一個或多個卣素、COORii或CONRuRi3取代的C廣C2o烷基；或R,為被O、CO或NR"插入的QrC2o烷基；或為任選被O、CO或NRm插入的Qrd2烯基，或為CrCs環烯基或(:2-<:12炔基；或R,為苯曱酰基、萘甲酰基、苯氧基羰基或萘氧基羰基；或為各自被一個或多個如下基團取代的苯甲酰基、萘甲酰基、笨氧基羰基或萘氧基羰基C廣C2o烷基、d-C4鹵代烷基、SR10、ORu、NR12R13、鹵素、苯基、COOR、CONR12R13、CN、N02，或任選凈皮O、CO或NR"插入的C3-C10環烷基；或Rj為任選被O、CO或NRw插入的C3-d。環烷基，或為任選被O、CO或NR,4插入的C3-d。環烷基羰基，或為任選被O、CO或NRw插入的C3-C1()環烷基H&羰基；或R，為未取代的苯基或萘基，或為被一個或多個C廣C20烷基、C廣C4其中19卣代烷基、SR10、ORn、NR12R13、閨素、苯基、COORn、CONR12R13、CN、N02或被任選被0、CO或NRm插入的C3-CK)環烷基取代的苯基或萘基；R2和R'2彼此獨立地為氫、C廣C20烷基，該C廣C20烷基任選含有一個或多個C-C多重鍵；任選被O、CO或NR!4插入的QrCH)環烷基，并且該未被插入或被插入的C3-C1()環烷基任選地含有一個或多個C-C多重鍵；或R2和R'2為被一個或多個鹵素、OR、COOR、NR12R13、d-Czo—，XR21雜芳基、C廣C2。雜芳基-(CO)0、C廣C2o雜芳基-S、CONR12R13、R"、苯基或被SR,o、ORn或NRuRu取代的苯基所取代的C廣C2o烷基，該取代的C廣C2o烷基任選含有一個或多個C-C多重鍵；或R2和R，2為^皮一個或多個O插入和/或任選被一個或多個如下基團取代的CVC2o烷基鹵素、ORn、COOR、NR12R13、d-Qo雜芳基、CrCzo雜芳基畫(CO)O、d-C20雜芳基-S、CONR12R13、R"、苯基或被SR,o、ORn或NRuRu取代的苯基；該被插入的(:2-€:20烷基任選含有C-C多重鍵；或R2和R'2為未取代的苯基、萘基或d-C2。雜芳基；或為被一個或多個如下基團取代的苯基、萘基或C廣C20雜芳基d-C,2烷基、CVd2烯基、C2-C12炔基、苯基、鹵素、CN、N02、SR10、ORu、NR12R13，或任選被O、CO或NRw插入的C3-do環烷基；或R2和R、是C2-Qto烷酰基、或未取代或被一個或多個C廣C6烷基、苯基、SR10、ORn或NR^Ru取代的苯甲酰基；或R2和R、為任選4皮一個或多個O插入和/或任選,皮一個或多個OH取代的CVd2烷氧基羰基；或R2和R'2為未取代的或被一個或多個d-C6烷基、卣素、苯基、SRn)、OR"或NR，2R,3取代的苯氧基^J^;或R2和R'2是NRuRu或；<formula>formulaseeoriginaldocumentpage20</formula>R2O12II-C=N—0—C-R。或R2和R、與同基團—U=N—u—G—Ks或(CO)R'2連接的苯基或萘基環的C原子之一形成環，其中所述形成的環是未取代或取代的；R",,R"2具有對R2和R'2給出的含義之一或為R'2。R2。R'"2具有對R2和R'2給出的含義之一或為R、—^20或R'，-N一XR。R3、R4和Rs彼此獨立地為氫，鹵素，R22，C廣C2o烷基，被O、CO或NRw插入的QrC2o烷基，或為任選被O、CO或NR"插入的C2-C12烯基，或為CVC8環烯基，Crd2炔基，苯基-C廣C4烷基，CN，N02或任選被O、CO或NR14插入的C3-C1Q環烷基；或R3、R4和Rs為未取代的或被一個或多個C廣C2o烷基、卣素、CN、SRw、ORu或NRuR,3取代的苯基；或R"R4和Rs為(CO)R'2、SR10、OR、SOR10、SCMIk)或NR12R13，其中取代基(CO)R'2、OR、SRw和NRt2R!3任選通過基團R10、R、R12R13和/或R'2與苯基環上的其它取代基或與苯基環的碳原子之一形成5-或6-元環；平n>^(i)R3、R4或R5中的至少一個不是氫或C廣C2o烷基；和(ii)如果在苯基環對位的R3、R4或Rs中的一個為SR10，那么R,o不是未取代的苯基；和(iii)如果在苯基環對位的R3、R4或Rs中的一個為NR12R13，那么R12和Ru不同時是C廣C2o烷基；和(iv)如果在苯基環對位的R3、R4或Rs中的一個為NR12R13且Ru和Ru與和它們連接的N原子一起形成環，則所述環不是嗎啉環；和(V)如果R3為氫，R4為氫或在苯基環鄰位的d-C2Q烷基而且Rs為在苯基環對位的ORh，那么R不是C3-do環烷基或被O插入的C3-do環烷基；R6、R7、R8、R'6、R'7、R，s、R'VR"7、R'"6和R"'7彼此獨立地具有對R3、R4和Rs給出的含義之一；或式II中的R"6和R"7—起為C廣C6亞烷基或C2-C6亞烯^而與和它們連接的苯基一起形成雙環，其中所述雙環任選被一個或多個C廣C20烷基或被O、CO或NR"插入的QrC2o烷基取代，或所述雙環任選被C廣d鹵代烷基，SR10，OR，NR12R13，鹵素，苯基，COOR，CONR12R13，CN，NO;j或任選被O、CO或NRm插入的C3-do環烷基取代，M;l^團一^^-0^_^與任一環連接；或式III中的R"，6和R"，7—起為C2-C6亞烷基或CrC6亞烯基從而與和它們連接的苯基一起形成雙環，其中所述雙環任選被一個或多個cvc20烷基，由O、CO或NR"插入的C2-Qto烷基取代，或所述雙環任選被d-C4鹵代烷基，SR10,ORu，NR12R13，鹵素，苯基，COORu,CONR12R13，CN，N02或任選被O、CO或NR14插入的C3-C1()環烷基取代；條件是一個或多個基團(CO)R"'2與任一環連接；R9為氫，Q-C8環烷基，C2-Cs烯基，C廣C20烷狄，未取代的C廣C20烷基或被一個或多個g素、苯基、C廣C2o烷基苯基和/或CN取代的C廣C20烷基；或R9為苯基或萘基，兩者是未取代的或被一個或多個d-C6烷基、鹵素、CN、OR"、SR1()和/或NRuRu取代；或R9為爺氧基或苯氧基，兩者是未取代的或被一個或多個d-Q烷基和/或卣素取代；Rn)為氫，C廣C2o烷基，CVd2烯基，任選被O、CO或NR"插入的22C3-Cn)環烷基，或r,o為苯基-d-Ci烷基或為被oh、sh、cn、<:3-<:6烯—"r21氧基、C廣C2。雜芳基、C廣C20雜芳基-(CO)0、C廣C2o雜芳基謹S、R22、OCH2CH2CN、-OCH^CH^CC^CKd-Ct烷基)、-O(CO)-(C，誦Q烷基)、-o(co)-苯基、-(<:0)011或-((:0)0((:1畫(:4烷基)取代的c廣C2o烷基；或R10為被一個或多個O或S插入的CVC2o烷基；或R，o為-(CH2CH20)jH，(cH2CH20)n(co)-(d-C8烷基)，<:2-(:8烷酰基，苯曱酰基，C3-C12烯基或C3-C6烯酰基；或Rw為苯基、萘基或CrC2。雜芳基，各自為未取代的或被一個或多個鹵素、C廣d2烷基、C廣d2烷氧基、苯基-C廣C3烷M、苯氧基、C廣d2烷J^危烷基、苯J^L烷基、-1^(<:1-(:12烷基)2、二苯基"ij^、-(co)o(c-c8烷基)或(CO)N(d-Cs烷基)2取代；或Ro為苯基、萘基或C廣C2o雜芳基且經由直皿、C廣Q亞烷基、O、S、NRm或CO和與SR，o相連的苯基環一起形成5-或6-元環，其中所述苯基或萘基為未取代的或被一個或多個CVC2o烷基、被O、CO或NR"插入的QrC2o烷基取代，或被任選被O、CO或NR"插入的Qrdo環烷基取代，或被卣素、C廣C2o烷fL^、C廣C2o烷基羰基或苯基J^取代；n是l-12的整數；R為氬、任選被一個或多個閨素取代的C廣C2o烷基；或Rn為(CH2CH20)nH、(CH2CH20)n(CO)國(C畫C8烷基)、C-C8烷酰基、C3-C12烯基、<:3《6烯酰基、苯基-C廣C4烷基；或為被一個或多個O插入的C2-C20烷基；或為任選被O、CO或NR"插入的C3-do環烷基；或R!!為被如下基團取代的C廣C2o烷基OH、SH、CN、CVC6烯氧基、C廣C20雜芳基、C廣C20雜芳基隱(CO)O、C廣C20雜芳基畫S、-OCH2CH2CN、1-xr21OCH2CH2(CO)0(Q-C4烷基)、R22、畫0(CO)-(C廣C4烷基)、畫O(CO)-苯基、畫(CO)OH或畫(CO)0(C廣C4烷基)；或Ru為未取代的或被一個或多個C廣Q烷基、面素、OH或C廣Ct烷氧基取代的苯曱酰基；或Rn為苯基、萘基或C廣C2o雜芳基，各自為未取代的或被一個或多個卣素、OH、C廣d2烷基、C3-do環烷基或C廣Cu烷氧基取代；Ri2和Ru彼此獨立地為氫，C廣C2o烷基，被O、CO或NR"插入的C2-C2o烷基，或為QrC4羥烷基、C廣C,2烷氧基、苯基-C廣C4烷基、(CO)R15、C2-do烷氧基烷基、C3-Cs烯基或任選被O、CO或NR!4插入的CVdo環烷基；或R12和R13為苯基或萘基，其各自是未取代的或被一個或多個C廣C20烷氧基，(CO)R15，苯基，NR16R17，SR10，OR",C廣C2o烷基，被由O、CO或NR14插入的C2-C20烷基取代或被任選4皮O、CO或NR14插入的C3-do環烷基取代；或R,2和Ru彼此獨立地為CVCs亞烷基或QrC5亞烯基，其連接到與NR,2R,3相連的苯基或萘基環的C原子之一上，其中所述QrC5亞烷基或QrCs亞烯基任選被O、CO或NRm插入；或Ru和Ru彼此獨立地為苯基，其經由直接鍵連接到NRuRu位于其上的苯基環上；或Ri2和R^和與它們相連的N-原子一起形成5-或6-元的飽和或不飽和環，其任選被0、N或NRm插入，且該環是未取代的或被一個或多個C廣C20烷基、C廣C2。烷氧基、=0、SR10、OR"、NR16R17、(CO)R15、N02、CN、苯基取代，或被zf壬選被O、CO或NR"插入的C3-do環烷基取代；或Ru和Ru和與它們相連的N-原子一起形成雜芳環體系，該雜芳環體系為未取代的或被一個或多個C廣C2o烷基、C廣C2o烷氧基、=0、SR10、ORn、NR16R17、(CO)R15、N02、CN、苯基取代，或凈皮任選,皮O、CO或NR,4插入的C3-do環烷基取代；R，4為氫、C廣C2o烷基、C3-Cs環烷基、苯基或(CO)R，5;R，s為氫，OH，C廣C2o烷基，C廣C4囟代烷基，被O、CO或NRm插入的QrC2。烷基，或為任選被o、co或nr"插入的(:3-<:1()環烷基，或為苯基畫d畫C4烷基、SR10、OR"或NRuRu;或Ri5為苯基、萘基或d-C20雜芳基，它們都是未取代的或被一個或多個SR,o、ORu、NR12R13、一C=N-。-C-R9、CN、N02、鹵素、C廣C2。烷基、d-Ct卣代烷基、被由o、co或NRw插入的(:2-<:20烷基取代或被任選被O、CO或NR14插入的C3-C1()環烷基取代；R6和Rn彼此獨立地為氫、C廣C2o烷基、<:3-<:10環烷基或苯基；或1116和Rn和與它們相連的N-原子一起形成5-或6-元的飽和或不飽和環，其4壬選凈皮0、S或NRw插入；或R，6和R,7彼此獨立地為QrCs亞烷基或C2-Cs亞烯基，其連接到與NR,6Rn相連的苯基環或萘基環的C原子之一上，其中所述QrCs亞烷基或QrCs亞烯基任選被O、CO或NRm插入，并且任選在該C2-C5亞烷基或C2-C5亞烯基上稠合有苯環；1-XR21R18，R19，R20，R'18，R'i9和R'20彼此獨立地為氫，鹵素，R"，C廣C2o烷基，被O、CO或NR"插入的QrC2o烷基，或為任選被O、CO或nr"插入的C2-d2烯基，或為CrCs環烯基，<:2-(:12炔基，苯基畫C廣C4烷基，CN，N02或任選被0、CO或NRw插入的C3-do環烷基；或Ri8，Ri9，R20，R'18，R、9和R'20是未取代或被一個或多個C廣C20烷基、鹵素、CN、SR10、OR"或NRuR!3取代的苯基；或R，s,R19，R20，R'18，R、9和R，20是(CO)R'2、SR10、OR、SOR10、S02Rk)或NR12R13，其中取代基(CO)R'2、OR、SR10和NR12R13任選通過基團R10、R、R^Ru和/或R'2與苯基環上的其它取代基或與苯基環的碳原子之一形成5-或6-元環；R"18和R"19彼此獨立地具有對R"6和R"7給出的含義之一；和R"'8和R"、9彼此獨立地具有對R"'6和R"'7給出的含義之一；R21是COORn、CONR12R13或(CO)R9;或R2i具有對R，s給出的含義之一；R22是COORn、CONR12R13或(CO)R9;或R22具有對R12和R13給出的含義之一；X是O、S、SO或SO;j;25X2是直^:、任選被O、CO或NR"插入的d-C2o亞烷基，并且該未被插入或被插入的d-Qo亞烷基是未取代的或被一個或多個如下基團取代鹵素、OR、COOR、NR12R13、d-Qo雜芳基、d-Qo雜芳基-(CO)O、—fjj-XR21C廣C2o雜芳基-S、CONR12R13、R2。、苯基或被鹵素、C廣C2o烷基、C,-C4鹵代烷基、SR10、OR或NRuRu取代的苯基，并且該未取代或取代的、被插入或未被插入的d-C20亞烷基任選地含有一個或多個C-C多重鍵；m是整數1或2;R23具有對R9給出的含義之一；R24是氬、C廣C2o烷基；CVC2o烯基；任選被O、CO或NR^插入的C3-C10環烷基；或R24是C3-C10環烯基;被一個或多個鹵素、OR,，、COOR!i、NR12R13、d-C20雜芳基、CVQjo雜芳基-(CO)O、C廣C2。雜芳基-S、CONR12R13、R2。或苯基取代的C廣C2o烷基；或R24是被一個或多個O插入的和/或任選被一個或多個閨素、OR,,、COOR、NR12R13、C廣C2o雜芳基、0<:20雜芳基-(CO)O、d-Qjo雜芳基國S、CONR12R13、。或苯基取代的C2-C2o烷基；或R24是苯基、萘基或CVC加雜芳基，它們都任選被一個或多個CrC12烷基、苯基、卣素、C，-C4卣代烷基、CN、N02、SR10、OR"、NR12R13，或任選被O、CO或NR14插入的C3-C1()環烷基取代；或R24是QrC2o烷酰基，或未取代或被一個或多個d-C6烷基、卣素、苯基、SR10、ORn或NRuRu取代的苯甲酰基；或R24是任選被一個或多個O插入和/或任選被一個或多個OH取代的C2-C12烷氧基羰基；或R24是未取代的或被一個或多個C,-C6烷基、C廣Q鹵代烷基、鹵素、苯基、SR1()、ORn或NR^Ru取代的苯氧基羰基；或R24是NRuRj3;或R24與同基團一x，—cn_q-S-r23r24連接的苯基或萘基環的c原子之一形成環，其中所述形成的環是未取代或取代的；或R24是條件是r',r2。或(R2。R1C國'23(a)以下基團中的至少一個是NR12R13或式I或III中的式I中的R3、R4、R5、R6、R7、R、或R'7的定義中的，或式II中的Re、R7、R8、R'6、R'7、R'8、R"6或R"7的定義中的，或式III中的R6、R7、R8、R'6、R'7、R"'6或R"'7的定義中的，或對式III中的R"'2或對式I、II或III中的基團R2或R'2中的Rm提到的基團R"A'中的Rw、R19、R2。、R'18、R'19、R'2。的定義中的基團(CO)R'2中的式II中的，或式I的R,中的基團(CO)R"2中的，或式I中的基團Ri或R,4或式I1中的基團Ru或R,3或式I11中的基團r"2oR12或R13中的R15中的基團一0-S-R9中的或式III中的E^I2;或R2OR"2O—C=N—O—C-R。—C=N—0—C—R。(b)以下基團中的至少一個與同相應的基團(CO)R'2或(CO)R'"2連接的苯基或萘基環的C原子之一形成環式I或III中的&;式I中的R3、R4、R5、R6、R7、R'6或R，7的定義中的，或式II中的Re、R7、R8、R'6、R，7、R'8、R'、或R"7的定義中的，或27式III中的R6、R7、R8、R'6、R'7、R"'6或R'"7的定義中的，或對式III中的R'"2或對式I、II或III中的基團R2或R，2中的Rm提到的基團R'8、'中的R,8、R19、R20、R，18、R，19、R'加的定義中的基團(CO)R'2中的E^L式II中的，或式I的Rj中的基團(CO)R"2中的，或式I中的基團Ri或R"或式II中的基團Ru或Ru或式III中的基團R"2OR12或Ru中的R15中的基團一"N_Q-g—中的E^;或式III中的R'"2;或(c)以下基團中的至少一個含有一個或多個C-C多重鍵式I或III中的&，式I中的R3、R4、R5、R6、R7、R，6或R'7的定義中的，或式II中的R6、R7、R8、R'6、R'7、RVR"6或R"7的定義中的，或式III中的R6、R7、R8、R'6、R，7、R"'6或R'"7的定義中的，或對式III中的R"'2或對式I、II或III中的基團R2或R'2中的Rm提到的基團Ra"中的Ris、R19、R2o、R，18、R，19、R，2o的定義中的基團(CO)R'2中的E^二式II中的，或式I的R,中的基團(CO)R"2中的，或式I中的基團R,或R,4或式H中的基團R!2或R!3或式IH中的基團R12或R13中的R15中的基團一"N_Q-&R9中的或式III中的R"、;或(d)以下基團中的至少一個是被一個或多個C廣Qto雜芳基、C廣C加雜芳基(CO)O、d-C加雜芳基-S或式I或III中的n-xr:取代的d-C2o烷基:式I中的R"R4、R5、R6、R7、R，6或R，7的定義中的，或式II中的R6、R7、R8、R'6、R'7、R'8、R"6或R"7的定義中的，或式III中的R6、R7、R8、R'6、R'7、R，"6或R"'7的定義中的，或對式III中的R'"2或對式I、II或III中的基團R2或R'2中的R24提到的基團R^V^'B中的R,s、R19、R20、R'18、R'19、R'加的定義中的基團(CO)R、中的E^L式II中的，或式I的Ri中的基團(CO)R"2中的，或式I中的基團R,或Ru或式II中的基團Ru或R^或式in中的基團R"2OR12或R13中的R15中的基團一&w-。-&中的或式III中的R"'2或存在于式I、II或III任一個中的作為取代基的基團SR10、OR"或COOR中的RijL或Ri—i—;或(e)以下基團中至少一個是未取代或取代的C廣C2o雜芳基式III中的R'"—或存在于式I、II或III任一個中的作為取代基的基團SR10、OR"或COOR"中的R^或Ru。上迷式I、II和III的化合物的定義受上面所給的條件(a)-(e)限制，并且換言之受下面的條件(a，)-(e，)限制9-R24—X2——C-(a，)R2、R'2、R"2和R'"2中至少一個是NR^R，3或」m—，或R20(b，)R2、R'2、R"2和R'"2中至少一個與同相應的基團一0^-R9、R"2O一i-N-R9、(CO)R'2或(CO)R"'2連接的笨基或茶基環的C原子之一形成環，或(c，)R2、R'2、R"2和R"'2中至少一個含有一個或多個C-C多重鍵，或(d，)R2、R，2、R"2、R"'2、R,o和Rn中至少一個是被一個或多個C廣C2o雜291-xr21芳基、C廣C20雜芳基-(CO)0、d-C2o雜芳基-S或2取代的C廣C2o烷基，或(e，)R"'2、Rk)和R中至少一個是未取代或取代的C廣C2o雜芳基。式I、II和III的化合物的特征在于分子中存在至少一個如上面[(a)-(d)所限定的特定取代基。根據本發明，式I、II和III的化合物可以用作烯屬不飽化合物或包含此類化合物的混合物的光聚合的光引發劑。C廣C2o烷基是直鏈或帶支鏈的，并且是例如C廣ds-、CKW、d-C12-、C廣Cs-、d-CV或C廣C4烷基。實例是甲基、乙基、丙基、異丙基、正丁基、仲丁基、異丁基、叔丁基、戊基、己基、庚基、2,4,4-三甲基戊基、2-乙基己基、辛基、壬基、癸基、十二烷基、十四烷基、十五烷基、十六烷基、十八烷基和二十烷基。d畫ds烷基、d-C,4烷基、C廣d2烷基、C廣Cs烷基、CVC6烷基和d-C4烷基具有上文對CVC20烷基給出的、最多至相應碳原子數的含義。被O、CO或NRw插入的C2-C2Q烷基例如被插入一次或多次，例如分別被O、CO或NRw插入l-9、l-7次或一次或兩次。在基團被多于一個O插入的情況下，所述O-原子被至少一個亞甲基陂此隔開，即O-原子是不連續的。實例為下列結構單元-CH2-0-CH3、-CH2CH2-0-CH2CH3、y=l-9的-CH2CH20]yCH3、(CH2CH20)7CH2CH3、CH:rCH(CH3)-0-CH2-CH2CH3或-CH2-CH(CH3)-0-CH2CH3。C廣Q鹵代烷基是被鹵素單或多取代的C廣Cr烷基，d-Cr烷基例如如上定義。烷基例如被單鹵代或多鹵代，直到所有H原子被鹵素替換。實例是氯甲基、三氯甲基、氟曱基、二氟曱基、三氟甲基或2-溴丙基，尤其是三氟甲基或三氯甲基。含C-C多重鍵的C廣C2o烷基、取代的C廣Qto烷基和被插入的C2-C20烷基是指包含一個或多個，例如l、2或3，尤其是1個，C-C雙鍵或C-C三鍵。含C-C多重鍵的CrC加烷基是例如下述的d-C6烯基。C3-C,2環烷基是例如環丙基、環戊基、環己基、環辛基、環十二烷基，尤其是環戊基和環己基，優選環己基。本申請文本中的C3-C,2環烷基應理解為是至少包含一個環的烷基。例如也是指環丙基、甲基-環戊基、環戊基、環己基、曱基-或二曱基環己基、環辛基，尤其是環戊基和環己基，優選環己基。其它實例是諸如-CH,-alkyl-alkyl-alkyl一例如或c一的結等也認為被構，以及橋聯或稠合環體系，例如該術語涵蓋(其中，alkyl-烷基)。被O、CO或NR"插入的(Vd2環烷基具有上文給出的含義，其中該烷基的至少一個CHr基團被O、CO或NR14替換。實例是諸如-CH，-CH，例如H2-o-alkyl一或3ikylO等結構(其中，alkyl-烷基)含C-C多重鍵的C3-do環烷基是指包含一個或多個，例如1、2或3，尤其是1個，C-C雙鍵或C-C三鍵。含C-C多重鍵的C3-Qo環烷基是例如下述C3-Cs環烯基。苯基-CrQ烷基是例如芐基、苯乙基、(x-甲基芐基、苯基丁基、苯基丙基或a，(x-二甲基卡基，尤其是千基。取代的苯基-d-C4烷基被取代一至四次，例如一次、兩次或三次，尤其是兩次或三次，優選在苯基環上。C2-C12烯基是單或多不飽和、直鏈或帶支鏈的并且是例如C2-C8-、C2-C6-、C2-Cs-或C2-C4烯基。實例是烯丙基、甲代烯丙基、乙烯基、l，l-二甲基烯丙基、l-丁烯基、3-丁烯基、2-丁烯基、1，3-戊二烯基、5-己埽基或7-辛烯基，尤其是烯丙基或乙烯基。C4-C8環烯基具有一個或多個雙鍵，并且是例如C4-C6環烯基或C6-C8環烯基。實例是環丁烯基、環戊烯基、環己烯基或環辛烯基，尤其是環戊烯基和環己烯基，優選環己烯基。31c2-c12炔基是單或多不飽和、直鏈或帶支鏈的并且是例如c2-c8-、C2-CV或C2-C4炔基。實例是乙炔基、丙炔基、丁炔基、l-丁炔基、3-丁炔基、2-丁炔基、戊炔基、己炔基、2-己炔基、5-己炔基、辛炔基等。C廣Qio烷基苯勤目當于在苯基環上M基取代一次或多次的苯基，并且是例如d-C,2烷基-、CrCs烷基-或d-C4烷基苯基，其中烷基數對應于苯基環上所有烷基取代基中所有C-原子的總數。實例是甲苯基、二甲苯基、2，4，6-三甲苯基、乙基苯基、二乙基苯基，特別是甲苯基和2，4，6-三甲苯基。C廣C2。烷氧基是直鏈或帶支鏈的，并且是例如d-C18-、d-C16-、C廣Cj2畫、d-C8-、C廣cv或q-Cr烷氧基。實例是甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、仲丁氧基、異丁氧基、叔丁氧基、戊氧基、己氧基、庚氧基、2，4，4-三甲基戊氧基、2-乙基己氧基、辛氧基、壬氧基、癸氧基、十二烷氧基、十六烷氧基、十八烷氧基或二十烷氧基，特別是甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、仲丁氡基、異丁氧基、叔丁氧基，尤其是甲氧基。Q-C12烷基硫烷基是在"-基"部分具有一個S-原子的CVC12烷基。C-C,2烷基具有上文對d-C20烷基給出的、最多至相應^f、子數的含義。d-d2烷基硫烷基是直鏈或帶支鏈的，例如甲基硫烷基、乙基硫烷基、丙^i^克烷基、異丙基疏烷基、正丁基疏烷基、仲丁基硫烷基、異丁基疏烷基、叔丁基硫烷基。C3-C6烯氧基是單不飽和的或多不飽和的，并且為例如烯丙氧基、甲基烯丙氧基、丁烯氧基、戊烯氧基、1，3-戊二烯氧基、5-己烯氧基。d-C20烷基羰勤目當于d-C20烷酰基，并且為直鏈或帶支鏈的，并且是例如C-C18-、d-C14-、C廣C!2誦、C廣Cs-、C2-C8-、C廣CV或C,畫C4烷酰基或Crd2-或CrC8烷酰基。實例是甲酰基、乙酰基、丙酰基、丁酰基、異丁酰基、戊酰基、己酰基、庚酰基、辛酰基、壬酰基、癸酰基、十二烷酰基、十四烷酰基、十五烷酰基、十六烷酰基、十八烷酰基、二十烷酰基，優選乙酰基。C2-C8烷酰基、CVC6烷酰基和QrC4烷酰基具有上文對C2-C20烷酰基給出的、最多至相應碳原子數的含義。C3-C6烯酰基是單不飽和的或多不飽和的，并且是例如丙烯酰基、2-甲基-丙烯酰基、丁烯酰基、戊烯酰基、1，3-戊二烯酰基、5-己烯酰基。C3-d。環烷基羰基對應于如上定義的環烷基，其中該"基"連接到CO<formula>formulaseeoriginaldocumentpage33</formula>部分上。實例是環己基羰基、環戊基羰基、^2、，以及橋聯或稠合環體系，例如""等，也被認為被涵蓋。被O或NRi4插入的C3-CiG環烷基羰基對應于如上定義的C3-C1G環烷基羰基，其中該烷基的至少一個CH2-基團被O或NR"替代。實例是s2。、J、J等。C2-C,2烷氧基羰基是直鏈或帶支鏈的，并且是例如甲氧基羰基、乙氧基羰基、丙氧基羰基、正丁氧基羰基、異丁氧基羰基、l，l-二甲基丙氧基羰基、戊氧基羰基、己氧基羰基、庚氧基羰基、辛氧基羰基、壬氧基羰基、癸氧基羰基或十二烷氧基羰基，尤其是曱氧基羰基、乙氧基羰基、丙氧基羰基、正丁氧基羰基或異丁氧基羰基，優選甲氧基羰基。CVC6烷氧基羰基和c2-c4烷氧基羰基具有上文對c2-c12烷氧基M給出的、最多至相應碳原子數的含義。被一個或多個-O-插入的C2-C,2烷氧基羰基是直鏈或帶支鏈的。原子數為1至5，例如1至4、l至3、l或2。兩個O-原子被至少兩個亞甲基，即亞乙基隔開。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage33</formula>苯氧基羰基是u，萘氧基羰基相當于^^。一e一。取代的苯氧基羰基和萘氧基羰基基團被取代一至四次，例如一次、兩次或三次，尤其是兩次或三次。苯基環上的取代基優選在苯基環上的4位，或在3，4-、3，4，5-、2，6-、2，4-或2，4，6-構型，尤其是4-或3，4-構型中。C3-C1()環烷基氧基l^對應于如上定義的環烷基，其中該"基"連接到-O(CO)-部分上。實例是環己基M羰基、環戊基氧基羰基、>i,以及橋聯或稠合環體系，例如"^。-c—等，也認為被涵蓋。被O或NR"插入的C3-do環烷基氧基羰基對應于如上定義的基團，其中該烷基的至少一個CHr基團被O或NR"替代。實例是d-C6亞烷基是直鏈或帶支鏈的亞烷基，例如亞甲基、亞乙基、亞丙基、1-甲基亞乙基、l，l-二曱基亞乙基、亞丁基、1-甲基亞丙基、2-甲基-亞丙基、亞戊基或亞己基。C2-C6亞烯基是單不飽和的或多不飽和的，并且是例如亞乙烯基、1-亞丙烯基、l-亞丁烯基、3-亞丁烯基、2-亞丁烯基、1，3-亞戊二烯基或5-亞己烯基。卣素為氟、氯、溴和碘，尤其是氟、氯和溴，優選氟和氯。雜芳基是例如C廣C2。雜芳基并且在本發明范圍中是指包含一個環或多環體系，例如稠合環體系，其中一個或多個環任選被取代，尤其是被一個或多個C廣C2o烷基和/或C廣C2o烷氧基取代。實例是嚷吩基、苯并[b]噻吩基、萘并[2，3-b噻吩基、噻蒽基、二苯并呋喃基、苯并吡喃基、卩占噸基、遙p屯基、phenoxathiinyl、吡咯基、。米喳基、吡唑基、吡嚷基、嘧1^^、峻嗪基、中氮茚基(indolizinyl)、異丐1咮基、丐l咮基、吲唑基、嘌呤基(purinyl)、壹溱基、異會啉基、會啉基、2，3-二氮雜萘基、1，5-二氮雜萘基、喹喔啉基、喹喳啉基、1,2-二氮雜萘基、蝶t基、咔唑基、p-咔啉基、菲t基、吖免基、萘嵌間二氮雜苯基、菲咯啉基、吩溱基、異噻唑基、吩噢溱基、異噁唑基、呋咱基(furazanyl)、吩噁溱基、7-菲基、蒽醌-2-基(=9，10-二氧-9，10-二氫蒽-2-基)、3-苯并[b噻吩基、5-苯并[b]噻吩基、2-苯并[b噻吩基、4-二苯并呋喃基、4，7-二苯并呋喃基、4-甲基-7-二苯并呋喃基、2-咕噸基、8-甲基-2-卩占p屯基、3-站p屯基、2-phe顧yathiinyl、2，7畫phe醒athiinyl、2-p比咯基、3-吡咯基、5-甲基-3-p比咯基、2-咪唑基、4-咪哇基、5-咪唑基、2-甲基-4-咪唑基、2-乙基-4-咪唑基、2-乙基-5-咪唑基、3-吡唑基、l-甲基-3-吡唑基、1-34丙基-4-他喳基、2-吡溱基、5,6-二甲基-2-吡溱基、2-中氮茚基、2-甲基-3-異吲哚基、2-曱基-l-異吲哚基、l-甲基-2-吲哚基、l-甲基-3-吲哚基、1，5-二甲基-2-吲咮基、l-甲基-3-吲唑基、2，7-二甲基-8-噤呤基、2-甲氧基-7-曱基-8-嘌呤基、2-奮溱基、3-異奮啉基、6-異奮啉基、7-異會啉基、3-曱氧基-6-異奮啉基、2-查啉基、6-會啉基、7-喹啉基、2-甲氧基-3-會啉基、2-甲氧基-6-奎啉基、2，3-二氮雜萘-6-基、2，3-二氮雜萘-7-基、l-甲氧基-2，3-二氮雜萘-6-基、1，4-二甲氧基-2，3-二氮雜萘-6-基、1，8-二氮雜萘-2-基、2-喹喔啉基、6-喹喔啉基、2，3-二甲基-6-奮喔啉基、2，3-二甲氧基-6-會喔啉基、2-會哇啉基、7-奮哇啉基、2-二曱基#^基=6=喹唑啉基、1，2-二氮雜萘-3-基、1，2-二氮雜萘-6-基、1,2-二氮雜萘-7-基、3-甲氧基-l，2-二氮雜萘-7-基、2-蝶啶基、6-蝶咬基、7-蝶#、6，7-二曱氧基-2-蝶^&、2-^"唑基、3-吵唑基、9-甲基-2-^唑基、9-甲基-3-啼唑基、p-咕啉-3-基、l-曱基-(5-啼啉-3-基、1-甲基一[3_咔淋_6_基、3-菲咬基、2-吖啶基、3-吖淀基、2-萘嵌間二氮雜苯基、1-甲基-5-萘嵌間二氮雜苯基、5-菲咯啉基、6-菲咯啉基、l-吩溱基、2-吩溱基、3-異噻唑基、4-異噻唑基、5-異噻唑基、2-吩痿溱基、3-吩瘞溱基、10-曱基-3-吩噻溱基、3-異噁唑基、4-異噁唑基、5-異噁唑基、4-甲基-3-呋咱基、2-吩噁溱基或10-曱基-2-吩噁噪基。C廣C20雜芳基-(CO)O表示如上定義的基團，另外帶有COO作為鍵合基團。C廣C20雜芳基-S表示如上定義的基團，另外帶有S作為鍵合基團。術語"和/或"或"或/和，，在本文中意在表示不僅可能存在所定義的選項(取代基)之一，還可能一起存在所定義的幾個選項(取代基)，即不同選項(取代基)的混合。術語"至少"是指一個或超過一個，例如一個或兩個或三個，優選一個或兩個。術語"任選被取代的"是指所指基團是未取代或被取代的。在下面的說明書和權利要求書全文中，除非文中另行要求，術語"包含"或變體如"包括"或"含有，，，應理解為意味著包含所述整數或步驟，或整數或步驟的集合，但不排除任何其它整數或步驟，或整數或步驟的集合。r20如果R2、R'2、R"2和R'"2與和相應的基團一&N-R9、r"2o—o-ii-Rg、(co)R'2或(CO)R'"2連接的苯基或萘基環的C原子之一形成環，則例如形成如下結構其中基團R,、R2、R"，2、R3、Rt、R5、R6、R'6、R'VR7、RVR"VR"7、R"VR8、R'8和R9如上面所限定。所述形成的環是未取代或取代的。取代基是例如對上面R9所限定的基團。尤其是例如C3-Cs環烷基、C2-C5烯基、d-C20烷氧基、C廣C20烷基、苯基、萘基、芐氧基或苯氧基。如果作為(CO)R,2、SR10、ORu、SOR1()、SO2R10或NR12R13的R3、R4或Rs通過基團R1()、Rn、R12、R^或R，2與苯基環上的其它取代基或與苯基環上的C原子形成5-或6-元環，則包括例如下述類型的以下結構如果式II中的R"6和R'V—起為C廣C6亞烷基或CrC6亞烯基從而與和它們連接的苯基一起形成雙環，其中所述雙環任選是取代的，條件U團一&n-g^-R9與任一環連接，則限定了例如下述式的結構36其中所述雙環體系任選具有如上所述的其它取代基。如果式III中的R'"6和R"'7—起為C2-C6亞烷基或C2-C6亞烯_^而與和它們連接的苯基一起形成雙環，其中所述雙環任選是任選取代的，并且條件是一個或多個基團(CO)R"2與任一環連接，則限定了例如下述式的結構<formula>formulaseeoriginaldocumentpage37</formula>其中所述雙環體系任選具有如上所述的其它取代基。如果R,o是苯基或萘基，且經由直M、C廣C4亞烷基、O、S、NR14或CO和與SRn)相連的苯基環形成5-或6-元環，其中所述苯基或萘基為未<formula>formulaseeoriginaldocumentpage37</formula>取代的或取代的，則例如，限定了具有下列類型的結構的化合物<formula>formulaseeoriginaldocumentpage37</formula>等，其中所述c2-c5亞烷基或c2-c5亞烯基任選被O或NR"插入R，3、'3等。如果R12和Ru彼此獨立地為經由直掩睫連接到與NRuRu相連的苯基環上的苯基，則例如，限定了包含下列結構的化合物L。如果Ru和Ru和與它們相連的N-原子一起形成4壬選^f皮O、N或NR14插入的5-或6-元飽和或不飽和環，則形成飽和或不飽和環，例如氮丙梵、吡咯、吡咯烷、咪唑、三唑、噁唑、吡^_、1，3-二喚、1,2-二嚷、旅咬或嗎啉。如果Ru和R^和與它們相連的N-原子一起形成雜芳環體系，則所述環體系意味著包含超過一個環，例如兩個或三個環，以及一個或超過一個相同或不同類型的雜原子。合適的雜原子為例如N、S、O或P，特別是N、S或O。實例是咔唑、吲哚、異吲咮、吲唑、嘌呤、異會啉、會啉、咔啉、吩瘞喚等。如果R16和R17和與它們相連的N-原子一起形成任選,皮O、S或NR14插入的5-或6-元飽和或不飽和環，則形成飽和或不飽和環，例如氮丙咬、吡咯、遙唑、吡咯烷、噁唑、吡啶、1，3-二喚、1，2-二噪、p底咬或嗎啉。如果Ri6和Rn彼此獨立地為連接到與NR^Rn相連的苯基環或萘基環7，4等，其中苯基或萘甲酰基任選進一步被取代。如果Ru和Ru彼此獨立地為連接到與NR,2Ri3相連的苯基環或萘基環的C原子之一上的C2-Cs亞烷基或QrC5亞烯基，則例如，限定了下具有下列類型的結構,々的C原子之一上的CVCs亞烷基或C2-Cs亞烯基，其中所述QrCs亞烷基或C2-C5亞烯基任選被O或NRis插入，并且任選在該C2-C5亞烷基或C2-C5亞烯基上稠合有苯環，則是指下列類型的結構<formula>formulaseeoriginaldocumentpage39</formula>等,在式I和III化合物中，肟基團優選位于N原子的對位，即在呼唑環<formula>formulaseeoriginaldocumentpage39</formula>的3位在式II化合物中，肟基團優選位于N原子的對位，即在苯基環的4<formula>formulaseeoriginaldocumentpage39</formula>在式III化合物中，酰基(CO)R'"2優選位于N原子的對位，即在苯基<formula>formulaseeoriginaldocumentpage39</formula>環的4位:值得關注的是如下式III化合物，其中肟基和酰基(CO)R'"2優選在N<formula>formulaseeoriginaldocumentpage39</formula>原子的對位R,例如為苯基、苯基-C廣C4烷基，C廣C2o烷基，特別是被O或NRm插入的C廣Cs烷基或C2-C加烷基；或R，為任選被O、CO或NR"插入的C3-do環烷基。優選地，R為C廣C20烷基或任選被O插入的C3-do環烷基。R2、R，2、R"2和R"，2例如彼此獨立地為任選含有一個或多個C-C多重鍵的d-C2o烷基；任選被O、CO或NR"插入的C3-do環烷基并且該未被插入或被插入的C3-do環烷基任選地含有一個或多個C-C多重鍵；或為被鹵素、OR、苯基、NR12R13、C廣C2o雜芳基、d-Czo雜芳基畫(CO)O、C廣C20雜芳基-S或<取代的d-C20烷基；或R2和R'2是未取代的苯基或萘基，特別是苯基，或是被一個或多個d-d2烷基、苯基、鹵素、SR10、ORn或NRuRu取代的苯基或萘基，特別是苯基；其中上面所給的條件也適用。優選地，R2、R'2、R"2和R"'2是任選含有一個或多個C-C多重鍵的C廣C2o烷基；被鹵素、OR、苯基、NR12R13、C廣C2。雜芳基、C廣Qjo雜芳基-(CO)O、C廣C2o雜芳基-S或2取代的C廣C2o烷基；或是未取代的苯基或被一個或多個C廣d2烷基、SR10、ORn或NR,2R,3取代的苯基，其R"18R"中上面所給的條件也適用。在所有情況下，R，、另外為R'R'.和R"'2在所有情況下另外為R'2。^^"^^。。R3、R4和Rs彼此獨立地為，例如氫，C廣C2。烷基，R22,被O或NR"插入的<:2-(:20烷基，苯基-C廣C4烷基或任選被O、CO或NR,4插入的Qrdo環烷基；未取代的或被一個或多個SR1Q，OR或NR12R13取代的苯基；或R3、R4和R5為(CO)R'2，SR1()，OR，SOR1(),SO2R10或NR12R13;優選地，R3，R4和Rs彼此獨立地為，例如氫，C廣C2Q烷基，(CO)R'2，SR10,ORn或NR函3。R6、R'6、R7和R'7為，例如氫或C廣C2o烷基，特別是氫，和Rs為，40例如氫、d-C2()烷基或(CO)R'2，特別是氫或(CO)R'2。值得關注的是式II化合物，其中R'8為氫、C廣C20烷基或(CO)R'2，特別是在N原子對位的(CO)R'2，即<formula>formulaseeoriginaldocumentpage41</formula>R"6和R"7為例如，氫或d-C2o烷基，特別是氫；或式II中的R"6和R"7—起為C廣C6亞烷基或QrC6亞烯M而與它們所連接的苯基一起形成雙環；前提條件U團—6,。—"9與任一環連接。R"'6和R"'7為，例如氫或C廣C2o烷基，特別是氫；或式im中R"'6和R"'7—起為C2-C6亞烷基或C2-C6亞烯基從而與它們所連接的苯基一起形成雙環，前提條件是一個或多個基團(CO)R"2與任一環連接。R9為，例如氫，QrC8環烷基，未取代的d-C2o烷基或被苯基取代的CVC2。烷基或d-C2o烷基苯基；或為苯基或萘基，兩者都是未取代的或被一個或多個C廣C6烷基、鹵素、CN，ORu，SR10和/或NR12R13取代；特別地，R9為C3-Cs環烷基，C廣C20烷基或苯基，優選為C廣C20烷基。Ru)優選為苯基，或是經由直皿、C廣C4亞烷基、O、S、NR"或CO,特別經由CO和與SRw相連的苯基環形成5-或6-元環的苯基，其中所述苯基是未取代的或被一個或多個d-C加烷基取代。如果Rw是經由CO和與SRw相連的苯基環形成5-或6-元環的苯基，則形成噢p屯基。R"是例如C廣C2o烷基、苯基-C廣C4烷基；被一個或多個O插入的C2-C20烷基；或任選被O、CO或NR14插入的C3-C10環烷基；優選為d-Czo烷基或任選,皮O插入的C3-C1()環烷基。Ru和Rn例如是氫、C廣C2o烷基、被O或NR"插入的QrC2o烷基、任選^皮O、CO或NR14插入的C3-C1()環烷基；或R12和R13是苯基或萘基，特別是苯基，其各自未取代，或被一個或多個(CO)R，s、NR16R17、SR10、OR"或C廣C2o烷基取代；或Ru和Ri3彼此獨立地為連接到與NRuR，3相連的苯基環或萘基環的碳原子之一上的C2-C5亞烷基，其中所述C2-C5亞烷基或C2-C5亞烯基任選被O或NRw插入；或R12和Ri3彼此獨立地為苯基，其經由直接鍵連接到NRuRu位于其上的苯基環上；或Ri2和R13和與它們相連的N-原子一起形成任選被O、N或NR14,特別被O插入的5-或6-元飽和或不飽和環，且該環是未取代的或被一個或多個CrQj()烷基、SR1Q、ORn、NR^Rn或(CO)Ru取代；或Ri2和Ri3和與它們相連的N-原子一起形成雜芳環體系，該雜芳環體系是未取代的或被一個或多個CVC20烷基、SR10、OR"、NR16R17或(CO)Rjs取代。該未取代的或取代的雜芳環體系優選為未取代的或取代的啼唑，或未取代的或取代的丐l咪。R"為例如氫或C廣C加烷基。Ris例如為C廣C2o烷基、被O或NR"插入的QrC2o烷基，或為苯基或任選被O插入的C3-C1()環烷基；特別是d-C加烷基。R^和Rn彼此獨立地為例如氫、C廣C2o烷基、<:3-<:10環烷基或苯基；或Ri6和Rn和與它們相連的N-原子一起形成5-或6-元的飽和或不飽和環，其寸壬選凈皮O、S或NRw插入；或Rw和Rn彼此獨立地為連接到與NRwRn相連的苯基環或萘基環的碳原子之一上的C2-Cs亞烷基，其中所述C2-C5亞烷基或C2-C5亞烯基任選被O或NR，5插入，且任選在該CrCs亞烷基或QrC5亞烯基上稠合有苯環；Rw和Rn優選為Q-C加烷基或為連接到與NRwRn相連的苯基環或萘基環的碳原子之一上的CVCs亞烷基，并且任選在該C2-C5亞烷基上稠合有苯環。R1S,R19，R20,R，18,R'19和R'20彼此獨立地具有對R^，R7，Rg，R'6，R'7和R's給出的含義之一；R，、8和R'、9彼此獨立地具有對R"6和42R"7給出的含義之一；R'"18和R'",9彼此獨立地具有對R"'6和R'"7給出的含義之一。R^是COORn、CONR,2Ru、(CO)R9;或具有對R^給出的含義之一；這是指它是COORn，CONR12R13，(CO)R9，氫，OH，C廣C2o烷基，d-C4鹵代烷基，被O、CO或NRm插入的QrC2o烷基，任選被O、CO或NR14插入的C3-do環烷基，或是苯基-d-C4烷基、SR10、ORn或NR,2R，3;或是苯基或萘基，各自為未取代的或被一個或多個SRi。，ORn，R"2ONR12R13，—"-"-Rs，CN,N02，卣素，C廣C2。烷基，d-C4鹵代烷基，被O、CO或NR14插入的C2-C2o烷基或任選被O、CO或NR14插入的C3-C10環烷基取代。R2i尤其是(CO)R9。優選地，該基團中的R9表示d-C2o烷基。R22是COORu、CONR12R13、(CO)R9;或具有對R，2和R"給出的含義之一；這是指它是COORn，CONR12R13,(CO)R9,氬，C廣C2o烷基，被O、CO或NR"插入的C2-C2o烷基，QrC4羥烷基，C廣C,2烷氧基，苯基-d-C4烷基，(CO)R，s，Crd。烷氧基烷基，C3-Cs烯基或任選被0、CO或NRw插入的C3-d。環烷基；或是苯基或萘基，各自為未取代的或被一個或多個卣素，d-C4鹵代烷基，C廣C2o烷絲，(CO)R15，苯基，NR16R17，SR10，OR",—c=N-o-c-R9，C廣C2o烷基，被O、CO或NR"插入的(VC2o烷基取代，或被任選被O、CO或NRw插入的C3-do環烷基取代；或是CVCs亞烷基或CrCs亞烯基，其連接到與NRuR!3相連的苯基或萘基環的C原子之一上，其中所述C2-C5亞烷基或C2-Cs亞烯基任選被O、CO或NR!4插入；R22特別是CrC20烷基或(CO)R9。優選地，該基團中的R9表示d-C20烷基。X是O、S、SO或S02;例如O或S，尤其是O。R24是例如氫、C廣C2o烷基；<:2-(:20烯基；任選被O、CO或NR，4插43入的C3-do環烷基；被一個或多個鹵素、OR、COOR"、NR12R13、C5-C201-xr21雜芳基、Cs曙C20雜芳基-(CO)0、Cs-C2o雜芳基-S、CONR12R13、°或苯基取代的CrC2o烷基；或R24是苯基、萘基、香豆素基或雜芳基，各自任選被一個或多個CVC12烷基、苯基、鹵素、C廣C4鹵代烷基、CN、N02、SR10、OR、NR12R13取代，或任選被O、CO或NRw插入的C3-C!g環烷基取代；rn-ci-r，-x;r一c誦、23-r。或R24與同基團連接的苯基或萘基環的C原子之一形成環，其中所述形成的環是未取代或取代的。R23的優選含義根據對R9給出的那些。在式I化合物中，R3、R4或Rs中的至少一個不是氫或C廣C2o烷基。在式I化合物中，如果在苯基環對位的R3、R4或Rs中的一個是SR^，那么Rjo不是未取代的苯基。值得關注的是這樣的式I化合物，其中，如果R3、R4或R5之一為SR10,那么R,o不是未取代的苯基。進一步值得關注的是這樣的式I化合物，其中，如果在苯基環對位的R3、Rt或Rs之一為SR10,那么Rio不是苯基。值得關注的其它式I化合物是這樣的，其中如果R3，R4或Rs之一是SR10，那么Rn)不是苯基。在式I化合物中，如果在苯基環對位的R3、R4或Rs之一為NR12R13，那么R12和R13不同時是CrC20烷基。進一步值得關注的是這樣的式I化合物，其中，如果Rs、R4或Rs之一為NR12R13，那么R，2和R,3不同時是C廣C2o烷基。在式I化合物中，如果在苯基環對位的R3、R4或Rs之一為NR12R13，并且R^和Ru與和它們連接的N原子一起形成環，那么所述環不是嗎啉環。值得關注的其它式I化合物是這樣的，其中如果R3、R4或Rs之一為44NR12R13，并且Ru和Ru與和它們連接的N原子一起形成環，那么所述環不是嗎啉環。在式I化合物中，如果R3為氫，R4為苯基環鄰位的d-C2。烷基而且R5為苯基環對位的OR，那么R不是被O插入的C3-C10環烷基。值得關注的還有下面所述的式Ia化合物，其中，如果R3為氫，R4為在苯基環鄰位的d-C2。烷基而且Rs為在苯基環對位的ORu，那么Ru不是被O插入的CVdo環烷基。值得關注的是這樣的式I、II和III的化合物，其中Ri是C廣C20坑基;R2和R'2彼此獨立地是Ci-C20烷基，該C廣C20烷基任選含有一個或多個C-C多重鍵；1-XR21或議2和R'2是被一個或多個COOR、C廣C2o雜芳基-S或心取代的C廣C20烷基，或R2和R'2是未取代的苯基或C廣C2。雜芳基；或是被一個或多個C廣Cu烷基或SR化取代的苯基；N-p-S-R,,-C--R24_x2-或R2和R'2是R2O或議2和R、與同基團—i=N—Gl或(CO)R'2連接的苯基或萘基環的C原子之一形成環，其中所述形成的環是未取代或取代的；R"2具有對R2和R'2給出的含義之一；_,R20R'19一R"'2具有對R2和R'2給出的含義之一或為R、BRl";R3、R4和R5彼此獨立地為氫，或R3、Rj和Rs是(CO)R'2或NR12R13，R6、R7、R8、R'6、R'7、R'8、R，'6、R"7、R'"6和R"V彼此獨立地具有對R3、R4和Rs給出的含義之一；45R9是C廣C20坑基(Ro是C廣C2o雜芳基；R"是c廣C20坑基；Ru和R,3和與它們相連的N-原子一起形成雜芳環體系；R18、R19、R2()、R，18、R、9和R'2o是氫，或Rw、R19、R20、R'18、R、9和R'2o是未取代或被一個或多個C廣C20烷^^取代的苯基；R21是(CO)R"R22是(CO)R"X是O;X2是直接建；m是整數1;R23具有對R9給出的含義之一；和R24是C廣C20坑基;包括上面1所限定的條件(a)-(e)。優選這樣的式I、II和III的化合物，其中Rj是CVC20烷基或任選被O插入的C3-C10環烷基；R2和R，2彼此獨立地是C廣C20烷基，該C廣C20烷基任選地含有一個或多個C-C多重鍵并且該C廣C2o烷基任選地被一個或多個NR12R13、C廣C20雜芳基、C廣C20雜芳基-(CO)0、C廣C2o雜芳基-S、CONR12R13、2取代，一x,十c-或R2和R，2是NRuRu或9-R24R2O或議2和R、與同基團—0^—^或(CO)R'2連接的苯基或萘基環的C原子之一形成環，其中所述形成的環是未取代或取代的；或R2和R'2是未取代的苯基或C廣C20雜芳基，或是被C廣C!2烷基、OR"和/或NRuRu取代的苯基或C廣C2Q雜芳基；46R"2具有對R2和R'2給出的含義之一；R"'R'"R'"2具有對R2和R'2給出的含義之一或為R'2—R3、R4和Rs彼此獨立地為氫、C廣C2o烷基，或R3、Rj和Rs是(CO)R'2、SR10、OR或NR12R13;R6、R7、R8、R'6、R'7、R'8、R，'6、R"7、R'"6和R'"7彼此獨立地具有對R3、R4和Rs給出的含義之一；R9是C廣C20坑基lRw是經由CO和與SR^相連的苯基環形成5-或6-元環的苯基，其中所述苯基是未取代或被一個或多個Ci-C2o烷基取代的；Rn是C廣C2。烷基或任選被O插入的C3-Qo環烷基；Ri2和Ri3彼此獨立地為C廣C2o烷基、(CO)R,5或未取代或被NR,6R7取代的苯基，或Ru和R!3彼此獨立地或都是連接到與NRuRu相連的苯基環的碳原子之一上的CVCs亞烷基；或R!2和R!3彼此獨立地為苯基，其經由直接鍵連接到NRuR,3位于其上的苯基環上；或Ri2和Ri3和與它們相連的N-原子一起形成5-或6-元的飽和或不飽和環，該環4壬選被O或N插入；或Ru和Ru和與它們相連的N-原子一起形成雜芳環體系，該雜芳環體系為未取代的或被一個或多個d-C2。烷基或ORn取代；Ris是C1-C20坑基;R16和R17彼此獨立地是C廣C20烷基；或Rw和Rn彼此獨立地是連接到與NR,6Rn相連的苯基環的碳原子之一上的C2-C5亞烷基，并且任選在該C2-C5亞烷基或C2-Cs亞烯基上稠合有苯環；R18、R19、R加、R'18、R，19和R'2。彼此獨立地具有對R6、R7、R8、47R，6、R，7和R，s所給的含義之一；R'、s和R"w彼此獨立地具有對R"6和R"7給出的含義之一；R，，、8和R，，、9彼此獨立地具有對R"，6和R"，7給出的含義之一；和m、R21、R22、1123和1124如權利要求1中所限定;條件是<formula>formulaseeoriginaldocumentpage48</formula>(a，)R2、R'2、R"2和R'"2中至少一個是NR!2Ru或，或(b，)R2、R，2、R"2和R"'2中至少一個與同相應的基團一c=n_o-c-r9、r"2ocUn-o-S-r9、(co)R'2或(CO)R'"2連接的苯基或萘基環的C原子之一形成環；或(c，)R2、R'2、R"2和R"'2中至少一個含有一個或多個C-C多重鍵；或(d，)R2、R'2、R"2、R'"2中至少一個是被一個或多個C廣C2o雜芳基、C廣C20雜芳基-(CO)0、C廣C2o雜芳基-S或2取代的C廣C2o烷基；或(e，)R'"2是未取代或取代的C廣C2o雜芳基。優選的結構的具體實例由下表中的取代基的組合所示<formula>formulaseeoriginaldocumentpage48</formula>涉及上文中和整個文本的范圍中給出的式I、II和III的化合物的優選不希望僅是指化合物本身，而是指權利要求的所有類別。即是指包含式I、II或III的化合物的組合物，包含所迷化合物的光引發劑混合物，以及其中采用所述化合物的用途或方法權利要求。式i、n和in的肝酯通過文獻描述的方法制備，例如通過相應的肟與酰卣，特別是酰氯或酸酐在惰性溶劑如叔丁基甲基醚、四氫呋喃(THF)或二曱基甲酰胺中在堿如三乙胺或吡夂存在下或在堿性溶劑如吡啶中反應制<formula>formulaseeoriginaldocumentpage49</formula>備。例如:9RnR2，R'2，R"2，R3,R4,R5,R6，R'6,R"6，R"'6，R7，R'7，R"7，R"，7，R8，R，8和R9如上定義，Hal代表鹵素原子，特別是Cl。R9優選是甲基。此類反應是本領域熟練技術人員公知的，并通常在-15至+50。C，優選0-25。C的溫度下進行。本發明的主題因此是用于制備式I、II或III的化合物的方法，包括使式Ia、IIa或Ilia的肟化合物50其中R"R2，R'2，R"2，R"，2，R3，R4，R5，R'6，R"6,R'"6，R7,R'"R"7，R"'7，Rs和R'8如上定義，包括給出的前提條件(a)-(e)，與式V或VI的酰囟或酸酐Ha卜C-R9("R9-C-O-C-Rg(^)，其中Hal代表卣素原子且R9如上定義，在堿或堿混合物存在下反應。作為起始原料所需的肟可通過標準化學教科書(例如，J.March,AdvancedOrganicChemistry,第4版，WileyIntersdence，1992)，或專著，例如S.R，Sandler&W.Karo,Organicfunctionalgrouppreparations,vol.3，AcademicPress中所述的各種方法獲得。最方便的方法之一是，例如，醛或酮與羥胺或其鹽在極性溶劑如二甲基乙酰胺(DMA)、DMA水溶液、乙醇或乙醇水溶液中反應。在此情況下，加入堿如乙酸鈉或吡啶以控制反應混合物的pH。眾所周知的;l^應速率依賴于pH，而且所逸喊可以在開始時加入或在反應期間連續加入。堿性溶劑如吡咬也可以用作堿和/或溶劑或助溶劑。反應溫度通常為室溫到混合物的回流溫度，一般為約20-120'C。相應的酮中間體例如通過在文獻中，例如WO2005-080337A1或JP2005-54012-A中描述的方法制備。這些反應是本領域技術人員熟知的。肟的另一方便的合成方法是，用亞硝酸或亞硝酸烷基酯將"活性，，亞甲基基團亞硝化。例如OrganicSynthesescoll.Vol.VI(J.Wiley&Sons,NewYork,1988)，第199和840頁中所述的堿性條件，以及例如OrganicSynthesescoll.vol.V，第32和373頁，Coll.vol.III，第191和513頁，Coll.vol.II，第202、204和363頁中所述的酸性條件，都適用于制備用作本發明起始原料的肟。亞硝酸一般由亞硝酸鈉產生。亞硝酸烷基酯可以是例如亞硝酸甲酯、亞硝酸乙酯、亞硝酸異丙酯、亞硝酸丁酯和亞硝酸異戊酯。每個肟酯基團可以以兩種構型，(Z)或(E)存在。可以通過傳統方法分離異構體，但也可以直接使用異構體混合物作為光引發物類。因此，本發51(Ilia)其中R!，R2，R'2,R"2，R，"2,R3，R4，R5，Re，R'6，R"6，R'"6，R7，R'7，R"7,R"'7，Rs和R's如上定義，包括給出的前提條件(a)-(e)。本發明的另一主題因此是一種可光聚合組合物，其包含(a)至少一種烯屬不飽和可光聚合化合物，和(b)作為光引發劑的至少一種上述式I、H或III的化合物。除光《1發劑(b)之外，該組合物還可以包含至少一種其它的光引發劑(c)和/或其它添加劑(d)。不飽和化合物(a)可以包括一個或多個烯雙鍵。它們可具有低(單體)或高(低聚)分子量。含有雙鍵的單體的實例是丙烯酸的烷基酯、羥烷基酯、環烷基(其任選被O插入)酯或氨基酯，或甲基丙烯酸的烷基酯、羥烷基酯、環烷基(其任選被O插入)酯或氨基酯，例如丙烯酸甲酯、乙酯、丁酯、2-乙基己酯或2-羥基乙酯、丙烯酸四氫糠基酯、丙烯酸異冰片酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸環己酯或甲基丙烯酸乙酯。硅酮(silicone)丙烯酸酯也是有利的。其它實例為丙烯腈、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、N-取代的(曱基)丙烯酰胺、乙烯基酯如乙酸乙烯酯，乙烯基醚如異丁基乙烯基醚，苯乙烯、烷基-和卣代苯乙烯、N-乙烯基吡咯烷酮、氯乙烯或偏二氯乙烯。含有兩個或更多個雙鍵的單體的實例是乙二醇、丙二醇、新戊二醇、六亞甲基二醇或雙酚A的二丙烯酸酯、以及4,4'-二(2-丙烯酰氧基乙氧基)明還涉及式I、II和III的化合物的構型異構體的混合物。本發明的另一主題是式la、IIa和Ilia化合物，二苯基丙烷、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯或四丙烯酸酯、丙烯酸乙烯酯、二乙烯基苯、琥珀酸二乙烯酯、鄰苯二甲酸二烯丙酯、磷酸三烯丙酯、異氰脲酸三烯丙酯或三(2-丙烯酰基乙基)異氰脲酸酯。較高分子量的聚不飽和化合物(低聚物)的實例是丙烯酸化的環氧樹脂、含有丙烯酸酯-、乙烯基醚-或環氧-基團的聚酯、以及聚氨酯和聚醚。不飽和低聚物的其它實例是不飽和聚酯樹脂，它通常由馬來酸、鄰苯二甲酸和一種或多種二醇制成且分子量為約500-3000。此外，還可以使用乙烯基醚單體和低聚物、以及具有聚酯、聚氨酯、聚醚、聚乙烯基醚和環氧主鏈的馬來酸酯封端低聚物。特別適合的是帶有乙烯基醚基團的低聚物與如WO90/01512所述的聚合物的組合。然而，乙烯基醚與馬來酸官能化單體的共聚物也是合適的。這種類型的不飽和低聚物也稱作預聚物。特別合適的實例是烯屬不飽和羧酸和多元醇或聚環氧化物的酯、以及在主鏈或側基中具有烯屬不飽和基團的聚合物，例如不飽和聚酯、聚酰胺和聚氨酯及其共聚物、在側鏈中含有(甲基)丙烯酸系基團的聚合物和共聚物，以及一種或多種此類聚合物的混合物。不飽和羧酸的實例是丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、衣康酸、肉桂酸、以及不飽和脂肪酸，如亞麻酸或油酸。丙烯酸和曱基丙烯^A優選的。合適的多元醇為芳族，特別地為脂族或脂環族多元醇。芳族多元醇的實例為氫醌、4，4'-二羥基聯苯、2，2-雙(4-羥基苯基)丙烷、以及線型酚醛清漆樹脂(novolaks)和可熔酚醛樹脂(resols)。聚環氧化物的實例是基于上述多元醇，尤其是芳族多元醇、和表氯醇的那些。其它合適的多元醇為在聚合物鏈或在側基中含有羥基的聚合物和共聚物，其實例為聚乙烯醇及其共聚物或聚甲基丙烯酸羥烷基酯或其共聚物。合適的其它多元醇是含有羥端基的低聚酯。脂族和脂環族多元醇的實例為優選具有2-12個碳原子的烷撐二醇，例如乙二醇、1，2-或1，3-丙二醇、1，2-、1，3-或1，4-丁二醇、戊二醇、己二醇、辛二醇、十二烷二醇、二乙二醇、三乙二醇、分子量優選200-1500的聚乙二醇、1，3-環戊二醇、1，2-、1，3-或1，4-環己二醇、1，4-二羥基甲基環己烷、53甘油、三(P-羥基乙基)胺、三羥甲基乙烷、三羥曱基丙烷、季戊四醇、二季戊四醇和山梨糖醇。多元醇可以用一種羧酸或用不同的不飽和羧酸部分或完全酯化，且在偏酯中，自由羥基可以被改性，例如被其它羧酸醚化或酯化。酯的實例是三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、三羥曱基乙烷三丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三曱基丙烯酸酯、三羥曱基乙烷三曱基丙烯酸酯、四亞甲基二醇二曱基丙烯酸酯、三乙二醇二甲基丙烯酸酯、四乙二醇二丙烯酸酯、季戊四醇二丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇二丙烯酸酯、二季戊四醇三丙烯酸酯、二季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、三季戊四醇八丙烯酸酯、季戊四醇二曱基丙烯酸酯、季戊四醇三甲基丙烯酸酯、二季戊四醇二甲基丙烯酸酯、二季戊四醇四甲基丙烯酸酯、三季戊四醇八甲基丙烯酸酯、季戊四醇二衣康酸酯、二季戊四醇三衣康酸酯、二季戊四醇五衣康酸酯、二季戊四醇六衣康酸酯、乙二醇二丙烯酸酯、1，3-丁二醇二丙烯酸酯、1，3-丁二醇二甲基丙烯酸酯、1，4-丁二醇二衣康酸酯、山梨糖醇三丙烯酸酯、山梨糖醇四丙烯酸酯、季戊四醇改性的三丙烯酸酯、山梨糖醇四曱基丙烯酸酯、山梨糖醇五丙烯酸酯、山梨糖醇六丙烯酸酯、低聚酯丙烯酸酯和曱基丙烯酸酯、甘油二丙烯酸酯和三丙烯酸酯、1，4-環己烷二丙烯酸酯、分子量為200-1500的聚乙二醇的二丙烯酸酯和二甲基丙烯酸酯，或它們的混合物。同樣合適的組分(a)是相同或不同的不飽和羧酸與優選具有2至6，尤其2至4個#^基的芳族、脂環族和脂族多胺的酰胺。此類多胺的實例是乙二胺、1,2-或1，3-丙二胺、1，2-、1，3-或1，4-丁二胺、1，5-戊二胺、1，6-己二胺、辛二胺、十二烷二胺、1，4-二氨基環己烷、異佛爾酮二胺、苯二胺、聯苯二胺、二-p-氨基乙基醚、二亞乙基三胺、三亞乙基四胺、二(p-氨基乙氧基)-或二(p-氨基丙M)乙烷。其它合適的多胺為優選在側鏈中具有額外的M的聚合物和共聚物、以及具有氨基端基的低聚酰胺。此類不飽和酰胺的實例是亞甲基雙丙烯酰胺、l，6-己二丙烯酰胺、二亞乙基三胺三甲基丙烯酰胺、54二(甲基丙烯酰氨基丙氧基)乙烷、甲基丙烯酸P-甲基丙烯酰氨基乙基酯和(3-羥基乙氧基)乙基丙烯酰胺。合適的不飽和聚酯和聚酰胺例如衍生自馬來酸和衍生自二醇或二胺。一些馬來酸可換成其它二羧酸。它們可與烯屬不飽和共聚單體，例如苯乙烯一起使用。聚酯和聚酰胺還可衍生自二羧酸和衍生自烯屬不飽和二醇或二胺，尤其衍生自具有相對長的鏈，例如具有6-20個碳原子的相對長的鏈的那些。聚氨酯的實例是由飽和或不飽和二異氰酸酯分別和不飽和或飽和的二醇構成的那些。在側鏈中具有(曱基)丙烯酸酯基團的聚合物同樣已知。它們可以例如是基于線型酚醛清漆樹脂的環氧樹脂與(甲基)丙烯酸的反應產物，或可以是用(甲基)丙烯酸酯化的乙烯基醇或其羥烷基衍生物的均聚物或共聚物，或可以是用(甲基)丙烯酸羥烷基酯酯化的(甲基)丙烯酸酯的均聚物和共聚物。在側鏈中具有丙烯酸酯或曱基丙烯酸酯基團的其它合適的聚合物是例如，具有連接到骨架上或連接到分子中的酯基團上的可光聚合側基的溶劑可溶或堿溶性的聚酰亞胺前體，即根據EP624826的那些，例如聚(酰胺酸酯)化合物。這類低聚物或聚合物可以與所述新型光引發劑和任選反應性稀釋劑，如多官能(甲基)丙烯酸酯一起配制以制備高度敏感的聚酰亞胺前體抗蝕劑。可光聚合化合物可以單獨使用或以任何所需的混合物使用。優選使用(曱基)丙烯酸多元醇酯的混合物。組分(a)的實例也可以是在分子結構中具有至少兩個烯屬不飽和基團和至少一個氣基官能的聚合物或低聚物，如通過環氧化合物和不飽和一元羧酸的反應產物與飽和或不飽和多元酸酸酐的反應獲得的樹脂，例如，如JP6-1638和JP10301276中所述的光敏化合物和如EB9696,UCBChemcials;KAYARADTCR1025，NipponKayakuCo.，LTD的商品，或在含羧基的樹脂與具有a，(3-不飽和雙鍵和環氧基團的不飽和化合物之間生成的力口成產物(例如，ACA200M，DaicelIndustries,Ltd.)。55作為稀釋劑，上述組合物中可包含占所述組合物固體部分最多70重量%的單-或多官能烯屬不飽和化合物或幾種所述化合物的混合物。本發明的主題還有上述可光聚合組合物，其中組分(a)是通過使環氧樹脂和不飽和一元羧酸的反應產物與飽和或不飽和多元酸酸酐反應獲得的樹脂。此類組分例如在JP06-1938、JP08-278629、JP08-278630、JP10-301276、JP2001-40022、JP10-221843、JP11-231523、JP2002-206014曙A或JP2006-53569-A中進行了描述，它們的公開內容經此引用并入本文。不飽和化合物(a)也可作為與不可光聚合的成膜組分的混合物使用。它們可以是例如物理干燥的聚合物或其在有機溶劑，例如硝基纖維素或乙酰丁酸纖維素中的溶液。然而，它們也可以是化學和/或熱可固化(可熱固化)的樹脂，例如聚異氰酸酯、聚環氧化物和三聚氰胺樹脂、以及聚酰亞胺前體。同時使用可熱固化樹脂對于在4皮稱作雜混(hybrid)體系的體系中的應用是重要的，該體系在第一階段進行光聚合，并在第二階段通過熱后處理進行交聯。本發明還提供包含至少一種在水中乳化或溶解的烯屬不飽和的可光聚合化合物作為組分(a)的組合物。此類可輻射固化的預聚物水^t體的許多變體是可購得的。預聚物^t體被理解為是水與至少一種M在其中的預聚物的M體。水在這些體系中的濃度為例如5-80重量％，特別是30-60重量％。可輻射固化的預聚物或預聚物混合物的濃度為例如95-20重量％，特別是70-40重量％。在這些組合物中，對水和預聚物給出的百分數的總和在每種情況下均為100，并根據預期用途以不同量加入助劑和添加劑。^:在水中且通常也溶解的可輻射固化的成膜預聚物是本身已知的、可通過自由基引發的、可聚合雙鍵含量為例如0.01-1.0摩爾/100克預聚物、且平均分子量為例如至少400、特別是500至10,000的單-或多官能烯屬不飽和預聚物的預聚物水*體。然而，也可以根據預期用途考慮具有更高分子量的預聚物。例如使用如EP12339中所述的，含有可聚合C-C雙鍵且酸值不超過10的聚酯、含有可聚合C-C雙鍵的聚醚、每分子含有至少56兩個環氧化物基團的聚環氧化物與至少一種a，p-烯屬不飽和羧酸的含羥基的反應產物、聚氨酉旨(甲基)丙烯酸酯、以及含有a，P-烯屬不飽和丙烯酸基團的丙烯酸共聚物。同樣可以使用這些預聚物的混合物。同樣合適的是EP33896中所述的可聚合預聚物，其為平均分子量至少600、氣基含量為0.2-15%且可聚合C-C雙鍵含量為0.01-0.8摩爾/100克預聚物的可聚合預聚物的>克醚加成物。在EP41125中描述了基于特定(甲基)丙烯酸烷基酯聚合物的其它合適的水介歉體，并且，可以在DE2936039中找到合適的可水M、可輻射固化的氨基甲酸酯丙烯酸酯預聚物。這些可輻射固化的預聚物水分散體中可包含的其它添加劑是分散助劑，乳化劑，抗氧化劑，例如2，2-硫代雙(4-甲基-6-叔丁基苯酚)或2，6-二叔丁基苯酚，光穩定劑，染料，顏料，填料，如玻璃或氧化鋁，例如滑石、石膏、硅酸、金紅石、炭黑、氧化鋅、鐵氧化物，反應促進劑、流平(levelling)劑，潤滑劑，潤濕劑，增稠劑，平光劑，消泡劑和在涂料
技術領域：
中常規的其它助劑。合適的分散助劑是具有高分子量并含有極性基團的水溶性有機化合物，例如聚乙烯醇、聚乙烯基吡咯烷酮或纖維素醚。可以使用的乳化劑為非離子乳化劑，如果需要也可使用離子乳化劑。在某些情況下，使用兩種或更多種新型光引發劑的混合物可能是有利的。當然，也可以使用與已知光引發劑(c)的混合物，例如與下列物質的混合物樟腦醌、二苯甲酮、二苯甲酮衍生物，如2，4，6-三曱基二苯甲S同、2-曱基二苯甲酮、3-甲基二苯甲酮、4-甲基二苯甲酮、2-曱氧基羰基二苯甲酮、4，4，-雙(氯甲基)二苯甲酮、4-氯二苯甲酮、4-苯基二苯甲酮、3，3，-二甲基-4-甲氧基-二苯曱酮、[4-(4-甲基苯疏基)苯基l-苯基曱酮、2-苯甲酰基苯甲酸甲酯、3-曱基-4，-苯基二苯甲酮、2，4，6-三甲基-4，-苯基二苯甲酮、4，4，-雙(二甲基氨基)二苯甲酮、4，4，-雙(二乙基氨基)二苯曱酮；縮酮化合物，例如苯偶酰二甲基縮酮(IRGACURE⑧651);苯乙酮、苯乙酮衍生物，例如a-羥基環烷基苯基酮，例如2-羥基-2-甲基-l-苯基-丙酮(DAROCUR⑧1173)、l-羥基-環己基-苯基-酮(IRGACURE⑧184);l-[4-(2-羥基乙氧基)-苯基]-2-羥基-2-甲基-l誦丙誦l-酮(IRGACURE⑧2959);2-羥基-1-{4-[4-(2-羥基國2-甲基畫丙酰基)-千基-苯基)-2-甲基-丙-l-酮(IRGACURE⑧127);2-羥基-1-{4-[4-(2-羥基-2-曱基-丙酰基)-苯氧基-苯基}-2-曱基-丙-1-酮；二烷氧基苯乙酮、a-羥基-或a-氨基苯乙酮，例如(4-甲硫基苯甲酰基)-l-甲基-l-嗎啉代乙烷(IRGACURE907)、(4-嗎啉代苯甲酰基)-l-千基-l-二甲基氨基丙烷(IRGACURE369)、(4-嗎啉代苯甲酰基)-l-(4-甲基千基)-l-二甲基M丙烷(IRGACURE⑧379)、(4-(2-羥基乙基)氨基苯甲酰基)-l-節基-l-二甲基氨基丙烷)、2-千基-2-二曱基氨基-l-(3，4-二甲氧基苯基)-l-丁酮；4-芳酰基1,3-二氧戊環，苯偶姻烷基醚和苯偶酰縮酮，苯基乙醛酸酯及其衍生物，例如氧代-苯基-乙酸2-(2-幾基-乙氧基)-乙基酯，二聚的苯基乙醛酸酯，例如氧代-苯基-乙酸1-甲基-2-[2-(2-氧代-苯基乙酰氧基)-丙氧基-乙基酯(IRGACURE754);其它將酯，例如1，2-辛二酮l-[4-(^M克基)苯基卜2-(0-苯甲酰基將)(IRGACURE⑧OXEOl)、乙酮1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-呻唑-3-基卜l-(0-乙酰基將)(IRGACURE⑧OXE02)、9H-瘞p屯-2誦曱醛9-氧代-2-(0-乙酰基將)，過酸酯，例如EP126541中所述的二苯甲酮四羧酸過酸酯，單酰基氧化膦，例如(2，4，6-三甲基-苯曱酰基)二苯基氧化膦(DAROCURTPO)，二酰基氧化膦，例如雙-(2，6-二甲氧基-苯甲酰基)-(2，4,4-三甲基-戊基)氧化膦、雙(2，4，6-三甲基苯甲酰基)-苯基氧化膦(IRGACURE819)、雙(2，4，6-三甲基苯甲酰基)-2,4-二戊氧基苯基-氧化膦，三酰基氧化膦，鹵代甲基三嗪，例如2-[2-(4-甲氧基-苯基)-乙烯基-4，6-雙-三氯甲基-[l，3，5I三溱、2-(4-甲氧基-苯基)-4，6-雙-三氯-甲基-l，3，5I三嗪、2-(3，4-二甲氧基-苯基)-4，6-雙-三氯曱基-[1，3，5]三嗪、2-甲基-4，6-雙-三氯甲基-[l，3，51三,、六芳基雙咪唑/共引發劑體系，例如與2-巰基苯并噻唑結合的鄰氯六苯基-雙咪唑，和4，4'-雙-(二乙基氨基)二苯甲酮二茂鐵(feiTocenium)化合物，或二茂鈥，例如雙(環戊二烯基)-雙(2，6-二氟-3-吡咯基-苯基)鈦(IRGACURE⑧784)。此外，硼酸酯化合物可用作共引發劑。當所述新型光引發劑體系用在雜混體系中時，除了所述新型自由1^更化劑外，還可使用陽離子光引發劑，過氧化物，如過氧化苯甲酰(其它合適的過氧化物描述于美國專利4950581第19欄17-25行)，如美國專利495058158第18欄60行至第19欄10行中所述的芳族锍-、銹-或碘鏞鹽，或環戊二烯基-芳烴-鐵(II)絡合物鹽，例如016-異丙基苯)(115-環戊二烯基)-鐵(11)六氟磷酸鹽，以及如例如EP780729中所述的將磺酸酯。如例如EP497531和EP441232中所述的吡啶條t和(異)喹啉錄鹽也可與所述新型光引發劑組合使用。單獨或與其它已知光引發劑和敏化劑混合的所述新型光引發劑也可以以水中的分散體或乳液或水溶液的形式使用-值得關注的是除式I、II和III的化合物之外還包含至少一種a-氨基酮，特別是(4-甲硫基苯曱酰基)-l-甲基-l-嗎啉代乙烷或(4-嗎啉代苯甲酰基)-l-(4-甲基節基H-二甲基絲丙烷的組合物。可光聚合組合物通常包含基于固體組合物為0.005-25重量％，優選0.01-20重量％，特別是0.01-5重量％的所述光引發劑。如果采用引發劑的混合物，則所述量是指所有添加的光引發劑的總和。因此，所述量是指光引發劑(b)或光引發劑混合物(b)+(c)。除了光引發劑外，可光聚合的混合物還可以包含各種添加劑(d)。這些添加劑的實例是用于防止過早聚合反應的熱抑制劑，例如氫醌、氫醌衍生物、對-甲氧基苯酚、p-萘酚或位阻酚，如2，6-二叔丁基對甲酚。為了提高避光儲存穩定性，可以使用例如銅化合物，如環烷酸銅、硬脂酸銅或辛酸銅，磷化合物，例如三苯基膦、三丁基膦、亞磷酸三乙酯、亞磷酸三苯酯或亞磷酸三節酯，季銨化合物，例如四甲基氯化銨或三甲基爺基氯化銨，或羥胺衍生物，例如N-二乙基羥胺。為了在聚合過程中排除大氣氧，可以加入石蠟或類似的蠟狀物質，它們在聚合物中溶解度不夠，在聚合開始時遷移到表面并形成防止空氣ii^的透明表面層。也可以在涂層最上面涂施不透氧的層，例如聚(乙烯醇-共-乙酸乙烯酯)。可少量加入的光穩定劑是UV吸收劑，例如羥苯基苯并三唑、羥苯基-二苯甲酮、草酰胺或羥苯基-s-三溱類型的那些。這些化合物可單獨使用，或以混合物形式使用，可以含有或不含有位阻胺(HALS)。此類UV吸收劑和光穩定劑的實例是1.2-(2，-羥基苯基)苯并三唑類，例如2-(2，-羥基-5，-甲基苯基)苯并三唑、2-(3，，5，-二叔丁基-2，-羥基苯基)苯并三唑、2-(5，-叔丁基-2，-羥基苯基)苯并三唑、2-(2，-羥基-5，-(l,l，3，3-四曱基丁基)苯基)苯并三唑、2-(3，，5，-二叔丁基-2，-羥基苯基)-5-氯苯并三唑、2-(3，-叔丁基-2，-羥基-5，-甲基苯基)-5-氯苯并三唑、2-(3，-仲丁基-5，-叔丁基-2，-羥基苯基)苯并三唑、2-(2，-羥基-4，-辛氧基苯基)苯并三唑、2-(3，，5，-二叔戊基-2，-羥基苯基)苯并三唑、2-(3，，5，-雙-(a，a-二甲基芐基)-2，-羥基苯基)苯并三唑、以下物質的混合物2-(3，-叔丁基-2，-羥基-5，-(2-辛氧羰基乙基)苯基)-5-氯苯并三唑、2-(3，-叔丁基-5，-[2-(2-乙基己氧基)羰基乙基卜2，-羥基苯基)-5-氯苯并三唑、2-(3，-叔丁基-2，-羥基-5，-(2-甲氧羰基乙基)苯基)-5-氯苯并三唑、2-(3，-叔丁基-2，-羥基-5，-(2-甲氧基羰基乙基)苯基)苯并三唑、2-(3，-叔丁基-2，-羥基-5，-(2-辛氧基羰基乙基)苯基)苯并三唑、2-(3，-叔丁基-5，-[2-(2-乙基己氧基)羰基乙基]-2，-羥基苯基)苯并三唑、2-(3，-十二烷基-2，-羥基-5，-甲基苯基)苯并三唑和2-(3，-叔丁基-2，-羥基-5，-(2-異辛氧羰基乙基)苯基)苯并三唑；2，2，-亞甲基-雙[4-(1，1，3，3-四甲基丁基)-6-苯并三唑-2-基-苯酚；2-[3，-叔丁基-5，-(2-甲氧羰基乙基)-2，-羥基苯基苯并三唑與聚乙二醇300的酯交換反應產物；[R-CH2CH2-COO(CH2)32-，其中R=3，-叔丁基-4，-羥基-5，-2H-苯并三唑-2-基-苯基。2,2-羥基二苯甲酮類，例如4-羥基-、4-曱氧基-、4-辛氧基-、4-癸氧基-、4-十二烷氧基-、4-千氧基-、4，2，，4，-三羥基-和2，-羥基-4，4，-二甲氧基衍生物。3.取代或未取代的苯甲酸的酯，例如7jC楊酸4-叔丁基苯基酯、水楊酸苯酯、水楊酸辛基苯酯、二苯甲跣基間苯二酚、雙(4-叔丁基苯甲酰基)間苯二酚、苯甲酰基間苯二酚、3，5-二叔丁基-4-羥基苯甲酸2，4-二叔丁基苯基酯、3，5-二叔丁基-4-羥基苯甲酸十六烷基酯、3，5-二叔丁基-4-羥基苯曱酸十八烷基酯和3，5-二叔丁基-4-羥基苯甲酸2-甲基-4，6-二叔丁基苯基酯。4.丙烯酸酯類,例如a-氰基-IJ,p-二苯基丙烯酸異辛酯或乙酯、a-甲酯基肉桂酸甲酯、(x-^-p-甲基-對甲氧基肉桂酸丁酯或曱酯、a-g甲氧基-對曱氧基肉桂酸甲酯和N-(P-甲酯基-p-M乙烯基)-2-甲基二氫吲哚。5.位阻胺類，例如癸二酸雙(2，2，6，6-四甲基哌咬)酯、琥珀酸雙(2，2，6，6-60四甲基哌梵)酯、癸二酸雙(l，2，2，6，6-五甲基哌咬)酯、正丁基-3，5-二叔丁基-4-羥基芐基丙二酸雙(l，2，2，6，6-五甲基哌咬)酯、1-羥基乙基-2，2，6,6-四甲基-4-羥基哌啶與琥珀酸的縮合產物、N,N，-雙(2，2，6，6-四曱基哌^&)六亞甲基二胺與4-叔辛基氨基-2，6-二氯-l，3，5-s-三溱的縮合產物、次氮基三乙酸三-(2，2，6，6-四甲基-4-哌啶)酯、1，2，3，4-丁烷四酸四-(2，2，6，6-四甲基-4-哌淀)酯、1，1，-(1，2-乙二基)-雙(3，3，5，5-四甲基-派溱酮)、4-苯甲酰基-2，2，6，6-四甲基哌啶、4-硬脂氧基-2，2，6，6-四甲基哌啶、2-正丁基-2-(2-羥基-3，5-二叔丁基爺基)丙二酸雙-(l，2，2，6，6-五甲基派咬)酯、3-正辛基-7，7，9，9-四甲基-l，3，8-三氮雜螺[4.5癸烷-2,4-二酮、癸二酸雙-(l-辛氧基-2，2，6，6-四甲基哌咬)酯、琥珀酸雙-(l-辛氧基-2，2，6，6-四甲基旅咬)酯、N，N，-雙-(2，2，6，6-四甲基-4-哌^&)六亞甲基二胺與4-嗎琳代-2，6-二氯-l，3,5-三噪的縮合產物、2-氯-4，6-二(4-正丁基^J^-2，2，6，6-四甲基哌^&)-l，3，5-三嗪與1，2-雙-(3-^J^丙基^IL^)乙烷的縮合產物、2-氯-4，6-二(4-正丁基氨基-l，2，2，6，6-五甲基哌^^)-l，3，5-三嗪與1，2-二(3-M丙基M)乙烷的縮合產物、8-乙酰基-3-十二烷基-7，7，9，9-四甲基-l，3，8-三氮雜螺[4.5I癸烷-2，4-二酮、3-十二烷基-l-(2，2，6，6-四甲基-4-哌啶基)吡咯烷-2，5-二酮和3-十二烷基-l-(l，2，2，6，6-五甲基-4-哌^^)吡咯烷-2,5-二酮。6.草酰胺類，例如4，4'-二辛ft^N，N'國草酰二苯胺、2，2'-二乙氧基N，N，謂草酰二苯胺、2，2'-二辛氧基-5，5'-二叔丁基N，N，-草酰二苯胺、2，2'-二(十二烷氧基)-5，5'-二叔丁基N,N，-草酰二苯胺、2-乙氧基-2'-乙基-N，N'-草酰二苯胺、N，N'-雙(3-二甲氨基丙基)草酰胺、2-乙氧基-5-叔丁基-2'-乙基N，N'-草酰二苯胺、以及與2-乙氧基-2，-乙基-5，4，-二叔丁基N，N'-草酰二苯胺的混合物、鄰-和對-曱ftJ^-以及鄰-和對-乙M-雙取代的N，N'-草酰二苯胺的混合物。7.2-(2-羥苯基〗-l,3,5-三嗪類，例如2，4，6-三(2-羥基-4-辛氧基苯基)-l，3,5-三溱、2-(2-羥基-4-辛氧基苯基)-4，6-雙-(2，4-二甲基苯基)-l，3,5-三溱、2-(2，4-二羥苯基)-4，6-雙(2，4-二甲基苯基)-l,3，5-三嗪、2，4-雙(2-羥基-4-丙氧基-苯基)-6-(2，4-二甲基苯基)-l，3，5-三嗪、2-(2-羥基-4-辛氧基苯基)-4，6曙61雙(4-甲基苯基)-l，3，5-三嗪、2-(2-羥基-4-十二烷氧基苯基)-4,6-雙(2，4-二甲基苯基)-l，3，5-三溱、2-[2-羥基-4-(2-羥基-3-丁氧基-丙氧基)苯基-4，6-雙(2，4-二甲基苯基)-l，3，5-三嗪、2-[2-羥基-4-(2-羥基-3-辛氧基-丙氧基)苯基-4，6-雙(2，4-二甲基苯基)-l，3，5-三嗪、2-[4-十二烷基/十三烷基-氧基-(2-羥丙基)氧基-2-羥基-苯基]-4，6-雙(2，4-二甲基苯基)-l，3，5-三溱。8.亞磷酸酯和亞膦酸酯類，例如亞磷酸三苯酯、亞磷酸二苯基烷基酯、亞磷酸苯基二烷基酯、亞磷酸三(壬基苯基)酯、亞躊酸三月桂基酯、亞辨酸三(十八烷基)酯、二亞磷酸二硬脂基季戊四醇酯、亞磷酸三-(2，4-二叔丁基苯基)酯、二亞磷酸二異癸基季戊四醇酯、二亞礴酸雙-(2，4-二叔丁基苯基)季戊四醇酯、二亞磷酸雙-(2，6-二叔丁基-4-甲基苯基)季戊四醇酯、二亞磷酸雙異癸氧基季戍四醇酯、二亞磷酸雙-(2，4-二叔丁基-6-曱基苯基)季戊四醇酯、二亞磷酸雙-(2，4，6-三叔丁基苯基)季戊四醇酯、三亞磷酸三硬脂基山梨糖醇酯、二亞膦酸四(2，4-二叔丁基苯基)-4，4，-亞聯苯酯、6-異辛氧基-2，4，8,10-四叔丁基-1211-二苯并[(1《-1，3，2-二氧磷辛英、6-氟-2，4，8，10-四叔丁基-12-曱基-二苯并[d，gH,3，2-二氧磷辛英、亞砩酸雙-(2，4-二叔丁基-6-甲基苯基)甲基酯、和亞磷酸雙(2，4-二叔丁基-6-甲基苯基)乙基酯。為了加速光聚合反應，可以加入胺作為組分(d)，例如三乙醇胺、N-甲基二乙醇胺、對-二甲基氨基苯甲酸乙酯、苯甲酸2-(二曱基氨基)乙酯、對-二甲基氬基苯甲酸2-乙基己酯、對-N，N-二甲基氨基苯甲酸辛酯、N-(2-羥基乙基)-N-甲基-對甲苯胺或米貴酮。胺的作用可通過加入二苯甲酮類型的芳族酮來加強。如EP339841中所述，可用作氧清除劑的胺的實例為取代的N，N-二烷基苯胺。如EP438123、GB2180358和JPKokaiHei6-68309中所述，其它促進劑、共引發劑和自氧化劑是硫醇、硫醚、二硫化物、銹鹽、氧化膦或膦。還可以向本發明的組合物中加入本領域常用的鏈轉移劑作為組分(d)。實例是硫醇、胺和苯并噻唑。光聚合反應還可以通過加入其它能夠改變或加寬光譜敏感度的光敏劑或共引發劑(作為組分(d))來加速。這些物質特別是芳族化合物，例如二苯甲酮及其衍生物、噻噸酮及其衍生物、蒽醌及其衍生物、香豆素和呤噢溱及其衍生物、還有3-(芳酰基亞甲基)噻唑啉、繞丹寧、樟腦醌，以及曙紅、若丹明、赤蘚紅、咕噸、噻噸、吖啶如9-苯基吖啶、1，7-雙(9-吖!^)庚烷、1，5-雙(9-吖^)戊烷、花青和部花青染料。這些化合物的具體實例是1.蓉p屯酮類瘞噸酮、2-異丙基漆噸酮、2-氯漆噸酮、l-氯-4-丙H&噢噸酮、2-十二烷基噢噸酮、2，4-二乙基塞噸酮、2，4-二甲基瘞噸酮、1-甲氧基羰基參噸酮、2-乙氧基羰基瘞噸酮、3-(2-甲氧基乙氧基羰基)-噻噸酮、4-丁氧基羰基噻噸酮、3-丁氧基羰基-7-甲基瘞噸酮、l-氰基-3-氯噻噸酮、l-乙氧基羰基-3-氯噻噸酮、l-乙氧基羰基-3-乙氧基瘞噸酮、l-乙氧基羰基-3-氨基瘞噸酮、1-乙氧基羰基-3-苯基磺酰基瘞噸酮、3，4-二-[2-(2-甲氧基乙氧基)乙氧基羰基]-噻噸酮、1,3-二曱基-2-羥基-9H-瘞噸-9-酮、2-乙基己基醚、1-乙氧基羰基-3-(1-甲基-1-嗎啉代乙基)噻噸酮、2-甲基-6-二甲氧基甲基-噻噸酮、2-甲基-6-(1，1-二曱氧基千基)-噻噸酮、2-嗎啉代甲基瘙噸酮、2-甲基-6-嗎啉代甲基瘞噸酮、N-烯丙基嘛噸酮-3，4-二甲酰亞胺、N-辛基噢噸酮-3，4-二甲酰亞胺、N-(l，l，3，3-四甲基丁基)嚷噸酮-3，4-二曱酰亞胺、1-苯氧基瘞噸酮、6-乙氧基羰基-2-甲氧基參噸酮、6-乙氧基羰基-2-甲基瘞噸酮、噻噸酮-2-甲酸聚乙二醇酯、氯化2-羥基-3-(3，4-二甲基-9-氧代-9H-瘞噸酮-2-基氧基)-N，N，N-三甲基畫l-丙銨；2,二苯曱酮類二苯甲酮、4-苯基二苯曱酮、4-甲fL^二苯甲酮、4,4，-二甲氧基二苯甲酮、4，4，-二甲基二苯甲酮、4，4'-二氯二苯甲酮、4，4，-雙(二甲基絲)二苯曱酮、4，4'-雙(二乙基氨基)二苯曱酮、4，4'-雙(甲基乙基氨基)二苯甲酮、4，4，-雙(對-異丙基苯氧基)二苯甲酮、4-甲基二苯甲酮、2，4，6-三甲基二苯甲酮、4-(4-曱硫基苯基)二苯甲酮、3，3'-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮、2-苯甲酰基苯甲酸甲酯、4-(2-羥基乙硫基)二苯甲酮、4-(4-甲苯^i^危基)二苯甲酮、1-〖4-(4-苯甲酰基^5危基)-苯基l-2-甲基-2-(甲苯-4-磺酰基)-丙-l-酮、氯化4-苯甲酰63基-N，N，N-三甲基苯甲銨、氯化2-羥基-3-(4-苯甲酰基苯氧基)-N，N，N-三甲基-l-丙銨一水合物、4-(13-丙烯酰基-l，4，7，10，13-五氧雜十三烷基)-二苯甲酮、氯化4-苯甲酰基-N，N-二甲基-N-[2-(l-氧代-2-丙烯基)氧基l乙基-苯甲銨；3.香豆素類香豆素1、香豆素2、香豆素6、香豆素7、香豆素30、香豆素102、香豆素106、香豆素138、香豆素152、香豆素153、香豆素307、香豆素314、香豆素314T、香豆素334、香豆素337、香豆素500、3-苯甲酰基香豆素、3-苯甲酰基-7-甲氧基香豆素、3-苯甲酰基-5，7-二甲氧基香豆素、3-苯甲酰基-5，7-二丙氧基香豆素、3-苯甲酰基-6，8-二氯香豆素、3-苯甲酰基-6-氯香豆素、3，3，-羰基-雙[5，7-二(丙氧基)香豆素1、3，3，-絲-雙(7-甲氧基香豆素)、3,3，-羰基-雙(7-二乙基氨基香豆素)、3-異丁酰基香豆素、3-苯曱酰基-5，7-二甲氧基-香豆素、3-苯甲酰基-5，7-二乙氧基-香豆素、3-苯曱酰基-5，7-二丁氧基-香豆素、3-苯甲酰基-5，7-二(甲氧基乙氧基)-香豆素、3-苯甲酰基-5，7-二(烯丙*^)-香豆素、3-苯甲酰基-7-二甲基M-香豆素、3-苯甲酰基-7-二乙基M香豆素、3-異丁酰基-7-二曱基M香豆素、5，7-二甲氧基-3-(1-萘酰基)香豆素、5，7-二乙氧基-3-(1-萘酰基)香豆素、3-苯甲酰基苯并[f]香豆素、7-二乙基絲-3-噻吩酰基香豆素、3-(4-氰基苯甲酰基)-5，7-二甲氧基香豆素、3-(4-絲苯曱酰基)-5,7-二丙lL&香豆素、7-二甲基氨基-3-苯基香豆素、7-二乙基氨基-3-苯基香豆素、JP09-179299-A和JP09-325209-A中公開的香豆素衍生物，例如7-[{4-氯-6-(二乙基#^)各三,-2-基}氨基3-苯基香豆素；4.3"芳酰基亞甲基)噻唑啉類3-甲基-2-苯甲酰基亞甲基-P-萘并噻喳啉、3-甲基-2-苯甲酰基亞甲基苯并噻唑啉、3-乙基-2-丙酰基亞甲基-p-萘并噻哇啉；5.繞丹寧類4-二甲基氨基亞芐基繞丹寧、4-二乙基氨基亞芐基繞丹寧、3-乙基-5-(3-辛基-2-苯并噻喳啉亞基)-繞丹寧、JP08-305019A中公開的式[l]、[2、[7的繞丹寧衍生物；6.其它化合物類苯乙酮、3-甲氧基苯乙酮、4-苯基苯乙酮、苯偶酰、4，4'-雙(二甲基氨基)苯偶酰、2-乙酰基萘、2-萘醛、丹磺酸衍生物、9，10-蒽醌、蒽、芘、氨基芘、茈、菲、菲醌、9-芴酮、二苯并環庚酮、姜黃、卩占噸酮、硫代米蚩酮、a-(4-二甲基氨基亞節基)酮類，如2，5-雙(4-二乙基氛基亞節基)環戊酮、2-(4-二甲基氨基亞芐基)-二氫茚-l-酮、3-(4-二甲基氨基苯基)-1-二氫茚-5-基-丙烯酮、3-苯硫基鄰苯二甲酰亞胺、N-甲基-3，5-二(乙硫基)-鄰苯二甲酰亞胺、N-甲基-3,5-二(乙硫基)-鄰苯二甲酰亞胺、吩蓉溱、甲基吩瘞溱、胺，例如N-苯基甘氨酸、4-二甲基M苯甲酸乙基酯、4-二甲基M苯甲酸丁氧基乙基酯、4-二曱基氨基苯乙酮、三乙醇胺、甲基二乙醇胺、二甲基氨基乙醇、苯甲酸2-(二甲基M)乙基酯、聚(丙二醇)-4-(二甲基M)苯甲酸酯。優選還包含選自由二苯甲酮及其衍生物、噻噸酮及其衍生物、蒽醌及的可光聚合組合物。可以通過如下方式輔助固化過程加入光敏劑，特別是在著色(例如用二氧化鈦著色)的組合物中，和加入在熱條件下形成自由基的組分，例如偶氮化合物，如2，2'-偶氮雙(4-甲氧基-2，4-二甲基戊腈)，三氮烯、苯并瘙二唑、五氮二烯或過氧化合物，例如氬過氧化物或過碳酸鹽，例如如EP245639中所述的氫過氧化叔丁基。根據本發明的組合物可以包含光可還原染料，例如卩占p屯-、苯并卩占噸-、苯并噻噸、噢溱-、焦寧-、紫菜堿-或吖啶染料，和/或可通過輻射裂解的三囟甲基化合物作為另外的添加劑(d)。例如在EP445624中描述了類似的組合物。可以加入本領域已知的其它添加劑作為組分(d)，添加劑(d)的其它實例例如有，流動改進劑，促粘劑，如乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三(2-曱氧基乙氧基)硅烷、N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基珪烷、N-(2-絲乙基)-3-絲丙基三甲氧絲烷、3-絲丙基三乙氧65基硅烷、3-環氧丙氧丙基三甲氧基硅烷、3-環氧丙氧丙基甲基二曱氧基硅烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基硅烷、3-氯丙基甲基二甲氧基珪烷、3-氯丙基三曱氧基硅烷、3-曱基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷和3-巰基丙基三甲氧基硅烷。表面活性劑、熒光增白劑、顏料、染料、潤濕劑、流平助劑、分敎劑、防聚集劑、抗氧化劑或填料。如例如US5013768中所述，為了固化厚的和著色的涂層，可適當地加入玻璃孩殳球或粉化玻璃纖維。如上文已經提及的那樣，其它合適的組分(d)是表面活性劑和介軟劑及其它組分，從而特別支持顏料或著色劑在配方中的應用。優選對顏料施以表面處理從而使顏料易于M，并使所得顏料^ft體穩定化。表面處理劑為例如表面活性劑、聚合物M劑、一般質地改進劑、顏料衍生物及其混合物。尤其優選的是根據本發明的組合物包含至少一種聚合物^L劑和/或至少顏料衍生物。合適的表面活性劑包括陰離子表面活性劑，如烷基苯-或烷基萘-磺酸鹽、烷基磺基琥珀酸鹽或萘曱醛磺酸鹽；陽離子表面活性劑，包括例如季銨鹽，如千基三丁基氯化銨；或非離子或兩性表面活性劑，分別如聚氧乙烯表面活性劑和烷基-或酰氨基丙基甜菜堿。表面活性劑的示例性實例包括聚氧乙烯烷基醚，如聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯硬脂基醚和聚氧乙烯油基醚；聚氧乙烯烷基苯基醚，如聚氧乙烯辛基苯基醚和聚氧乙烯壬基苯基醚；聚乙二醇二酯，如聚乙二醇二月桂酸酯和聚乙二醇二硬脂酸酯；失水山梨糖醇脂肪酸酯；脂肪酸改性聚酯；叔胺改性聚氨酯；聚乙烯亞胺；可以以KP(Shin-EtsuChemicalCo.，Ltd的產品)、Polyflow(KYOEISHACHEMICALCo"Ltd的產品)、F-Top(TochemProductsCo.，Ltd的產品)、MEGAFAC(DainipponInk&Chemicals,Inc.的產品)、FIuorad(Sumitomo3MLtd的產品)、AsahiGuard和Surflon(AsahiGlassCo.,Ltd的產品)為商品名獲得的那些；及類似物。這些表面活性劑可以單獨使用，或以兩種或更多種的混合物使用。通常，基于每100重量份著色劑組合物，使用50重量份或更少，優選660至30重量份的表面活性劑。聚合物#劑包括具有顏料親和性(affmic)基團的高分子量聚合物。實例是由例如苯乙烯衍生物、(曱基)丙烯酸酯類單體和(甲基)丙烯酰胺類單體構成的統計共聚物，以及通過后改性改性的此類統計共聚物；由例如苯乙烯衍生物、(甲基)丙埽酸酯類單體和(甲基)丙烯酰胺類單體構成的嵌段共聚物和/或梳形共聚物，以及通過后改性改性的此類嵌段共聚物和/或梳形聚合物；聚乙烯亞胺，其例如用聚酯接枝；聚胺，其例如用聚酯接枝；和多種(改性)聚氨酯。也可以使用聚合物分散劑。合適的聚合物分散劑是例如，BYK的DISPERBYK101、115、130、140、160、161、162、163、164、166、168、169、170、171、180、182、2000、2001、2020、2050、20卯、2091、2095、2096、2150，CibaSpecialtyChemicals的CibaEFKA4008、4009、4010、4015、4046、4047、4050、4055、4060、4080、4300、4330、4340、4400、4401、4402、4403、4406、4500、4510、4520、4530、4540、4550、4560，AjinomotoFineTechno的PB711、821、822、823、824、827，Lubrizol的SOLSPERSE1320、13940、17000、20000、21000、24000、26000、27000、28000、31845、32500、32550、32600、33500、34750、36000、36600、37500、39000、410卯、44000、53095和它們的組合。優選使用CibaEFKA4046、4047、4060、4300、4330、4340、DISPERBYK161、162、163、164、165、166、168、169、170、2000、2001、2020、2050、2090、2091、2095、2096、2105、2150，PB711、821、822、823、824、827，SOLSPERSE24000、31845、32500、32550、32600、33500、34750、36000、36600、37500、3卯00、410卯、44000、53095和它們的組合作為分散劑。合適的質地改進劑是例如脂肪酸，如硬脂酸或山崳酸，和脂肪胺，如月桂胺和硬脂胺。此外，為此目的可以使用脂肪醇或乙氧基化的脂肪醇多元醇，例如脂族l，2-二醇或環氧化大豆油、蠟、樹脂酸和樹脂酸鹽。合適的顏料衍生物是例如銅酞胥f汴生物，如CibaSpecialtyChemicals的CibaEFKA6745，Lubrizol的SOLSPERSE5000、12000，BYK的Synergist2100和偶氮f汴生物如CibaEFKA6750，SOLSPERSE22000和Synergist2105。在用作抗蝕劑配方的本發明的組合物中，特別是在濾色片配方中，例如使用上述顏料用分散劑和表面活性劑。添加劑(d)的選擇取決于應用領域和該領域所需的性能。上述添加劑是本領域常規的，因此以相應應用中常見的量加入。也可以在所述新型組合物中加入粘結劑(e)。當可光聚合化合物是液體或粘性物質時，這特別有利。相對于總固含量，粘結劑的量可以是例如2-98重量％，優選5-95重量％，尤其是20-90重量％。粘結劑的選擇取決于應用領域以及該領域所需的性能，例如在水性和有機溶劑體系中的顯影能力、與基底的粘附性和對氧氣的敏感性。合適的粘結劑的實例是分子量為約2，000至2'000'000，優選3，000至i，ooo，ooo的聚合物。堿可顯影粘結劑的實例是具有羧酸官能團作為側基的丙烯酸類聚合物，例如，通過使烯屬不飽和羧酸如(曱基)丙烯酸、2-羧基乙基(甲基)丙烯酸、2-羧基丙基(甲基)丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、馬來酸、富馬酸以及co-M聚己內酯單(曱基)丙烯酸酯與一種或多種選自以下的單體共聚而獲得的常規已知的共聚物(甲基)丙烯酸的酉旨，如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(曱基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸千酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸羥乙酯、(甲基)丙烯酸羥丙酯、單(甲基)丙烯酸甘油酯、(甲基)丙烯酸三環[5丄1.02'6癸-8-基酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸2-甲基縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸3，4-環氧丁基酯、(甲基)丙烯酸6，7-環氧庚基酯；乙烯基芳族化合物，如苯乙烯、a-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、對氯苯乙烯、乙烯基芐基縮水甘油醚；酰胺型不飽和化合物，(甲基)丙烯酰胺二丙酮丙烯酰胺、N-羥甲基丙烯酰胺、N-丁氧基甲基丙烯酰胺；和聚烯烴型化合物，如丁二烯、異戊二烯、氯丁二烯和類似物；甲基丙烯腈、甲基異丙烯基酮、琥珀酸單-2-[(甲基)丙烯酰氧基1乙酯、N-苯基馬來酰亞胺、馬來酸酐、乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、新68戊酸乙烯酯、聚苯乙烯大單體或聚(甲基)丙烯酸甲酯大單體。共聚物的實例是丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯與丙烯酸或甲基丙烯酸以及與苯乙烯或取代苯乙烯的共聚物、酚醛樹脂，例如線型酚醛樹脂、(聚)羥基苯乙烯、以及幾基苯乙蟑與丙烯酸烷基酯、丙烯酸和/或甲基丙烯酸的共聚物。共聚物的優選實例是甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸的共聚物、曱基丙烯酸千酯/曱基丙烯酸的共聚物、甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸乙酯/甲基丙烯酸的共聚物、甲基丙烯酸節酯/甲基丙烯^/苯乙烯的共聚物、甲基丙烯酸千酯/甲基丙烯^/甲基丙烯酸羥乙基酯的共聚物、甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸丁酯/甲基丙烯^/苯乙烯的共聚物、曱基丙烯酸曱酯/甲基丙烯酸節酯/甲基丙烯^/甲基丙烯酸羥苯酯的共聚物。溶劑可顯影粘結劑聚合物的實例是聚(甲基丙烯酸烷基酯)、聚(丙烯酸烷基酯)、聚(甲基丙烯酸千酯-共-曱基丙烯酸羥乙基酯-共-甲基丙烯酸)、聚(甲基丙烯酸千酉旨-共-甲基丙烯酸)；纖維素酯和纖維素醚如乙酸纖維素、乙酰丁酸纖維素、甲基纖維素、乙基纖維素；聚乙烯基縮丁醛、聚乙烯基甲縮醛、環化橡胺、聚醚，如聚環氧乙烷、聚環氧丙烷和聚四氫呋喃；聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚氨酯、氯化聚烯烴、聚氯乙烯、氯乙烯/偏二氯乙烯共聚物、偏二氯乙烯與丙烯腈、甲基丙烯酸甲酯和乙酸乙烯酯的共聚物、聚乙酸乙烯酯、共聚(乙烯/乙酸乙烯酯)、聚合物如聚己內酰胺和聚(己二酰己二胺)、和聚酯如聚(對苯二甲酸乙二醇酯)和聚(琥珀酸己二醇酯)和聚酰亞胺粘結劑樹脂。本發明中的聚酰亞胺粘結劑樹脂可以是溶劑可溶性聚酰亞胺或聚酰亞胺前體，例如聚(酰胺酸)。包含甲基丙烯酸酯與甲基丙烯酸的共聚物作為粘結劑聚合物(e)的可光聚合組合物是優選的。進一步值得關注的是如JP10-171119-A中所述，特別用在濾色片中的聚合物粘結劑組分。可光聚合組合物可用于各種目的，例如用作印刷油墨，如絲網印刷油墨，用于膠版-或柔性版印刷的油墨、用作透明末道漆(finish)，用作白色或彩色末道漆，例如用于木材或金屬、用作粉末涂料、用作涂布材料，尤其69是用于紙、木材、金屬或塑料，用作建筑物標記或道路標記用的可日光固化涂料、用于照相復制技術、用于全息照相記錄材料、用于圖l象記錄技術或用于生產可用有機溶劑或用含7JC堿顯影的印刷板、用于制造絲網印刷用掩模、用作牙科填充組合物、用作粘合劑、用作壓敏粘合劑、用作層壓樹脂、用作抗蝕刻劑、阻焊劑、電鍍抗蝕劑或永久抗蝕劑、液體膜和干膜，用作可光致結構化的電介質，用于印刷電路板和電子電路，用作制造用于各種顯示應用的濾色片用的抗蝕劑或用于在等離子體顯示板和電致發光顯示器制造工藝中產生結構用的抗蝕劑，(如例如US5853446、EP863534、JP09-244230-A、JP10-62980畫A、JP08-171863-A、US5840465、EP855731、JP05-271576-A、JP05-67405-A中所述)用于制造全息數據存儲(HDS)材料，用于制造光學開關、光柵(干涉光柵)、光路，用于通過整體固化(在透明模具中UV固化)或通過立體平版印刷技術制造三維制品，例如US4575330中所述，用于制造復合材料(例如苯乙烯系聚酯，如果需要，其可以含有玻璃纖維和/或其它纖維和其它助劑)和其它厚的分層組合物，用于涂布或密封電子元件和集成電路、或用作光學纖維的涂料、或用于制造光學透鏡，如隱形目艮鏡或Fresnel透鏡。根據本發明的組合物還適用于醫療設備、輔料或植入物的制造。此外。根據本發明的組合物還適用于制備具有熱致變性質的凝膠，例如DE19700064和EP678534中所述。所述新型光引發劑可以另外用作乳液聚合、成珠聚合或懸浮聚合的引發劑，用作固定液晶單體和低聚物的有序狀態的聚合引發劑或用作將染料固定在有機材料上的《1發劑。在涂布材料中，通常使用預聚物與多不飽和單體的混合物，其還可以另外包含單不飽單體。預聚物在此主要決定涂膜的性能，且通過改變預聚物，技術人員能夠影響固化膜的性能。多不飽和單體充當使薄膜不可溶的不飽和聚酯樹脂通常與單不飽和單體，優選與苯乙烯一起用在雙組分體系中。對于光致抗蝕劑，通常使用特定的單組分體系，例如DE2308830中所述的聚馬來酰亞胺、聚查耳酮或聚酰亞胺。所述新型光引發劑及其混合物還可用于可輻射固化的粉末涂料的聚合。粉末涂料可以基于含有反應性雙鍵的固體樹脂和單體，例如馬來酸酯、乙烯基醚、丙烯酸酯、丙烯酰胺及其混合物。自由基uv可固化的粉末涂料可通過將不飽和聚酯樹脂與固體丙烯酰胺(例如甲基丙烯酰氨基乙醇酸甲酯)和新型自由基光引發劑混合來配制，這些配方例如描述在論文"RadiationCuringofPowderCoating"，ConferenceProceedings,RadtechEurope1993，M.Wittig和Th.Gohmann中。粉末涂料還可以含有如DE4228514和EP636669中所述的粘結劑。自由基可UV固化的粉末涂料也可以通過將不飽和聚酯樹脂與固體丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯或乙烯基醚以及與新型光引發劑(或光引發劑混合物)混合來配制。粉末涂料還可包含如例如DE4228514和EP636669中所述的粘結劑。UV可固化粉末涂料可另外包含白色或彩色顏料。例如，優選金紅石型二氧化鈦可以最多50%重量的濃度使用，從而產生具有良好遮蓋力的固化粉末涂層。其程序通常包括將粉末靜電噴涂或摩擦帶電(tribostatic)噴涂到基底，例如金屬或木材上，通過加熱將粉末熔化，并在形成光滑膜后將涂層用紫外線和/或可見光輻射固化，例如使用中壓汞燈、金屬卣化物燈或氙燈。可輻射固化的粉末涂料與其可熱固化的相應物相比特別有利的是，粉末粒子熔化后的流動時間可延遲以確保形成平滑的高光澤度涂層。不同于可熱固化體系，可輻射固化的粉末涂料可配制成在較低溫度下熔化，而沒有縮短其壽命的不合意影響。為此，它們還適合用作熱敏基底(例如木材或塑料)的涂層。除了所述新型光引發劑體系外，粉末涂料配方還可以含有UV吸收劑。合適的實例列在上述l.-8部分中。所述新型可光固化組合物例如適合用作各種類型的基底(要在其上施加保護層，或通過依圖像爆光而產生圖像)的涂布材料，所述基底例如有，木材、紡織品、紙、陶瓷、玻璃、塑料(如聚酯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚烯烴或乙酸纖維素，尤其為膜形式的塑料)，此外還有金屬，如Al、Cu、Ni、Fe、Zn、Mg或Co和GaAs、Si或Si02。進一步發現所述新型輻射敏感性組合物可用作負性抗蝕劑，其具有極71高的光敏性且能夠在堿性含水介質中顯影而不會溶脹。它們適于制造用于凸版印刷、平版印刷、照相凹印的印刷版或絲網印刷版、用于制造凸版拷貝，例如用于制造點字印刷文本、用于制造郵票、用在化學研磨中或用作集成電路制造中的微抗蝕劑。該組合物還可用作可光構圖的介電層或涂層、在計算機芯片制造中的包封材料和隔離涂層、印刷板和其它電氣或電子元件。可能的層載體、以及涂布基底的加工條件可以合理變化。所述新型組合物還涉及光敏熱固性樹脂組合物以及用其形成阻焊劑圖案的方法，更特別涉及新型光敏熱固性樹脂組合物，其可用作印刷電路板制造、金屬制品的精密制造、玻璃和石頭制品的蝕刻、塑料制品的浮雕和印刷板的制備用的材料，特別可用作印刷電路板的阻焊劑；以及涉及通過以下步驟形成阻焊劑圖案的方法將樹脂組合物層經由具有圖案的光掩模選擇性膝露于光化射線，并4吏該層的未膝光部分顯影。劑粘附到無關的部分上并保護電路的材料。因此，需要具有如下性質高粘附性、絕緣強度、耐焊接溫度、耐溶劑性、耐堿性、耐酸性、和耐電鍍性。氧抑制，所以它們特別適用于制造如例如EP320264中所述的濾色片或顏色拼接系統。濾色片常用于制造平板顯示器LCD、PDP(等離子平板顯示器)、EL(電致發光)顯示器和投影系統，圖像傳感器，CCD(電荷耦合器件)，和掃描儀、數字照相機和掘/fl^;L用的CMOS(互補金屬氧化物半導體)傳感濾色片通常通過在玻璃基底上形成紅色、綠色和藍色像素和黑矩陣(blackmatrix)來制成。在這些方法中，可以采用才艮據本發明的可光固化組合物。特別優選的使用方法包括向本發明光敏樹脂組合物中加入紅色、綠色和藍色的著色物質、染料和顏料，用該組合物涂布基底，通過短時間熱處理將涂層干燥，涂層依圖案暴露在光化輻射中，隨后將圖案在堿性顯影劑水溶液中顯影并任選熱處理。由此，通過以此方法，按任何所需順序層疊地施加紅色、綠色和藍色著色涂層，可制造具有紅色、綠色和藍色像素的濾色片層。通過用合適堿顯影溶液洗去未聚合區域來進行顯影。重復該過程以形成多色圖像。在本發明的光敏樹脂組合物中，通過在透明基底上形成至少一個或多個像元，然后從透明基底的沒有形成上述像元的一面上進行啄光的方法，可以使用上述像元作為蔽光掩模。在這種情況下，例如在進行整體曝光時，掩模無需進行位置調節，也不用考慮其位置滑移。而且，可以固化其上沒有形成上述像元的所有部分。此外，在這種情況下，還可通過使用部分蔽光掩模而將其上未形成上述像元的部位的一部分顯影并除去。因為在任一情況下，在較早形成的l象元和在較晚形成的像元之間沒有形成間隙，因此本發明的組合物例如適用于濾色片的形成材料。具體而言，在本發明的光敏樹脂組合物中加入紅色、綠色和藍色的著色物質、染料和顏料，并重復形成圖像的過程以形成紅色、綠色和藍色像元。然后，在整個面上提供其中例如添加了黑色著色材料、染料和顏料的光敏樹脂組合物。可以在其上提供整體曝光(或經由蔽光掩模而部分曝光)從而在紅色、綠色和藍色像元之間的整個空間中(或除了蔽光掩模的局部區域外的各處)形成黑色像元。除了在基底上涂布光敏樹脂組合物并干燥的方法外，還可以使用本發明的光敏樹脂組合物作為層轉移材料。也就是說，光敏樹脂組合物逐層直接提供在臨時載體上，優選在聚對苯二曱酸乙二酯薄膜上，或在其上帶有隔氧層和剝離層或剝離層和隔氧層的聚對苯二甲酸乙二酯薄膜上。通常，將由合成樹脂制成的可移除蓋片層壓在其上以在操作時提供保護。此外，也可以施加層結構，其中在臨時載體上提供堿溶性熱塑性樹脂層和中間層并在其上進一步提供光敏樹脂組合物層(JP5-173320-A)。在^f吏用時移除上述蓋片并將光敏樹脂組合物層層壓在永久載體上。隨后，在帶有隔氧層和剝離層時在這些層與臨時載體之間，在帶有剝離層和隔氧層時在剝離層與隔氧層之間，和在未帶有剝離層或隔氧層時在臨時載體與光敏樹脂組合物之間，進行剝離，并移除臨時載體。金屬載體、玻璃、陶瓷和合成樹脂膜可用作濾色片的載體。透明并具有優異的尺寸穩定性的玻璃和合成樹脂膜是特別優選的。光敏樹脂組合物層的厚度通常為0.1至50微米，特別是0.5至5微米。如果本發明的光敏樹脂組合物含有堿溶性樹脂或堿溶性單體或低聚且也可以進一步包含通過在其中加入少量的水溶混性有機溶劑而制成的顯影劑溶液。合適的堿性材料的實例包括堿金屬氫氧化物(例如氫氧化鈉和氫氧化鉀)、堿金屬碳酸鹽(例如碳酸鈉和碳酸鉀)、堿金屬碳酸氬鹽(例如碳酸氬鈉和碳酸氬鉀)、堿金屬硅酸鹽(例如硅酸鈉和硅酸鉀)、堿金屬偏硅酸鹽(例如偏硅酸鈉和偏硅酸鉀)、三乙醇胺、二乙醇胺、單乙醇胺、嗎啉、四烷基氫氧化銨(例如四曱基氫氧化銨)、或磷酸三鈉。所逸喊性物質的濃度為0.01至30重量％，且pH值優選為8至14。與水溶混的合適的有機溶劑包括曱醇、乙醇、2-丙醇、l-丙醇、丁醇、雙丙酮醇、乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單正丁醚、二乙二醇二甲醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、乙酸正丁酯、千醇、丙酮、甲乙酮、環戊酮、環己酮、2-庚酮、2-戊酮、￡-己內酯、，丁內酯、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、六甲基磷酰胺、乳酸乙酯、乳酸甲酯、s-己內酰胺和N-甲基-吡咯烷酮。所述與水溶混的有機溶劑的濃度為0.1至30重量％。此外，可以加入/^知的表面活性劑。表面活性劑的濃度優選為0.001至10重量％。本發明的光敏樹脂組合物還可以用不含堿性化合物的有機溶劑，包括兩種或更多種溶劑的混合物，進行顯影。合適的溶劑包括甲醇、乙醇、2-丙醇、l-丙醇、丁醇、雙丙酮醇、乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單正丁基醚、二乙二醇二甲醚、丙二醇單曱基醚乙酸酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-甲氣基丙酸甲酯、乙酸正丁酯、節醇、丙酮、甲乙酮、環戊酮、環74己酮、2-庚酮、2-戊酮、s-己內酯、，丁內酯、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、六曱基磷酰胺、乳酸乙酯、乳酸甲酯、s-己內酰胺和N-甲基吡咯烷酮。任選地，可以在這些溶劑中加入水，加入的量只要仍能獲得透明溶液并保持光敏組合物的未曝光區域的足夠溶解度即可。顯影劑溶液可以以本領域技術人員已知的任何形式使用，例如槽液(bathsolution)、泥漿或噴霧溶液的形式。為了去除光敏樹脂組合物層的未固化部分，可以組合如旋轉刷磨擦和濕海綿磨擦之類的方法。通常，顯影溶液的溫度優選為或接近室溫至40°C。顯影時間可根據光敏樹脂組合物的具體類型、顯影溶液的堿性和溫度、以及在加入有機溶劑的情況下該有機溶劑的種類和濃度而變。通常，其為10秒至2分鐘。可以在顯影處理后進行沖洗步驟。優選在顯影處理后進^f亍最終熱處理。因此，將具有通過曝光而聚合的層(以下稱作光固化層)的栽體在電爐和干燥器中加熱，或將光固化層用紅外燈輻照或在熱板上加熱。加熱溫度和時間取決于所用的組合物和所形成的層的厚度。一般來說，加熱優選在約120。C至約250。C下進行約5至約60分鐘。可包含在本發明組合物(包括著色的濾色片抗蝕組合物)中的顏料優選為加工過的顏料，例如通過將顏料細M在至少一種選自丙烯酸系樹脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、馬來酸樹脂和乙基纖維素樹脂的樹脂中而制成的粉狀或膏狀產品。紅色顏料包括例如單獨的蒽醌型顏料、單獨的二酮吡咯并吡咯型顏料、它們的混合物或由它們中至少一種與雙偶氮型黃色顏料或二氫異丐l味型黃色顏料構成的混合物，特別是單獨的C.I.顏料紅177、單獨的C.I.顏料紅254、C.I.顏料紅177與C丄顏料紅254的混合物，或由C.I.顏料紅177和C丄顏料紅254的至少一種與C.I.顏料黃83或C.I.顏料黃139構成的混合物("C丄"表示染料索引，這是本領域熟練技術人員已知的并且是可公共獲得的)。顏料的其它合適的實例為C.I.顏料紅9、97、105、122、123、144、149、168、176、179、180、185、202、207、209、214、222、242、244、255、264、272和C丄顏料黃12、13、14、17、20、24、31、53、55、93、95、109、110、128、129、138、139、150、153、154、155、166、168、185、199、213和C丄顏料橙43。紅色染料的實例是C.I.溶劑紅25、27、30、35、49、83、89、100、122、138149、150、160、179、218、230，C丄直接紅20、37、39、44,和C丄酸性紅6、8、9、13、14、18、26、27、51、52、87、88、89、92、94、97、111、114、115、134、145、151、154、180、183、184、186、198，C丄堿性紅12、13,C.I.分軟紅5、7、13、17和58。紅色染料可以與黃色和/或橙色染料組合使用。綠色顏料包括例如單獨的卣化酞菁型顏料、或其與雙偶氮型黃色顏料、會啉酮(quinophthalone)型黃色顏料或金屬^物的混合物，特別是單獨的C丄顏料綠7、單獨的C丄顏料綠36、或C.L顏料綠7、C.L顏料綠36的至少一種與C丄顏料黃83、C.I.顏料黃138或C丄顏料黃150構成的混合物。其它合適的綠色顏料為C丄顏料綠15、25和37。合適的綠色染料的實例為C.I.酸性綠3、9、16，C.L堿性綠1和4。合適的藍色顏料的實例為酞菁型顏料，可單獨或與二噁溱型紫色顏料組合使用，例如單獨的C.I.顏料藍15:6,C丄顏料藍15:6和C.I.顏料紫23的組合。藍色顏料的其它實例為C丄顏料藍15:3、15:4、16、22、28和60。其它合適的顏料是C.I.顏料紫14、19、23、29、32、37、177和C.I.橙73。合適的藍色染料的實例是C.I.溶劑藍25、49、68、78、94，C丄直接藍25、86、90、108,C.I.酸性藍1、7、9、15、103、104、158、161，C.L堿性藍l、3、9、25和C.I.^L藍198。黑矩陣用的光聚合物組合物的顏料優選包括選自炭黑、鈦黑和氧化鐵的至少一種。但也可以使用共同產生黑色外現的其它顏料的混合物。例如，也可單獨或組合〗吏用C.I.顏料黑l、7和31。濾色片所用的染料的其它實例是C丄溶劑黃2、5、14、15、16、19、21、33、56、62、77、83、93、162、104、105、114、129、130、162，76C丄^t黃3、4、7、31、54、61、201，C丄直接黃1、11、12、28，C丄酸性黃l、3、11、17、23、38、40、42、76、98,C.I.堿性黃1，C.I.溶劑紫13、33、45、46,C.I.^t紫22、24、26、28，C.I.酸性紫49,C.I.堿性紫2、7、10，C.I.溶劑橙1、2、5、6、37、45、62、99，C.I.酸性橙1、7、8、10、20、24、28、33、56、74，C丄直接橙1，C丄^t橙5，C丄直接棕6、58、95、101、173，C.I.酸性棕14，C.I.溶劑黑3、5、7、27、28、29、35、45和46。在一些制造濾色片的具體情況下，使用補色、黃色、品紅色、青色和任選綠色代替紅色、綠色和藍色。作為這種類型的濾色片用的黃色，可以使用上述黃色顏料和染料。適合品紅色的色料的實例是C.I.顏料紅122、144、146、169、177，C.I.顏料紫19和23。青色的實例是鋁酞華顏料、鈦酞菁顏料、鈷酞菁顏料，和錫酞菁顏料。對于任何顏色，也可使用兩種以上顏料的組合。尤其適用于濾色片用途的是通過將上述顏料細分散到樹脂中而制成的粉狀已加工顏料。顏料在總固體組分(各種顏色的顏料和樹脂)中的濃度例如為5-80重量%,特別是20-45重量％。濾色片抗蝕劑組合物中的顏料優選具有小于可見光波長(400納米至700納米)的平均粒徑。特別優選的平均顏料直徑小于100納米。如果需要，通過用分散劑預處理顏料以改進顏料在液體制劑中的^t穩定性，可使顏料在光敏組合物中穩定化。合適的添加劑如上所述。優選地，才艮據本發明的濾色片抗蝕劑組合物另外含有至少一種可加成聚合的單體化合物作為組分(a)。烯屬不飽和化合物(a)含有一個或多個烯雙鍵，它們可具有低(單體)或高(低聚)分子量。含雙鍵的化合物的實例是(曱基)丙烯酸、(曱基)丙烯酸的烷基酯、羥烷基酯或氨基烷基酯，例如(甲基)丙烯酸的甲酯、乙酯、正丁酯、異丁酯、叔丁酯、正丙酯、異丙酯、正己酯、環己酯、2-乙基己酯、異冰片酯、節酯、2-羥基乙酯、2-羥基丙酯、曱氧基乙酯、乙氧基乙酯、甘油酯、苯氧基乙酯、曱氧基二乙二醇酯、乙氡基二乙二醇酯、聚乙二醇酯、聚丙二醇酯、縮水甘油酯、N，N-二甲基氨基乙酯和N，N-二乙基氨基乙酯。其它實例是(甲基)丙烯腈、(甲基)丙烯酰胺、N-取代的(甲基)丙烯酰胺，例如N，N-二甲基(甲基)丙烯酰胺、N，N-二乙基(甲基)丙烯酰胺、N，N-二丁基(甲基)丙烯酰胺、N-甲基(甲基)丙烯酰胺、N-乙基(甲基)丙烯酰胺、N-丁基(甲基)丙烯酰胺和N-(甲基)丙烯酰基嗎啉，乙烯基酯如乙酸乙烯酯，乙烯基醚如異丁基乙烯基醚，苯乙烯、烷基-、羥基-和離代苯乙烯、N-乙烯基吡咯烷酮、N-乙烯基己內酰胺、N-乙烯基乙酰胺、N-乙烯基曱酰胺、氯乙烯或偏二氯乙烯。較高分子量的聚不飽和化合物(低聚物)的實例是含有烯屬不飽和羧酸酯的聚酯、聚氨酯、聚醚和聚酰胺。特別合適的實例是烯屬不飽和羧酸與多元醇或聚環氧化物的酯。不飽和羧酸的實例是丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、衣康酸、肉桂酸、以及不飽和脂肪酸，如亞麻酸或油酸。丙烯酸和曱基丙烯酸是優選的。合適的多元醇為芳族，特別為脂族或脂環族多元醇。芳族多元醇的實例為氫醌、4,4'-二羥基聯苯、2，2-雙(4-羥基苯基)甲烷、2，2-雙(4-羥基苯基)丙烷、2，2-雙(4-羥基苯基)六氟丙烷、9，9-雙(4-羥基苯基)藥、線型酚醛清漆樹脂和可熔酚醛樹脂。脂族和脂環族多元醇的實例為優選具有2-12個碳原子的烷撐二醇，例如乙二醇、1，2-或1，3-丙二醇、1，2-、1，3-或1，4-丁二醇、戊二醇、己二醇、辛二醇、十二烷二醇、二乙二醇、三乙二醇、分子量優選200至1500的聚乙二醇、1，3-環戊二醇、1，2-、1，3-或1，4-環己二醇、1,4-二羥基甲基環己烷、甘油、三乙醇胺、三羥曱基乙烷、三羥曱基丙烷、季戊四醇、季戊四醇單草酸酯、二季戊四醇、季戊四醇與乙二醇或丙二醇的醚，二季戊四醇與乙二醇或丙二醇的醚，山梨糖醇、2，2-雙[4-(2-羥基乙氧基)苯基甲烷、2，2-雙[4-(2-羥基乙氧基)苯基丙烷和9，9-雙4-(2-羥基乙氧基)苯基藥。其它合適的多元醇是在聚合物鏈或在側鏈中含有羥基的聚合物和共聚物，例如包含乙烯基醇或包含(甲基)丙烯酸羥烷基酯的均聚物或共聚物。合適的其它多元醇是具有羥基端基的酯和氨基甲酸酯。多元醇可以用一種不飽和羧酸或用不同的不飽和羧酸部分或完全酯化，且在偏酯中，自由幾基可以被改性，例如用其它羧酸醚化或酯化。基于多元醇的酯的實例是三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(丙烯酰氧基丙基)醚、三羥甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙埽酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四亞甲基二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(曱基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯單草酸酯、二季戊四醇二(曱基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(曱基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯單(2-羥乙基)醚、三季戊四醇八(曱基)丙烯酸酯、1，3-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，4-丁二醇二衣康酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，4-環己二醇二(曱基)丙烯酸酯、山梨糖醇三(甲基)丙烯酸酯、山梨糖醇四(甲基)丙烯酸酯、山梨糖醇五(甲基)丙烯酸酯、山梨糖醇六(甲基)丙烯酸酯、低聚酯(甲基)丙烯酸酯、甘油二(曱基)丙烯酸酯和三(甲基)丙烯酸酯、分子量為200至1500的聚乙二醇的二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二衣康酸酯、二季戊四醇三衣康酸酯、二季戊四醇五衣康酸酯、二季戊四醇六衣康酸酯、乙二醇二衣康酸酯、丙二醇二衣康酸酯、1，3-丁二醇二衣康酸酯、1,4-丁二醇二衣康酸酯、四亞甲基二醇二衣康酸酯、山梨糖醇四衣康酸酯、乙二醇二巴豆酸酯、四亞甲基二醇二巴豆酸酯、季戊四醇二巴豆酸酯、乙二醇二馬來酸酯、三乙二醇二馬來酸酯、季戊四醇二馬來酸酯、山梨糖醇四馬來酸酯或它們的混合物。其它實例是下式(xii)和(xiii)所示的季戊四醇和二季戊四醇衍生物<formula>formulaseeoriginaldocumentpage79</formula>其中M！是-(CH2CH20)畫或-[CH2CH(CH3)0-，R100是-COCH-CH2或-COC(CH3"CH2，P是0至6(p的總和3-24),且q是0至6(q的總和2-16)。聚環氧化物的實例是基于上述多元醇和表氯醇的那些。典型實例是雙(4_縮水甘油氧基苯基)甲烷、2，2-雙(4-縮水甘油氧基苯基)丙烷、2，2-雙(4-縮水甘油氧基苯基)六氟丙烷、9，9-雙(4-縮水甘油氧基苯基)芴、雙[4-(2-縮水甘油氧基乙氧基)苯基I甲烷、2，2-雙[4-(2-縮水甘油氧基乙氧基)苯基丙烷、2，2-雙[4-(2-縮7jC甘油氧基乙lL&)苯基l六氟丙烷、9，9-雙[4-(2-縮7K甘油氧基乙氧基)苯基l芴、雙[4-(2-縮水甘油氧基丙氧基)苯基l甲烷、2，2-雙4-(2-縮7jc甘油氧基丙氧基)苯基]丙烷、2，2-雙[4-(2-縮水甘油氧基丙氧基)苯基1六氟丙烷、9,9-雙[4-(2-縮水甘油氧基丙氧基)苯基1芴，和苯酚與甲酚酚醛清漆樹脂的縮7jC甘油醚。基于聚環氧化物的組分(a)的典型實例是2，2-雙[4-{(2-羥基-3-丙烯酰氧基)丙氧基}苯基丙烷、2，2-雙[4-{(2-羥基-3-丙烯酰氧基)丙氧基乙氧基}苯基]丙烷、9，9-雙[4-{(2-羥基-3-丙烯酰氧基)丙氧基}苯基1芴、9，9-雙[4-{(2-羥基-3-丙烯酰氧基)丙氡基乙氧基}苯基藥，和基于酚醛清漆樹脂的環氧樹脂與(曱基)丙烯酸的反應產物。由上述多元醇或聚環氧化物與具有羥基的不飽和化合物，例如(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、乙烯醇的反應獲得的聚醚也可用作組分(a)。同樣適合作為組分(a)的是相同或不同的不飽和羧酸與優選具有2至6，尤其2至4個氨基的芳族、脂環族和脂族多胺的酰胺。此類多胺的實例是乙二胺、1，2-或1，3-丙二胺、1，2-、1，3-或1，4-丁二胺、1，5-戊二胺、1，6-己二胺、辛二胺、十二烷二胺、1，4-二氨基環己烷、異佛爾酮二胺、苯二胺、聯笨二胺、二-p-氨基乙基醚、二亞乙基三胺、三亞乙基四胺、二(P-氨基乙氧基)-或二(jJ-氨基丙氧基)乙烷。其它合適的多胺為優選在側鏈中具有額外的氨基的聚合物和共聚物、以及具有氨基端基的低聚酰胺。此類不飽和酰胺的實例是亞甲基雙丙烯酰胺、1，6-己二丙烯酰胺、二亞乙基三胺三甲基丙烯酰胺、二(甲基丙烯酰氨基丙氧基)乙烷、曱基丙烯酸p-甲基丙烯酰氨基乙80基酯和N-[(p-羥基乙氧基)乙基丙烯酰胺。其它實例是衍生自多異氰酸酯和具有羥基的不飽和化合物或衍生自多異氰酸酯、多元醇和具有羥基的不飽和化合物的不飽和氨基曱酸酯。其它實例是聚酯、聚酰胺、或在鏈中具有烯屬不飽和基團的聚氨酯。合適的不飽和聚酯和聚酰胺也衍生自例如馬來酸和二醇或二胺。一些馬來酸可以被其它二羧酸替代。聚酯和聚酰胺也可以衍生自二羧酸和烯屬不飽和二醇或二胺，尤其衍生自具有相對長的鏈，例如6至20個C原子的相對長的鏈的那些。聚氨酯的實例是由飽和或不飽和二異氰酸酯分別和不飽和或飽和二醇構成的那些。在側鏈中具有丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯基團的其它合適的聚合物是例如，具有連接到骨架上或連接到分子中的酯基團上的可光聚合側基的溶劑可溶或堿溶性的聚酰亞胺前體，即根據EP624826的那些，例如聚(酰胺酸西旨)化合物。這類低聚物或聚合物可以任選與反應性稀釋劑，如多官能(甲基)丙烯酸酯一起配制以制備高度敏感的聚酰亞胺前體抗蝕劑。組分a)的其它實例也可以是在分子結構內具有至少一個羧基官能團和至少兩個烯屬不飽和基團的聚合物或低聚物，例如通過苯酚或曱酚線型酚醛清漆環氧樹脂和不飽和一元羧^應產物與飽和或不飽和多元酸酸酐的反應獲得的樹脂，例如，如EB9696,UCBChemcials;KAYARADTCR1025，NipponKayakuCo.，LTD的商品。多元酸酸酐的實例是馬來酸酐、琥珀酸酐、衣康酸酐、鄰苯二甲酸酐、四氫化鄰苯二甲酸酐、六氫化鄰苯二甲酸酐、曱基四氫化鄰苯二甲酸酐、戊二酸酐、戊烯二酸酐、檸康酸酐、二乙醇酸酐、亞M二乙酸酐、l，l-環戊烷二乙酸酐、3，3-二甲基戊二酸酐、3-乙基-3-甲基戊二酸酐、2-苯基戊二酸酐、高鄰苯二甲酸酐、偏苯三酸酐、氯菌酸酐、均苯四酸二酐、二苯甲酮四甲酸二酐、聯苯四甲酸二酐和二苯醚四甲酸二酐。其它實例是式(XIV)的化合物與一種或多種上述多元酸酸酐的縮聚反應和/或加成反應的產物。81R，9S51"1R，R400R4(xiv)-O-M;H3CCH3乂HH二C'、CF3、,CF3zC、H3C、,CH3-O-CH^H-CHtO-人oII或入其中Y是R200是氫或曱基，R300和R40。彼此獨立地為氫、甲基、Cl或Br，M2是具有l至10個碳原子的取代或未取代亞烷基，x是0至5，y是1至10。作為組分(a)的這類化合物的實例描迷在JP2002-206014A、JP2004-69754A、JP2004-302245A、JP2005-77451A、JP2005-316449A、JP2005-338328A和JP3754065B2中。化合物(XIV)的實例是其通過與丙烯皿應獲得。如上所述的聚合物或低聚物具有例如大約l，OOO至l，OOO，OOO，優選2，000至200，000的分子量和大約10至200mgKOH/g，優選20至180mgKOH/g的酸值。優選的可光聚合組合物包含在分子中具有至少兩個烯屬不飽和鍵和至少一個羧酸基團的化合物作為組分(a)，特別是通過將含環氧基的不飽和化合物加成到含羧脧基團的聚合物的一部分氛基上來獲得的反應產物，或下面所示的化合物與一種或多種多元酸酸酐的>^應產物。其它優選組分(a)包括由式XIV的化合物與一種或多種多元酸酸酐的反應獲得的化合物。進一步的實例是通過將含環氧基的不飽和化合物加成到含羧脧基團的聚合物的一部分氛基上來獲得的反應產物。作為含羧酸的聚合物，由不飽和羧酸化合物與一種或多種可聚合化合物的反應得到的上述粘結劑聚合物，例如，(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸芐酯、苯乙烯和(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯的共聚物，(甲基)丙烯酸、苯乙烯和a-甲基苯乙烯的共聚物，(甲基)丙烯酸、N-苯基馬來酰亞胺、苯乙烯和(甲基)丙烯酸爺酯的共聚物，(甲基)82丙烯酸和苯乙烯的共聚物，(甲基)丙烯酸和(甲基)丙烯酸千酯的共聚物，(曱基)丙烯酸四氫糠基酯、苯乙烯和(甲基)丙烯酸的共聚物，和類似物。下面在式(V-1)至(V-15)中給出具有環氧基的不飽和化合物的實例<formula>formulaseeoriginaldocumentpage83</formula>，其中Rso是氫或甲基，M3是具有1至10個碳原子的取代或未取代亞烷基。在這些化合物中，具有脂環族環氧基的化合物特別優選，因為這些化合物與含羧基的樹脂具有高反應性，可以相應地縮短反應時間。這些化合物進一步不會造成反應過程中的膠凝，并且能夠使反應穩定地進行。另一方面，從敏感性和耐熱性的角度看，丙烯酸縮水甘油酯和甲基丙烯酸縮水甘油酯是有利的，因為它們具有低分子量并可以產生高的酯化轉化率。上述化合物的具體實例是，例如，苯乙烯、a-曱基苯乙烯和丙烯酸的共聚物或甲基丙烯酸曱酯和丙烯酸的共聚物與(曱基)丙烯酸3，4-環氧環己基甲酯的反應產物。可以使用具有羥基的不飽和化合物，例如(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯和甘油單(甲基)丙烯酸酯代替上述含環氧基的不飽和化合物作為含羧酸基團的聚合物反應物。其它實例是含酸肝的聚合物的半酯，例如馬來酸酐和一種或多種其它可聚合化合物的共聚物與具有醇式羥基的(甲基)丙烯酸酯(如(甲基)丙烯酸2-羥基乙酉旨)或具有環氧基的(甲基)丙烯酸酯(如式(V-l)至(V-lS)中所述的化合物)的反應產物。具有醇式羥基的聚合物(例如(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸、甲基丙烯酸千酯和苯乙烯的共聚物)與(甲基)丙烯酸或(甲基)丙烯酰氯的反應產物也可用作組分(a)。其它實例是具有末端不飽和基團的聚酯(其由二元酸酸酐和具有至少兩個環氧基的化合物的反應然后進一步與不飽和化合物反應來獲得)與多元酸酸酐的反應產物。其它實例是由飽和或不飽和多元酸酸酐與通過在如上所述含羧酸的聚的反應獲得的樹脂。可光聚合化合物可以單獨使用或以任何所需混合物使用。在濾色片抗蝕劑組合物中，可光聚合組合物中所含的單體的總量優選占該組合物中總固含量(即不含溶劑的所有組分量)的5至80重量％，特別是10至70重量％。作為用在濾色片抗蝕劑組合物中的可溶于堿性水溶液但不溶于水的粘結劑，例如，可以<使用分子中具有一個或多個酸基和一個或多個可聚合不84飽和鍵的可聚合化合物的均聚物、或兩種或更多種這種化合物的共聚物、以及一種或多種具有一個或多個可與這些化合物共聚的不飽和鍵且不含酸基的可聚合化合物的共聚物。這些化合物可通過使一種或多種在分子中具有一個或多個酸基和一個或多個可聚合不飽和鍵的低分子化合物與一種或多種具有一個或多個可與這些化合物共聚的不飽和鍵且不含酸基的可聚合化合物共聚而獲得。g的實例是-COOH基團、-S03H基團、-S02NHCO-基團、酚式羥基、-80211-基團、和-CO-NH-CO-基團。其中，具有-COOH的高分子化合物是特別優選的。優選地，濾色片抗蝕劑組合物中的有機聚合物粘結劑包括堿溶性共聚物，其包含至少一種不飽和有機酸化合物，如丙烯酸、甲基丙烯酸和類似物作為可加聚的單體單元。優選使用不飽和有機酸酯化合物，如丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(曱基)丙烯酸芐酯、苯乙烯和類似物作為聚合物粘結劑的其它共聚單體，以平衡各種性能，如堿溶性、粘附剛性、耐化學性等。有機聚合物粘結劑可以是如US5368976中所述的無規共聚物或嵌段共聚物。分子中具有一個或多個脧基和一個或多個可聚合不飽和鍵的可聚合化合物的實例包括下列化合物分子中具有一個或多個-COOH基團和一個或多個可聚合不飽和鍵的可聚合化合物的實例是(甲基)丙烯酸、2-羧乙基(甲基)丙烯酸、2-羧丙基(甲基)丙烯酸、巴豆酸、肉桂酸、琥珀酸單[2-(甲基)丙烯酰氧基乙基]酯、己二酸單[2-(甲基)丙烯酰氧基乙基酯、鄰苯二甲酸單[2-(甲基)丙烯酰氧基乙基l酯、六氫化鄰苯二甲酸單[2-(甲基)丙烯酰氧基乙基酯、馬來酸單[2-(曱基)丙蟑酰氧基乙基酯、琥珀酸單[2-(甲基)丙烯酰氧基丙基酯、己二酸單[2-(甲基)丙烯酰氧基丙基l酯、鄰苯二甲酸單[2-(甲基)丙烯酰氧基丙基]酯、六氫化鄰苯二甲酸單[2-(甲基)丙烯酰氡基丙基酯、馬來酸單2-(曱基)丙烯酰氧基丙基酯、琥珀酸單[2-(甲基)丙烯酰氧基丁基酯、己二酸單[2-(甲基)丙烯酰氧基丁基]酯、鄰苯二甲酸單[2-(甲基)丙烯酰氧基丁基酯、六氫化鄰苯二85甲酸單[2-(甲基)丙烯酰氧基丁基l酯、馬來酸單[2-(甲基)丙烯酰氧基丁基酯、3-(烷基氛基甲酰基)丙烯酸、a-氯丙烯酸、馬來酸、單酯化馬來酸、富馬酸、衣康酸、檸康酸、中康酸、馬來酸酐和co-氛基聚己內酯單(甲基)丙烯酸酯。乙烯基苯磺酸和2-(甲基)丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸是具有一個或多個-S03H基團和一個或多個可聚合不飽和鍵的可聚合化合物的實例。N-甲基磺酰基(甲基)丙烯酰胺、N-乙基磺酰基(甲基)丙烯酰胺、N-苯基磺酰基(甲基)丙烯酰胺和N-(對甲基苯基磺酰基)(甲基)丙烯酰胺是具有一個或多個-S02NHCO-基團和一個或多個可聚合不飽和鍵的可聚合化合物的實例。分子中具有一個或多個酚式羥基和一個或多個可聚合不飽和鍵的可聚合化合物的實例包括羥苯基(曱基)丙烯酰胺、二羥苯基(曱基)丙烯酰胺、(曱基)丙烯酸羥苯基羰氧基乙基酯、(甲基)丙烯酸羥基苯氧基乙基酯、(甲基)丙烯酸羥基苯疏基乙基酯、(甲基)丙烯酸二羥苯基羰氧基乙基酯、(曱基)丙烯酸二羥苯氧基乙基酯和(甲基)丙烯酸二羥苯硫基乙基酯。分子中具有一個或多個-S02NH-基團和一個或多個可聚合不飽和鍵的可聚合化合物的實例包括由通式(a)或(b)代表的化合物CH產CHA廣Y廣A2畫S02-NH漏A3(a)CH2=CHA4-Y2-A5-NHS02-A6(b)其中Y！和Y2各自代表-COO-、-<:01>^7-或單鍵；Aj和A4各自代表H或CH3;A2和As各自代表任選具有取代基的d-d2亞烷基、亞環烷基、亞芳基、或亞芳烷基或其中插入有醚基和硫醚基的Qrd2亞烷基、亞環烷基、亞芳基、或亞芳烷基；A3和A6各自代表H、任選具有取代基的CVC12烷基、環烷基、芳基、或芳烷基；且A7代表H、任選具有取代基的d-C12烷基、環烷基、芳基或芳烷基。具有一個或多個-CO-NH-CO-基團和一個或多個可聚合不飽和鍵的可聚合化合物包括馬來酰亞胺和N-丙烯酰基-丙烯酰胺。這些可聚合化合物通過聚合變成包含-CO-NH-CO-基團的高分子化合物，其中與主鏈一起形成環。此外，也可以使用各自具有-CO-NH-CO-基團的甲基丙埽酸衍生物和丙烯酸衍生物。這些甲基丙烯酸衍生物和丙烯酸衍生物包括，例如甲基丙烯酰胺衍生物，如N-乙酰基曱基丙烯酰胺、N-丙酰基曱基丙烯酰胺、N-丁酰基曱基丙烯酰胺、N-戊酰基甲基丙烯酰胺、N-癸酰基甲基丙烯酰胺、N-十二烷酰基甲基丙烯酰胺、N-苯甲酰基曱基丙烯酰胺、N-(對甲基苯甲酰基)甲基丙烯酰胺、N-(對氯苯甲酰基)甲基丙烯酸銨、N-(萘基羰基)曱基丙烯酰胺、N-(苯基乙酰基)甲基丙烯酰胺和4-甲基丙烯酰氨基鄰苯二甲酰亞胺、以及具有與這些相同的取代基的丙烯酰胺衍生物。這些可聚合化合物聚合成側鏈中具有-CO-NH-CO-基團的化合物。具有一個或多個可聚合不飽和鍵且不含酸基的可聚合化合物的實例包括具有可聚合不飽和鍵的選自以下的化合物(甲基)丙烯酸的酯，例如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(曱基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸四氫糠基酯、(甲基)丙烯酸千酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(曱基)丙烯酸羥乙酯、(甲基)丙烯酸羥丙酯、(曱基)丙烯酸羥丁酯、甘油單(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸二羥丙酯、(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸甲氧基苯酯、(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸甲氧基二乙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基三乙二醇酯、(甲基)丙烯酸曱氧基丙酯、(甲基)丙烯酸甲氧基二丙二醇酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯、(甲基)丙烯酸二環戊二烯基酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-苯氧基丙酯、(甲基)丙烯酸三環[5.2.1.02'6-癸-8-基酯、(甲基)丙烯酸氨基乙酯、(甲基)丙烯酸N，N-二甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸氛基丙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基氨基丙酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸2-甲基縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸3，4-環氧丁基酯、(甲基)丙烯酸6，7-環氧庚基酯；乙烯基芳族化合物，例如苯乙烯、a-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、對氯苯乙烯、多氯苯乙烯、氟苯乙烯、溴苯乙烯、乙氧基甲基苯乙烯、甲氧基苯乙烯、4-甲氧基-3-曱基苯乙烯、二甲氧基苯乙烯、乙烯基千基甲基醚、乙烯基千基縮水甘油醚、茚、l-甲基茚；乙烯基或烯丙基酯，例如乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯、新戊酸乙烯酯、87苯甲酸乙烯酯、三甲基乙酸乙烯酯、二乙基乙酸乙烯酯、乙烯基barate、己酸乙烯酯、氯乙酸乙烯酯、二氯乙酸乙烯酯、甲氧基乙酸乙烯酯、丁氧基乙酸乙烯酯、苯基乙酸乙烯酯、乙酸乙烯酯、乙酰乙酸乙烯酯、乳酸乙烯酯、苯基丁酸乙烯酯、環己基甲酸乙烯酯、7jC楊酸乙烯酯、氯苯甲酸乙烯酯、四氯苯甲酸乙烯酯、萘甲酸乙烯酯、乙酸烯丙酯、丙酸烯丙酯、丁酸烯丙酯、新戊酸烯丙酯、苯甲酸烯丙酯、己酸烯丙酯、硬脂酸烯丙酯、乙酰乙酸烯丙酯、乳酸烯丙酯；乙烯基或烯丙基醚，例如乙烯基甲基醚、乙烯基乙基醚、乙烯基己基醚、乙烯基辛基醚、乙烯基乙基己基醚、乙烯基甲氧基乙基醚、乙烯基乙氧基乙基醚、乙烯基氯乙基醚、乙烯基羥乙基醚、乙烯基乙基丁基醚、乙烯基羥基乙氧基乙基醚、乙烯基二甲基氨基乙基醚、乙烯基二乙基氨基乙基醚、乙烯基丁基氨基乙基醚、乙烯基千基醚、乙烯基四氫糠基醚、乙烯基苯基醚、乙烯基甲苯基醚、乙烯基氯苯基醚、乙烯基氯乙基醚、乙烯基二氯苯基醚、乙烯基萘基醚、乙烯基蒽基醚、烯丙基縮水甘油基醚；酰胺型不飽和化合物，例如(曱基)丙烯酰胺、N，N-二甲基(曱基)丙烯酰胺、N，N-二乙基(甲基)丙烯酰胺、N，N-二丁基(甲基)丙烯酰胺、N,N-二乙基己基(甲基)丙烯酰胺、N，N-二環己基(甲基)丙烯酰胺、N，N-二苯基(甲基)丙烯酰胺、N-甲基-N-苯基(甲基)丙烯酰胺、N-羥乙基-N-甲基(甲基)丙烯酰胺、N-甲基(甲基)丙烯酰胺、N-乙基(甲基)丙烯酰胺、N-丙基(甲基)丙烯酰胺、N-丁基(甲基)丙烯酰胺、N-羥乙基(甲基)丙烯酰胺、N-庚基(甲基)丙烯酰胺、N-辛基(曱基)丙烯酰胺、N-乙基己基(甲基)丙烯酰胺、N-羥乙基(甲基)丙烯酰胺環己基、N-千基(甲基)丙烯酰胺、N-苯基(甲基)丙烯酰胺、N-甲苯基(甲基)丙烯酰胺、N-羥基苯基(甲基)丙烯酰胺、N-萘基(甲基)丙烯酰胺、N-苯基磺酰基(甲基)丙烯酰胺、N-甲基苯基磺酰基(甲基)丙烯酰胺和N-(甲基)丙烯酰基嗎啉、雙丙酮丙烯酰胺、N-羥甲基丙烯酰胺、N-丁氧基丙烯酰胺；聚烯烴型化合物，例如丁二烯、異戊二烯、氯丁二烯和類似物；(甲基)丙烯腈、甲基異丙烯基酮、馬來酰亞胺、N-苯基馬來酰亞胺、N-曱基苯基馬來酰亞胺、N-甲氧基苯基馬來酰亞胺、N-環己基-馬來酰亞胺、N-烷基馬來酰亞胺、馬來酸酐、聚苯乙烯大單體、聚(甲基)88丙烯酸甲酯大單體、聚(甲基)丙烯酸丁酯大單體；巴豆酸酯，例如巴豆酸丁酯、巴豆酸己酯、甘油單巴豆酸酯；和衣康酸酯，例如衣康酸二甲酯、衣康酸二乙酯、衣康酸二丁酯；和馬來酸酯或富馬酸酯，例如馬來酸二甲酯、富馬酸二丁酯。共聚物的優選實例是(曱基)丙烯酸甲酯和(甲基)丙烯酸的共聚物，(曱基)丙烯酸芐酯和(甲基)丙烯酸的共聚物，(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯和(甲基)丙烯酸的共聚物，(甲基)丙烯酸節酯、(甲基)丙烯酸和苯乙烯的共聚物，(甲基)丙烯酸節酯、(甲基)丙烯酸和(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯的共聚物，(甲基)丙烯酸甲酯、(曱基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸和苯乙烯的共聚物，(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸節酯、(甲基)丙烯酸和(曱基)丙烯酸羥苯酯的共聚物，(甲基)丙埽酸甲酯、(甲基)丙烯酸和聚(甲基)丙烯酸甲酯大單體的共聚物，(曱基)丙烯酸節酯、(曱基)丙烯酸和聚(甲基)丙烯酸甲酯大單體的共聚物，(甲基)丙烯酸四氫糠基酯、苯乙烯和(甲基)丙烯酸的共聚物，(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸和聚苯乙烯大單體的共聚物，(甲基)丙烯酸爺酯、(甲基)丙烯酸和聚苯乙烯大單體的共聚物，(甲基)丙烯酸芐酯、(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯和聚苯乙烯大單體的共聚物，(甲基)丙烯酸節酯、(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯和聚苯乙烯大單體的共聚物，(甲基)丙烯酸芐酯、(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-苯氧基丙酯和聚(甲基)丙烯酸甲酯大單體的共聚物，(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯和聚苯乙烯大單體的共聚物，(甲基)丙烯酸節酯、(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯和聚(甲基)丙烯酸甲酯大單體的共聚物，N-苯基馬來酰亞胺、(曱基)丙烯酸節酯、(甲基)丙烯酸和苯乙烯的共聚物，(甲基)丙烯酸節酯、(甲基)丙烯酸、N-苯基馬來酰亞胺、琥珀酸單[2-(曱基)丙烯酰氧基乙基l酯和苯乙烯的共聚物，(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸、N-苯基馬來酰亞胺、琥珀酸單[2-(甲基)丙烯酰氧基乙基酯和苯乙烯的共聚物，(甲基)丙烯酸千酯、(甲基)丙烯酸、N-苯基馬來酰亞胺、甘油單(甲基)丙烯酸酯和苯乙烯的共聚物，(甲基)丙烯酸爺酯、co-羧基聚己內酯單(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸、N-苯基馬來酰亞胺、甘油89單(甲基)丙烯酸酯和苯乙烯的共聚物，和(曱基)丙烯酸芐酯、(曱基)丙烯酸、N-環己基馬來酰亞胺和苯乙烯的共聚物。術語"(曱基)丙烯酸酯"在本申請范圍中是指丙烯酸酯以及相應的曱基丙烯酸酯。也可以使用羥基苯乙烯均-或共-聚合物或線型酚醛清漆型酚醛樹脂，例如聚(羥基苯乙烯)和聚(羥基苯乙烯-共-乙烯基環己醇)、線型酚醛清漆樹脂、甲酚線型酚醛清漆樹脂和囟代苯酚線型酚醛清漆樹脂。更具體包括例如甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸共聚物、衣康酸共聚物、巴豆酸共聚物、馬來酸酐共聚物(例如以苯乙烯作為共聚單體)、和馬來酸共聚物、以及部分酯化的馬來酸共聚物，各自描述于例如JP59-44615-B4(本文所用的術語"JP-B4"是指已審日本專利申請)、JP54-34327-B4、JP58-12577-B4和JP54-25957-B4、JP59-53836-A、JP59隱71048畫A、JP60-159743-A、JP60-258539-A、JPl-152449-A、JP2-199403-A和JP2-199404-A，且這些共聚物可與胺進一步反應，如美國專利US5650263中所公開；此外，可以使用側鏈上具有羧基的纖維素衍生物，特別優選的是(甲基)丙烯酸節酯和(甲基)丙烯酸的共聚物，以及(甲基)丙烯酸芐酯、(甲基)丙烯酸和其它單體的共聚物，例如US4139391、JP59-44615-B4、JP60-159743-A和JP60-258539-A中所述。對于上述有機粘結劑聚合物中的具有羧酸基團的那些，可以使羧g團中的一些或全部與(甲基)丙烯酸縮水甘油酯或環氧(曱基)丙烯酸酯反應以獲得可光聚合的有機粘結劑聚合物，以改進光敏性、涂膜強度、對涂料溶劑和化學品的耐受性、以及與基底的粘附性。其實例公開在JP50國34443-B4和JP50-34444-B4、US5153095、T.Kudo等人的J.Appl.Phys.,vol.37(1998)，第3594-3603頁、US5677385和US5650233中。所述粘結劑的重均分子量優選是500-1，000，000,例如3，000-1，000，000，更優選5，000-400，000。這些化合物可單獨使用或作為兩種或更多種的混合物使用。粘結劑在光敏樹脂組合物中的含量優選為總固體物質的10-95重量％，更優選15至90重量％。此外，在濾色片中，各顏色的總固體組分可含有離子雜質清除劑，如具有環氧基的有機化合物。離子雜質清除劑在總固體組分中的濃度通常為0.1重量％至10重量％。EP320264中給出了濾色片的實例，尤其涉;5L^料與離子雜質清除劑的上述組合。要理解的是，根據本發明的光引發劑，即式I、II和IH的化合物可以在EP320264中所述的濾色片配方中替代三溱引發劑化合物。根據本發明的組合物還可以另外包含用酸活化的交聯劑，如JP10221843-A中所述的那些，以及通過熱或通過光化輻射產生酸并活化交聯反應的化合物。根據本發明的組合物也可以包含潛(latent)顏料，其在含有潛顏料的光敏圖案或涂層的熱處理過程中轉化成細分散顏料。熱處理可在膝光之后或在含潛顏料的光可成像層顯影之后進行。這種潛顏料是可溶性顏料前體，其可通過如US5879855中所述的化學、熱、光解或輻射誘導的方法轉化成不溶性顏料。這類潛顏料的這種轉化可通過向該組合物中加入在光化曝光時產生酸的化合物或通過加入酸性化合物來促進。因此，還可以制備在根據本發明的組合物中包含潛顏料的濾色片抗蝕劑。濾色片抗蝕劑的實例、這類抗蝕劑的組成以h口工條件由下列文獻給出T.Kudo等人的"Jpn.J.Appl.Phys."vol.37(1998)3594;T,Kudo等人的J.Photopolym.Sci.Technol.vol.9(1996)109;K.Kobayashi的SolidStateTechnol.1992年11月，第S15-S18頁；US5368976;US5800952;US5882843;US5879855;US5866298;US5863678;JP06-230212-A;EP320264;JP09-269410-A;JP10-221843-A;JP01-0卯516畫A;JP10誦171119-A、US5821016、US5847015、US5882843、US5719008、EP881541或EP902327。本發明的光引發劑可用在濾色片抗蝕劑中，例如以上作為實例給出的那些，或可以部分或完全替代這類抗蝕劑中的已知光引發劑。本領域技術人員應該理解，本發明新型光引發劑的應用不限于上文給出的特定粘結劑樹脂、交聯劑和濾色片抗蝕劑配方實例，而是可以與任何可自由基聚合組分以及染料或彩色顏料或潛顏料一起使用，以形成光敏濾色片油墨或濾色片抗蝕劑。相應地，本發明的主題還有通過提供紅色、綠色和藍色(RGB)元素和非必要的黑矩陣制成的濾色片，所有這些均在透明基底上包含光敏樹脂和顏料并在基底表面上或在濾色片層表面上提供透明電極，其中所述光敏樹脂包含多官能丙烯酸酯單體、有機聚合物粘結劑和如上所述的式I、II或m的光聚合引發劑。單體和粘結劑組分以及合適的顏料如上所述。在濾色片制造中，透明電極層可施加到透明基底表面上或可提供在紅色、綠色和藍色像元的表面以及黑矩陣上。透明基底例如是玻璃基底，其表面上可另外具有電極層。優選在不同顏色的色區之間施加黑矩陣以改進濾色片的對比度。如前所述的本發明的光敏組合物還適合于制備濾色片的黑矩陣。所述黑矩陣組合物例如包含一如前所述的本發明的式I或II的光引發劑化合物或式I或II的化合物和根據本發明的式r或ir的化合物的光引發劑混合物，一有機粘結劑，特別是含氛基的環氧丙烯酸酯樹脂有機粘結劑，一黑色著色材料，一聚合物M劑，特別是含堿性官能團的聚合物*劑。本領域技術人員熟悉此類配方。適合的黑矩陣組合物和上述(除光引發劑以外的)組分的實例在專利JPNo.375065中給出，該文獻的公開內容經此引用并入本文。本發明的主題還是包含顏料或顏料混合物作為另外的添加劑(d)的上述可光聚合組合物。本發明的另一個主題是任選地除了顏料或顏料混合物作為另外的添加劑(d)之外還包含分散劑或分散劑混合物作為另外的添加劑(d)的上述可光聚合組合物。除了使用光敏組合物并通過依圖案曝光(即經由合適的掩模)將黑色光92敏組合物光刻圖案化以在透明基底上形成隔離紅、綠和藍色區域的黑色圖案來形成黑矩陣，也可替代性地使用無機黑矩陣。這種無機黑矩陣可通過合適的成像方法由透明基底上沉積的(如'減射的)金屬(如鉻)膜形成，例如利用借助抗蝕刻劑的光刻圖案化，在未用抗蝕刻劑保護的區域中蝕刻無機層然后去除其余抗蝕刻劑。關于在濾色片制造過程中如何施加和在何階段施加黑矩陣，已知有不同的方法。其可以如上所述在形成紅色、綠色和藍色(RGB)濾色片之前直接施加到透明基底上，或其可以在基底上形成RGB濾色片之后施加。在液晶顯示器濾色片的不同實施方案中，才艮據US626796，黑矩陣也可施加到與承載RGB濾色片元件的基底相對的基底上，兩基底通過液晶層隔開。如果透明電極層在施加RGB濾色片元件和任選的黑矩陣之后沉積，則可以，如US5650263中所述，在電極層沉積之前在濾色片層上施加作為保護層的附加罩面層膜。為了形成濾色片的罩面層，使用光敏樹脂或熱固性樹脂組合物。本發明的光敏組合物也可用于形成這種罩面層，因為該組合物的固化膜具有優異的平整度、硬度、耐化學性和耐熱性、透明度(尤其是在可見光區)、與基底的粘附性，和在其上形成透明導電膜，如ITO膜的適應性。在保護層的制造中，如JP57-42009-A、JPl-130103-A和JPl-134306-A中所述，要求從基底上除去保護層的不必要部分，例如在用于切割基底的劃線上，以及在固體圖像傳感器的結合區上的不必要部分。就此而言，使用上述熱固性樹脂難以以良好的精確度選擇性形成保護層。然而，光敏組合物允許通過光刻技術除去保護層的不必要部分。本領域技術人員顯而易見的是，本發明的光敏組合物可用于生成紅色、綠色和藍色像素和黑矩陣，用于制造濾色片，不管上i^口工方面的差異如何，不管可以施加的附加層如^f可，也不管濾色片^:計方面的差異如何。不應認為根據本發明的組合物用于形成有色元件的應用受這類濾色片的不同設計和制造工藝限制。本發明的光敏組合物可適當用于形成濾色片和黑矩陣，但不限于這些用途。其也可用于記錄材料、抗蝕劑材料、保護層、介電層、用在顯示領域和顯示元件、油漆和印刷油墨中。根據本發明的光敏組合物也適用于制造液晶顯示器、更特別AA射型液晶顯示器中的層間絕緣層或介電層，這些顯示器包括具有薄膜晶體管(TFT)作為開光裝置的有源矩陣型顯示器(activematrixdisplay)、以及沒有開關裝置的無源矩陣型顯示器(passivematrixdisplay)。近年來，液晶顯示器由于其厚度小和重量輕而廣泛用于便攜型電視設備和通訊用終端設備。無需使用背光的反射型液晶顯示器尤其合乎要求，因為它超薄且重量輕，而且可以明顯降低功率消耗。然而，即使從目前可得的透射型彩色液晶顯示器中除去背光，并在顯示器的下表面上加入反光板，也會產生問題，即光的利用效率低且不可能具有實用亮度。作為該問題的解決方案，已經提出了各種反射型液晶顯示器以增強光的利用效率。例如，將某些反射型液晶顯示器設計成包括具有反射功能的像素電極。反射型液晶顯示器包括絕緣基底和與絕緣基底隔開的相對基底。基底間的空間填充有液晶。在絕緣基底上形成柵電極，且柵電極和絕緣基底均被柵極絕緣膜覆蓋。隨后在柵電極之上的柵極絕緣膜上形成半導體層。源電極和漏電極也在接觸半導體層的柵極絕緣膜上形成。源電極、漏電極、半導體層、和柵電極彼此協作，由此構成作為開關裝置的底部柵型TFT。形成覆蓋源電極、漏電極、半導體層和柵極絕緣膜的層間絕緣膜。在漏電極上的整個層間絕緣膜上形成接觸孔。在層間絕緣膜和接觸孔內側壁上均形成由鋁制成的像素電極。TFT的漏電極最終通過層間絕緣膜與像素電極接觸。層間絕緣層通常設計成具有粗糙表面，通過該粗糙表面，像素電極充當反射板，其將光漫射以產生更寬的視角(可視角)。反射型液晶顯示器由于像素電極充當反光板而明顯增強了光的利用效率。在上述反射型液晶顯示器中，層間絕緣膜通過光刻法設計成具有凸起94為了形成接觸孔，使用光刻法，其采用正性和負性光致抗蝕劑。對于這些抗蝕劑，根據本發明的組合物尤其合適。根據本發明的光敏組合物還可用于制造間隔物(spacer)，用于控制液晶顯示板中液晶部件的液晶盒間隙(cellgap)。由于液晶顯示器中透過液晶層透射和反射的光的性能取決于液晶盒間隙，像素陣列上的厚度精度和均勻度對于液晶顯示單元的性能而言是關鍵的參數。在液晶盒中，液晶盒內基底間的間距通過使直徑約幾微米的玻璃或聚合物球作為間隔物稀疏分布在基底間而保持恒定。間隔物由此固定在基底之間以4錄底間的距離保持為恒定值。該距離由間隔物的直徑決定。間隔物確保基底間的最小間距，即它們防止基底間距離的減小。但它們不能防止基底彼此分開，即基底間距離的增加。此外，使用間隔物珠的這種方法具有間隔物珠直徑均勻性上的問題、難以將間隔物珠均勻^R在板上的問題，以及不均勻取向的問題，和亮度和/或光學孔徑根據間隔物在像素陣列區上的位置而下降的問題。具有大圖像顯示區的液晶顯示器近來引起大量關注。但液晶盒面積的增加通常造成構成液晶盒的基底的扭曲。基底的形變容易造成液晶的層結構破壞。因此，即使使用間隔物4植底間的間距保持恒定，具有大圖像顯示區的液晶顯示器也由于顯示器受擾而不可行。用于代替上述間隔物球^t法，已經提出了在液晶盒間隙中形成柱作為間隔物的方法。在該方法中，在像素陣列區和反電極之間的區域中形成樹脂柱作為間隔物，從而形成預定的液晶盒間隙。通常例如在濾色片制造法中使用具有光刻粘附性能的光敏材料。在可以自由控制間隔物的位置、數目和高度方面，該方法與使用間隔物珠的常規方法相比是有利的。在彩色液晶顯示板中，這種間隔物在濾色片元件的黑矩陣下的非成像區內形成。因此，使用光敏組合物形成的間隔物不會降低亮度和光學孔徑。JP2000-81701-A中公開了制造濾光片用的帶有間隔物的保護層用的光敏組合物，且JP11-174459-A和JP11-174464-A中也公開了用于間隔材料的干膜型光致抗蝕劑。如這些文件所述，光敏組合物、液膜和干膜光致抗蝕劑至少包含堿或酸可溶性粘結劑聚合物、可自由基聚合單體和自由基引發劑。在某些情況下，還可以包括可熱交聯組分，如環氧化物和羧酸。使用光敏組合物來形成間隔物的步驟如下將光敏組合物施加到基底，例如濾色片板上，在將基底預烘烤后，將其透過掩^t曝光。然后，將基底用顯影劑顯影，圖案化以形成所需間隔物。如果所述組合物含有一些熱固性組分，則通常進行后烘烤以將該組合物熱固化。根據本發明的可光固化組合物由于其高敏感性而適用于制造液晶顯示器的間隔物(如上所述)。本發明的光敏組合物也適用于制造用在液晶顯示板、圖像傳感器等中的微透鏡陣列。微透鏡是安裝在有源光電器件，如檢測器、顯示器、和發光器件(發光二極管、橫向和垂直空腔激光器)上以改進它們的光學輸入或輸出質量的顯微無源光學元件。應用領域廣泛并涵蓋了如電訊、信息技術、聲頻-視頻裝置、太陽能電池、檢測器、固態光源和光學互連件領域等。目前的光學系統使用各種技術獲得微透鏡與微光學器件之間的有效連接。微透鏡陣列用于將照明光會聚到非發光顯示器裝置，如液晶顯示器裝置的像元區上以提高顯示器的亮度，用于會聚入射光或用作在行式圖像傳感器(例如，用于傳真機等)的光電轉化區上形成圖像以提高這些器件的靈敏度的裝置，和用于在液晶復印機或發光二極管(LED)復印機中所用的光敏裝置上形成待印刷的圖像。最常見的應用是，它們可用于改進固態圖像傳感器件，如電荷耦合器件(CCD)的光檢測器陣列的效率。在檢測器陣列中，需要在各個檢測器元件或像素中收集盡可能多的光。如果將微透鏡放在各個像素之上，則這些透鏡就收集入射光并將其聚焦到小于透鏡尺寸的活性區上。根據現有技術，微透鏡陣列可通過各種方法制造(1)一種獲得凸透鏡的方法，其中通過傳統光刻技術或類似技術在熱塑性樹脂上以平面構型繪制透鏡圖案，然后將熱塑性樹脂加熱至高于所述樹脂軟化點的溫度以產生流動性，由此在圖案邊緣產生流掛(所謂的"回流(reflow)")(例如參見，JP60-38989-A、JP60-165623-A、JP61-67003-A和JP2000-39503-A)。在該方法中，當所用熱塑性樹脂為光敏性時，可以通過該樹脂曝光來獲得透鏡圖案。(2)—種利用模具或壓模形成塑料或玻璃材料的方法。作為透鏡材料，該方法中可以使用可光固化樹脂和熱固性樹脂(例如參見，WO99/38035)。(3)—種基于以下現象形成凸透鏡的方法，其中，當使用定位器(aligner)將光敏樹脂以所需圖案曝光時，未反應單體從未曝光區移向曝光區，造成曝光區的膨脹(例3口參見，"JournaloftheResearchGroupinMicroopticsJapaneseSocietyofAppliedPhysics",ColloquiuminOptics,Vol.5，No.2，第118-123頁(1987)和Vol.6，No.2，第87-92頁(1988))。在支承基底的上表面上，形成光敏樹脂層。然后，借助單獨的遮蔽掩模，用來自汞燈或類似物的光照射光敏樹脂層的上表面，由此使光敏樹脂層曝光。結果，光敏樹脂層的啄光區就膨脹成凸透鏡形狀，從而形成具有多個微透鏡的光會聚層。(4)一種獲得凸透鏡的方法，其中通過i^巨曝光技術將光敏樹脂曝光，其中光掩模不與樹脂接觸，造成圖案邊緣模糊，這樣光化學反應產物的量就根據圖案邊緣的模糊度而棘(例如參見JP61-153602-A)。(5)—種產生透鏡效應的方法，其中將光敏樹脂用具有特定強度分布的光進行曝光，以形成具有取決于光強度的折光指數的分布圖案(例如參見，JP60畫72927-A和JP60-166946-A)。根據本發明的光敏組合物可用于上述方法中的任何一種從而使用可光固化樹脂組合物形成微透鏡陣列。一類特定的技術致力于在熱塑性樹脂(如光致抗蝕劑)中形成微透鏡。Popovic等人在參考文獻SPIE898，第23-25頁(1988)中公開了一個實例。被稱作回流技術的這種技術包括下列步驟限定透鏡在熱塑性樹脂中的印跡，例如在光敏樹脂(如光致抗蝕劑)中通過光刻法進行，隨后將該材料加97熱至其回流(reflow)溫度之上。表面張力將光致抗蝕劑島拉成具有體積與回流前的原始島相等的球狀蓋。這種蓋是一種平凸微透鏡。該技術的優點尤其在于，簡單、可再現以及可以直接在發光或光檢測光電器件之上進行集成。在某些情況下，在回流之前在長方形的圖案化透鏡單元上形成罩面層以避免中部的樹脂島流掛，而不在回流步驟中回流成球狀蓋。該罩面層充當永久保護層。所述涂層也由光敏組合物制成。微透鏡陣列還可利用如EP0932256中所公開的模具或壓模來制造。一種制造平面孩吏透鏡陣列的方法如下將脫才莫劑涂布在壓才莫的成型表面(其上致密排列著凸出部分)上，并在壓模成型表面上固定具有高折光指數的可光固化合成樹脂材料。接著，將玻璃基板推到合成樹脂材料上，由此鋪開合成樹脂材料，通過用紫外線照射或通過加熱來固化該合成樹脂材料并成型以形成凸微透鏡。此后剝離壓模。然后，再將具有低折光指數的可光固化合成樹脂材料作為粘合層涂布到凸微透鏡上，并將制成玻璃蓋片的玻璃基底推到合成樹脂材料上，由此將其鋪開。隨后將合成樹脂材料固化并最終形成平面微透鏡陣列。如US5969867中所述，使用模具的類似方法適用于制造棱鏡片，其用作彩色液晶顯示板的背光裝置的一部分以提高亮度。將在一面上形成棱鏡列的棱鏡片安裝在背光燈的發光表面上。為了制造棱鏡片，將活性能量射線可固化組合物澆注并鋪在由金屬、玻璃或樹脂制成的透鏡模具中，并形成棱鏡列的透鏡形狀，等等，此后將透明基底片放在其上并將來自活性能量射線發射源的活性能量射線透it^l材照射以固化。然后將制成的透鏡片從透鏡模具中脫出而獲得透鏡片。用于形成透鏡部件的活性能量射線可固化組合物必須具有各種性能，包括與透明基底的粘附性、以及合適的光學特性。現有技術中的至少具有某些光致抗蝕劑的透鏡并不適合某些應用，因為在光i普藍色端中的光透射率差。因為本發明的可光固化組合物(在熱方式和光化學方式下都)具有低的黃化性，所以它們適用于制造如上所述的微透鏡陣列。所述新型輻射敏感組合物也適用于等離子顯示板(PDP)制造工藝中所用的光刻步驟，特別適用于隔墻(Barrierrib)、磷光體層和電極的成像工藝。PDP是利用氣體放電產生的發光來顯示圖像和信息的平面顯示器。關于面板的構造和操作方法，已知有兩種類型，即DC(直流)型和AC(交流)型。作為舉例來說，下面簡要解釋DC型彩色PDP的原理。在DC型彩色PDP中，介于兩個透明基底(通常為玻璃板)之間的空間用放置在透明基底間的格狀隔墻劃分成許多小的單元。各單元中密封著放電氣體，如He或Xe。在各單元的后壁上有磷光體層，其在通過由放電氣體的放電產生的紫外光'^U^時發出三原色可見光。在兩個基底的內側面上，將電極橫跨相關單元相對放置。一般而言，陰極由透明導電材料，如NESA玻璃的膜形成。如果在形成于前壁和后壁上的這些電極之間施加高壓，則密封在單元中的放電氣體會誘導等離子體放電，并利用因此發出的紫外光激勵紅色、藍色和綠色熒光元件發光并實現圖像顯示。在全色顯示系統中，具有三原色(紅色、藍色和綠色)的上述三種熒光元件結合形成一個〗象元。DC型PDP中的單元用格子狀組件隔墻劃分，而AC型PDP中的單元則用彼此平行排列在基底面上的隔墻劃分。在任一情況下，單元都用隔墻放電單元間的干擾和保證理想顯示。本發明的組合物也可用于制造用于圖象記錄或圖像復制(復印、翻印)的可以單色或多色的單層或多層材料。此外，這些材料適用于色彩打樣(proofiiig)體系。在該技術中，可以應用包含微嚢的制劑，且對于圖像產生，可以在輻射固化后進行熱處理。這些體系和技術及其應用例如公開于US5376459中。式I、II和III的化合物也適合作為全息數據存儲應用中的光引發劑。所述光引發劑在用適用于全息數據存儲的藍色激光輻射照射時產生自由基并引發單體聚合。藍色激光的波長范圍是390-420納米，優選400-410納99米，特別是405納米。全息存儲體系(全息記錄介質)例如用于以快速訪問時間記錄或找回大量數據。本發明的光引發劑例如特別適合如WO03/021358中所述的體系。全息數據存儲體系優選由低折光指lt&質前體和高折光指數可光聚合單體的基質網絡組成。可以選擇基質前體和光活性單體以致(a)使基質前體在固化過程中聚合的反應與光活性單體在圖案，例如數據寫入過程中聚合的反應無關，且(b)基質聚合物和由光活性單體的聚合產生的聚合物(光聚合物)彼此相容。在光記錄材料，即基質材料+光活性單體、光引發劑和/或添加劑表現出至少大約105Pa，通常大約10sPa至大約109Pa的彈性模量時，認為形成了基質。介質基質通過原位聚合形成，其在作為保持"溶解"和未反應的可光聚合單體存在下作為交聯網絡產生。含未反應的可光聚合單體的基質也可以通過其它方式形成，例如通過使用固體-樹脂基質材料，其中均勻分布著光反應性液體單體。然后，單色膝光產生全息圖案，其根據光強度分布使光反應性單體在固體預成型基質中聚合。未反應的單體(其中光強度處于最低水平)擴散透過基質，從而調制由單體與基質折光指數差異和單體的相對體積比例確定的折光指數。記錄層的厚度為數微米至高達l毫米的厚度。由于這種厚的全息數據存儲層，要求光引發劑兼具高的光反應性和低的吸光度，從而使該層在激光波長下透明以確保光聚合程度根據i^記錄層的曝光深度而盡可能低。據發現，本發明的光引發劑兼具高的反應性和在405納米下的低吸光度并適用于所述應用。也可向配方中加入染料和敏化劑。對于藍色激光輻射，合適的染料和敏化劑是例如香豆素類、卩占噸酮類、噻噸酮類，見上文所列。特別相關的是如上文的列表的項目1、2和3下所提到的噻噸酮類、香豆素類和二苯甲酮類。據發現，光引發劑能夠使單體如全息數據存儲所要求的在厚層中以高敏感度光聚合，并產生對藍色激光輻射敏感的記錄層。光引發劑在以2-8重量％的濃度施加在20微米厚的光敏層中時，使得包含光引發劑的該層的吸光度在激光波長下小于0.4，優選小于0.2。所述光引發劑特別適用于制備光學制品(例如光波導)或全息記錄介質，例如包含如上所述的聚合物和有機光引發劑，具有在340-450納米UV波長下的最大吸收，其中折光指數對比調節的敏感度大于3xl(r6An/(mJ/cm2)。例如，通過使包告-組分1和組分-2的材料聚合來形成聚合物，其中組分l包含NCO封端的預聚物，組分2包含多元醇。組分l是例如二苯基甲烷二異氰酸酯、甲苯二異氰酸酯、六亞曱基二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯的衍生物、亞甲基雙環己基異氰酸酯、亞甲基雙環己基異氰酸酯的衍生物。組分2是例如環氧丙烷的多元醇。優選地，光活性單體是丙烯酸酯單體。在這類介質中，寫入(writing)所引發的收縮率通常小于0.25%。光固化對印刷也十分重要，因為油墨的干燥時間對圖像產品的生產速率而言是一個關鍵因素，并且應該為在若干分之一秒(fractionsofseconds)的量級。UV可固化油墨對絲網印刷和膠印油墨特別重要。如上所述，所述新型混合物還非常適用于制造印刷板。該領域例如使用可溶線型聚酰胺或苯乙烯/丁二烯和/或苯乙烯/異戊二烯橡膠、含有g的聚丙烯酸酯或聚甲基丙烯酸甲酯、聚乙烯醇或聚氨酯丙烯酸酯與可光聚合單體，如丙烯酰胺和/或曱基丙烯酰胺、或丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯以及光引發劑的混合物。這些體系(濕或干)的薄膜和板在印刷原片的負片(或正片)之上曝光，隨后使用合適的溶劑或水溶液洗除未固化部分。使用光固化的另一領域是金屬的涂布，在這種情況下，例如，金屬板和管、罐或瓶蓋的涂布、以及聚合物涂料的光固化，例如基于PVC的地板或墻壁覆蓋物。紙涂層光固化的實例為標簽、檔案封套和書皮的無色清漆處理。同樣有利的是所述新型光引發劑用于固化由復合組合物制成的成型制品。該復合化合物由自支撐基質材料，例如玻璃纖維織物、或例如植物纖維參見K,誦P.Mieck，T.ReussmanninKunststoffe85(1995)，366-370j組成，它用光固化制劑浸漬。如果使用新型化合物來制造，則包含復合化合物的成型制品保持高的機械穩定性和耐受性。所述新型化合物還可用作如EP7086中所述的模塑、浸漬和涂料組合物中的光固化劑。這些組合物的實例是在固化活性和抗黃化性方面被嚴格要求的凝膠涂料樹脂、以及纖維強化的模制品，例如平面的或具有縱向或橫向波紋的光漫射板。制造這些模制品的技術，如手工絞合(lay-叩)、噴霧絞合、離心澆鑄或長絲巻繞，例如由P.H.Selden描述在"GlasfaserverstarkteKunststoffe"，第610頁中，SpringerVerlagBerlin-Heidelberg-NewYork1967。可由這些才支術制成的制品的實例是船、具有雙面玻璃纖維強化塑料涂層的纖維板或刨花板、管、容器等。模塑、浸漬和涂布組合物的其它實例是用于含玻璃纖維的模塑品(GPR)如波形片和紙層壓品的UP樹脂凝膠涂料。紙層壓品可基于脲樹脂或三聚氰胺樹脂。在制造層壓品之前，凝膠涂層在栽體(如薄膜)上制成。所述新型可光固化組合物也可用于澆鑄樹脂或用于包埋制品，例如電子元件等。根據本發明的組合物和化合物可用于制造全息照相、波導、光學開關，其中利用了照射和未照射區之間的折光指數的差異。將可光固化組合物用于成像技術和信息載體的光學制造也是重要的。在這些應用中，如上所述，將施加到載體上的(濕或千)層依圖像，例如透過光掩才莫，用UV或可見光照射，然后通過用顯影劑處理來移除該層的未曝光區。也可通過電沉積法將可光固化層施加到金屬上。曝光區因交聯而是聚合的，因此不可溶并留在載體上。合適的著色產生可見圖像。當載體為金屬化層時，金屬可在膝光和顯影后，在未曝光區中,皮蝕刻掉或通過電鍍來增強。如此可產生電子電路和光致抗蝕劑。當用在形成圖像的材料中時，所述新型光引發劑在產生所謂的印出圖像方面提供優異性能，從而由于輻射而引發顏色變化。為了形成這種印出圖像，使用不同的染料和/或其隱色形式，這種印出圖像體系的實例可見于例如W096/41240、EP706091、EP511403、US3579339和US46222286中。所述新型光《1發劑還適用于可光致圖案化的組合物，用于形成由順序累積法制成的多層電路板的介電層。如上所述，本發明提供了組合物，其用于制造著色和非著色的油漆和清漆、粉末涂料、印刷油墨、印刷板、粘合劑、壓敏粘合劑、牙科組合物、凝膠涂料、電子學用光致抗蝕劑，電鍍抗蝕劑、抗蝕刻劑，液體膜和干膜、阻焊劑，作為制造用于各種顯示應用的濾色片用的抗蝕劑，在等離子體顯示板的制造過程中產生結構(例如隔墻、磷光體層、電極)、在電致發光顯示器的制造過程中產生結構和在LCD的制造過程中產生結構(例如層間絕緣層、間隔物、樣i透鏡陣列)，用于全息數據存儲(HDS)、作為包封電氣和電子元件的組合物，用于制造磁記錄材料、微機械部件、波導、光學開關、電鍍掩模、蝕刻掩模、色彩打樣(colourproofmg)體系、玻璃纖維電纜涂料、絲網印刷模版、用于通過立體平版印刷技術產生三維物體，用作圖像記錄材料、用于全息記錄、孩i電子電路、脫色材料、圖像記錄材料用的脫色材料、用于使用賴t膠嚢的圖像記錄材料，作為形成印刷電路板的順序累積層中的介電層所用的光致抗蝕劑材料。用于照相信息記錄的基底包括，例如，聚酯膜、乙酸纖維素或聚合物涂布的紙；用于膠版印刷版的基底是專門處理過的鋁；用于制造印刷電路的基底是覆銅的層壓材料；而用于制造集成電路的基底是，例如硅晶片。用于照相材料和膠版印刷版的光敏層的層厚度通常為約0.5微米至10微米，而用于印刷電路的光敏層的層厚度為0.1微米至大約100微米。在基底涂布后除去溶劑，一般通過干燥除去，從而在基底上留下光致抗蝕劑涂層。基底的涂布可通過將液體組合物、溶液或懸浮液施加到基底上來進行。溶劑和濃度的選擇主要取決于組合物的種類和涂布技術。溶劑應該是惰性的，即它應該不會與各組分發生化學反應，且應該能夠在涂布之后在干燥過程中再次去除。合適的溶劑的實例是酮、醚和酯，如甲乙酮、異丁基甲基酮、環戊酮、環己酮、N-甲基吡咯烷酮、二噁烷、四氫呋喃、2-甲氧基乙醇、2-乙氧基乙醇、l-甲氧基-2-丙醇、1，2-二甲氧基乙烷、乙酸乙酯、乙酸正丁基酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙酸2-甲氧基丙基酯、3-曱氧基丙酸甲酯、2-庚酮、2-戊酮和乳酸乙酯。用已知的涂布技術，例如通過旋涂、浸涂、刮刀涂布、幕涂、刷涂、噴涂，尤其是通過靜電噴涂、和逆向輥涂布，還有電泳沉積，將溶液均勻施加到基底上。還可將光敏層施加到臨時的撓性載體上，然后通過層壓轉移該層，而涂布到最終基底(例如覆銅電路板或玻璃基底)上。涂布量(涂層厚度)以M底(層載體)的性質取決于所需的應用領域。涂層厚度范圍一般為約0.1微米至大于100微米，例如0.1微米至1厘米，優選0.5孩￡米至1000孩史米。在基底涂布后除去溶劑，通常通過干燥來除去，從而在基底上留下基本干燥的光致抗蝕劑的抗蝕膜。所述新型組合物的光敏性一般由約150納米延伸至600納米，例如190-600納米(UV-可見光區)。存在合適的輻射，例如是太陽光或來自人造光源的光。因此，可以采用許多明顯不同種類的光源。點源和陣列("燈毯")均適合。其實例為碳弧燈、氙弧燈、低-、中-、高-和超高壓汞燈，可能具有金屬囟化物摻雜物的燈(金屬-卣素燈)、微波激勵的金屬蒸氣燈、受激準分子燈、超光化熒光管、熒光燈、氬氣白熾燈、電子閃光燈、照相泛光燈、發光二極管(LED)、電子束和X-射線。燈與要按照本發明曝光的基底之間的距離可才艮據預期應用以及燈的類型和輸出而變，并且可以是例如2厘米至150厘米。激光光源，例如受激準分子激光，如在157納米曝光的F2受激準分子激光、在248納米曝光的KrF受激準分子激光和在193納米曝光的ArF受激準分子激光也是合適的。也可使用在可見光區的激光。術語"依圖像(imagewise)"爆光包括通過具有預定圖案的光掩模，例如幻燈片、鉻掩模、模版掩模或中間掩模(reticle)進行膝光，和通過借助激光或光束進行曝光，激光或光束例如在計算機控制下在涂布基底的表面上移動并由此產生圖^(象。適合此用途的UV激光曝光系統例如由EtecandOrbotech提供(DP-10()TMDIRECTIMAGINGSYSTEM)。激光光源的其它實例是例如受激準分子激光，如在157納米曝光的F2受激準分子激光、在248納米曝光的KrF受激準分子激光、和在193納米啄光的ArF受激準分子激光。也合適的是固態UV激光(例如來自ManiaBarco的Gemini,來自PENTAX的DI-2050)和具有405納米輸出的紫外激光二極管(來自PENTAX的DI-2080、DI-PDP)。也可使用在可見光區的激光。也可以通過電子束實現計算機控制的輻射。也可使用由液晶制成的掩模，其可以一個像素接著一個像素進行尋址以產生數字圖像，例如A.Bertsch,J.Y.Jezequel,J.C.Andre在JournalofPhotochemistryandPhotobiologyA:Chemistry1997，107，第275-281頁和K.-P.Nicolay在OffsetPrinting1997,6，第34-37頁中所述。在材料依圖像曝光之后和在顯影之前，短時間熱處理可能是有利的。顯影之后，可進行后熱烘烤以硬化該組合物并除去所有痕量溶劑。所用的溫度一般為50-250°C，優選80-220°C;熱處理的持續時間一般為0.25至60分鐘。可光固化的組合物還可用在如DE4013358中所述的制造印刷板或光致抗蝕劑的方法中。在這類方法中，在依圖^象輻射之前、同時或之后，在無掩模的情況下，該組合物在波長至少400納米的可見光下短時間啄光。在曝光之后和在熱處理(如果實施熱處理)之后，根據本身已知的方式，用顯影劑去除光敏涂層的未膝光區域。如上所述，所述新型組合物可用含7jC喊或有機溶劑顯影。特別合適的含水堿性顯影劑溶液為四烷基氫氧化銨或堿金屬硅酸鹽、磷酸鹽、氬氧化物和碳酸鹽的水溶液。如果需要，也可向這些溶液中加入少量潤濕劑和/或有機溶劑。可少量加入顯影液中的典型有機溶劑的實例為環己酮、2-乙氧基乙醇、甲苯、丙酮、和這些溶劑的混合物。根據基底，也可使用溶劑，如有機溶劑作為顯影劑，或如前所述使用含水堿與這些溶劑的混合物。特別可用于溶劑顯影的溶劑包括甲醇、乙醇、2-丙醇、l-丙醇、丁醇、雙丙酮醇、乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單正丁基醚、二甘醇二甲醚、丙二醇單甲基醚乙酸酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-曱氧基丙酸甲酯、乙酸正丁酯、千醇、丙酮、甲乙酮、環戊酮、環己酮、2-庚酮、2-戊酮、s-己內酯、，丁內酯、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、六甲基磷酰胺、乳酸乙酯、乳酸甲酯、s-己內酰胺和N-甲基吡咯烷酮。任選地，可以在這些溶劑中加入水，加入的量只要仍能獲得透明溶液并保持光敏組合物的未曝光區域的足夠溶解度即可。因此，本發明還提供了用于含有烯屬不飽和雙鍵的化合物，即含有至少一個烯屬不飽和雙鍵的單體型、低聚或聚合的化合物的光聚合的方法，包括用150-600nm的電磁輻射，或用電子束，或用X-射線照射上述組合物。換言之，向這些含烯屬不飽和雙鍵的化合物中添加至少一種上述式I、II或III的光引發劑并用電磁輻射，特別是150-600nm，特別是190-600nm的光，或用電子束，或用X-射線照射所得的組合物。本發明還提供在至少一個表面上用上述組合物涂布的涂布基底，并描述了浮雕圖像的照相制造方法，其中將涂布基底依圖像曝光，然后用顯影劑除去未曝光部分。依圖像曝光可如上所述通過透過掩模照射或借助激光或電子束進行。在本文中特別有利的是如上所述的激光束曝光。本發明的化合物具有良好的熱穩定性和低揮發性，并且也適合用于空氣(氧)存在下的光聚合。此外，它們在光聚合后的組合物中僅造成低的黃化。下列實施例更詳細例證本發明。除非另行指明，份數和百分比如說明書其余部分和權利要求中那樣按重量計。當在下列實施例中提到具有多于三個碳原子的烷基而沒有提到具體異構體時，在每種情況下都是指正異構體。實施例1:合成<formula>formulaseeoriginaldocumentpage106</formula>Ml-(4-吵唑-9-基-苯基)-乙酮向在二甲亞砜(DMSO)(50mLmL)中的呻唑(5.02g)中加入4-氟苯乙酮(3.45g)和K2CO3(10.4g)，并將混合物在135。C下攪拌過夜。將該混合物倒入水中以提供沉淀物，將其過濾分離并用水洗滌。由此獲得的粗產物通過從叔丁基甲基醚(TBME)中重結晶來進一步提純，得到淺棕色固體產物。通過^-NMR鐠(CDCl3)證明結構。S[ppm〗2.71(s，3H)，7.32(ddd，2H)，7.41-7.50(m，4H)，7.72(d，2H)，8.15(d，2H)，8.21(d，2H)。l.b.(E)-l-9-(4-乙酰基-苯基)-6-(瘞吩-2畫羰基)-呻唑畫3-基]-丁畫2-烯-l曙酮在0。C下向在CH2C12(1200mL)中的1-(4-呻唑-9-基-苯基)-乙酮(30.0g)中添加噻吩羰基氯(15.4g)和A1C13(28.4g)。在室溫下攪拌一整夜之后，在0。C下進一步添加巴豆酰氯(11.3g)和A1C13(15.5g)并在室溫下攪拌該混合物一整夜。將反應混合物倒入冰水中，并用CH2C12萃取粗產物兩次。用H20和鹽水洗滌合并的有機層，經MgS04干燥，并濃縮而獲得殘余物，通過用熱乙酸乙酯洗滌進行純化。通過1H-NMR鐠(CDCl3)證明以白色固體獲得的該產物的結構。S[ppm]:2,06(d，3H)，2.73(s，3H)，7.13-7.17(m，2H)，7.24(t，lH)，7.48(d，lH)，7.51(d，lH),7.71-7.78(m，4H)，8.07(d，lH)，8.13(d，lH)，8.27(d，2H)，8.79(s，lH)，8.82(s，lH)。l.c.N-乙酰氧基-N-(3-[9-(4-(l-乙酰氧基亞氨乙基)-苯基卜6-(2-噻吩羰基)-啼唑-3-基-l-甲基-3-氧代-丙基}-乙酰胺該化合物通過WO2005-080337Al中公開的類似程序用根據實施例l.b.獲得的化合物和相應的試劑合成。通過^-NMR鐠(CDCl3)證明以微黃色固體獲得的該產物的結構。5[ppm]:1.36(bd，3H)，1,卯-2,20(bs，3H)，2，26(s，3H)，2.32(s，3H)，2.52(s，3H)，3.24(bs，lH)，3.59(dd，lH)，5.11(bs,lH)，7.24(dd，lH)，7.44(d，lH)，7.48(d，lH)，7.65(d，2H)，7.75-7.79(m,2H)，8.02-8.10(m，3H)，8.13(d，lH)，8.81(s，lH)，8.84(s,lH)。實施例2:合成107根據WO2005-080337A1中公開的程序用l-(4-呻唑-9-基-苯基)-乙酮和相應的試劑合成該化合物。實施例3:合成3.a.[[9-乙基-6-(2-甲基-苯甲酰基)-^"唑-3-基H4-氟-苯基)-甲酮在0。C下向在CH2C12(200mL)中的N-乙基啼唑(8.0g)中添加4-氟苯甲酰氯(6.5g)和AlCb(5.6g)。在室溫下攪拌一整夜之后，在0。C下進一步添加2-甲苯酰氯(6.5g)和A1C13(6.0g)并在室溫下攪拌該混合物一整夜。將反應混合物倒入水水中，并用CH2Ch萃WS"產物兩次。用1120和鹽水洗滌合并的有機層，經MgS04干燥，并濃縮而獲得殘余物，在沒有進一步純化的情況下將它用于下一步。通過^-NMR譜(CDCl3)證明以米色固體獲得的該產物的結構。S[ppm]:1.52(t，3H)，2.35(s，3H)，4.46(q,2H)，7.20(t，2H)，7.27-7.46(m,4H),7.50(t，2H)，7.86(d，lH)，7.88(d，lH)，8.02(d，lH)，8.07(d，lH)，8.54(s，lH),8.55(s，lH)。3.b.(4-吵唑-9_基-苯基)-[9-乙基-6-(2-甲基-苯甲酰基)-呻唑-3_基]-甲酮向在NMP(IOOmL)中的畔唑(13.7g)中添加實施例3.a中獲得的化合物(17.8g)和K2CO3(17.0g)，并在150。C下攪拌該混合物2天。將反應混合物倒入水水中，然后用HC1中和而獲得中性pH值。用CH2Cl2從該混合物萃取粗產物兩次。用H20和鹽水洗滌合并的有機層，經MgS04干燥，并108濃縮而獲得殘余物，通過從乙酸乙酯重結晶進行純化。通過，H-NMR鐠(CDCl3)證明以白色固體獲得的該產物的結構。5[ppm]:1.53(t，3H)，2.36(s，3H)，4.48(q，2H)，7.28-7.51(m，9H)，7.54-7.59(R!，3H)，7.76(d，2H)，8.06-8.18(m，6H)，8.63(s，lH)，8.69(s，lH)。^(E)-l-(9-(4-[9-乙基-6-(2-甲基-苯甲酰基)-呻唑-3-絲-苯基}-咔唑-3-基)-丁-2-烯-1-酮在0。C下向在CH2C12(200mL)中的實施例3.b.所得的化合物(13.9g)中添加巴豆酰氯(2.5g)和A1C13(9.6g)并在室溫下攪拌該混合物一整夜。將反應混合物倒入水水中，并用CH2Cl2萃取粗產物兩次。用HzO和鹽水洗滌合并的有機層，經MgS04干燥，并濃縮而獲得殘余物，在沒有進一步純化的情況下將它用于下一步。通過'H-NMR語(CDCl3)證明以米色固體獲得的該產物的結構。S[ppm]:1.54(t，3H)，2.07(d，3H)，2.36(s，3H)，4.48(q，2H),7.15-7,18(m，2H)，7.28-7.59(m，10H)，7.75(d，2H)，8.06(d，lH)，8.10-8.18(m，4H)，8.24(d，lH)，8.64(s，lH)，8.69(s，lH)，8.82(s,lH)。根據WO2005-080337A1中7>開的程序用實施例3.c.的化合物和相應的試劑合成實施例3的化合物。通過"H-NMR鐠(CDCl3)證明以微黃色固體獲得的該產物的結構。5[ppm]:1.24(d，3H)，1.53(t，3H)，1.91(bs，3H)，2.26(s，3H)，2.35(s，3H)，2.36(s，3H)，3.38(m，2H)，4.48(q，2H),4.97(bs，lH)，7.26-7.60(m，10H)，7.75(d，2H)，7.93(d，lH)，8.03-8.17(m,4H)，8.24(d，lH)，8.64(s，2H)，8.69(s，lH)。實施例4:合成<formula>formulaseeoriginaldocumentpage109</formula>該化合物根據買施例3和WO2005-080337A1中7>開的程序用相應的試劑合成。實施例5:合成該化合物根據實施例3中公開的程序用相應的試劑合成,實施例6:合成<formula>formulaseeoriginaldocumentpage110</formula>該化合物才艮據WO2005-080337A1和WO2006-018405A1中/>開的程序用相應的試劑合成。實施例7:合成(4-咔唑-9-基-苯基)-苯基-甲酮如實施例l.a所述用4-氟二苯甲酮代替4-氟苯乙酮合成化合物7.a。通過'H-NMR譜(CDCl3)證明結構。S[ppm]:7.32(t，2H)，7.44(t,2H)，7.51-7.57(m，4H)，7.64(t，lH)，7.72(d，2H)，7.90(d，2H)，8.07(d，2H)，8.15(d，2H)。7.bl-[9-(4畫苯甲酰基畫苯基)畫9H-呻唑隱3-基I-4-氯-丁國l誦酮如實施例l.b所述用7.a和4-氯丁酰氯在氯化鋁存在下合成化合物7.b。通過JH畫NMR鐠(CDCl3)證明結構。S[ppm]:2.32(quint，2H)，3.35(t，2H),3.75(t，2H)，7.40(m，lH)，7.50-7.59(m，5H)，7.66(t，lH)，7.73(d，2H)，7.92(d，2H)，8.09-8.14(m，3H)，8.23(d，lH)，8.83(s，lH)。l-[9-(4-苯甲酰基-苯基)-9H-呻唑-3-基]-4-(苯并噻唑-2-l^lL烷基)-丁-l-酮如實施例l.a所述用7.b和2-巰基苯并噻唑在碳酸鉀存在下合成化合物7.c。通過'H-NMRi普(CDCl3)證明結構。5[ppm〗:2.40(quint，2H)，3.37(t，2H)，3.55(t，2H)，7.34畫7.42(m，2H)，7.46-7.59(m，6H)，7.64-7.75(m，4H),7.81(d，lH)，7.92(d,2H)，8.08-8.13(m，3H)，8.18(d,lH)，8.79(s，lH)。l-[9-(4-苯甲酰基-苯基)-911-呻唑-3-基-4-(苯并噻唑-2-基硫烷基)-丁-l-酮將O-乙酸酯才艮據實施例l.c中的程序將酮7.c轉化成相應的肟乙酸酯7.d。通過'H畫NMRi普(CDCl3)證明結構。5[ppm]:2.24(quint，2H)，2.28(s，3H)，3.22(t，2H)，3.47(t，2H),7.32-7.39(m，2H)，7.45-7.59(m，6H)，7爭64畫7.73(m，4H)，7.80(d，lH)，7.85(d，lH)，7.92(d，2H)，8.08(d，2H)，8.15(d，lH)，8.55(s，lH)。實施例8:合成:—C=N—0—C—CH.o該化合物才艮據實施例7和WO2005-080337A1中/>開的程序用相應的試劑合成。實施例9:合成o=co=c111該化合物根據實施例6和實施例7中公開的程序用相應的試劑合成。實施例10:合成該化合物4艮據實施例4和JP2005-54012A中乂^開的程序用相應的試劑合成。實施例11:聚(甲基丙烯酸芐酯-共-甲基丙烯酸)的制備將24g甲基丙烯酸芐酯、6g甲基丙烯酸和0.525g偶氮雙異丁腈(AIBN)溶解在卯ml丙二醇l-單曱醚2-乙酸酯(PGMEA)中。將所得反應混合物置于80。C的預熱油浴中。在80。C下在氮氣下攪拌5小時后，將所得粘性溶液冷卻至室溫且在沒有進一步純化的情況下使用。固含量為大約25%。實施例12:敏感性試驗通過混合下列組分制備用于敏感性試驗的可光固化組合物200.0重量份曱基丙烯酸千酯與曱基丙烯酸的共聚物(甲基丙烯酸節酯:甲50.0重量份二季戊四醇六丙烯酸酯((DPHA)，由UCBChemicals提供)0.1重量份光引發劑，和150.0重量份PGMEA基丙烯酸-80:20，按重量計)，25%丙二醇l-單甲醚2-乙酸酯(PGMEA)溶液，在上面的實施例中制備112所有操作均在黃光下進行。使用具有繞線棒的電涂施器將組合物施涂到鋁板上。通過在對流烘箱中在100。C下加熱2分鐘來除去溶劑。干膜的厚度為大約2微米。將帶有不同光密度的21階標準化試驗負片(negativefilm)(Stouffer階躍式光楔(stepwedge))以大約100微米空氣間隙置于所述膜與抗蝕層之間。使用250W超高壓汞燈(USHIO，USH-250BY)以15厘米距離進行曝光。在試驗負片上通過光功率計(具有UV-35檢測器的ORCUVLightMeasureModelUV-M02)測得的總啄光劑量為250mJ/cm2。在曝光后，使用噴霧型顯影劑(AD-1200，TakizawaSangyo)將曝光的膜用堿性溶液(DL-A4的5%水溶液，YokohamaYushi)在28。C下顯影100秒。所用引發劑體系的敏感性通過指出顯影后保留(即聚合)的最高階數來表征。階數越高，受試體系越敏感。結果列在下表l中。表l光引發劑最高階數實施例17實施例13黑矩陣抗蝕劑中的敏感性試驗20.0重量份REGAL400R(炭黑，由CABOT提供)20.0重量份EFKA4046(^ft劑，由Ciba提供)93.3重量份PGMEA通過混合上述組分并通過使用Paint調節器(SKANDEX)將它們分散1.5小時制備黑色M體。通過Paint調節器將上面實施例中描述的粘結劑聚合物溶液(48.0重量份)與該^ft體混合并進一步添加DPHA(7.0重量份，二季戊四醇六丙烯酸酯，由UCBChemicals提供)和PGMEA(46.7重量份)。將待試驗的光^1發劑添加到這種抗蝕劑組合物中。利用旋涂機將如此制備的黑矩陣抗蝕劑施涂在玻璃基底上。在80。C下干燥該涂布基底10min。干膜的厚度是大約1.1微米。將帶有不同光密度的9階標準化試驗負掩模(EIAGRAYSCALE,EDMUNDSCIENTIFIC)置于抗蝕層上。使用250W超高壓汞燈(USHIO，USH-250BY)以15厘米距離進行曝光。在該試驗負掩才莫上113通過光功率計(具有UV-35檢測器的ORCUVLightMeasureModelUV-M02)測得的總曝光劑量為300mJ/cm2。在曝光后，使用噴霧型顯影劑(AD-1200,TakizawaSangyo)將膝光的膜用堿性溶液(DL-A4的5%水溶液，YokohamaYushi)在28。C下顯影。光引發劑的敏感性通過指出顯影后保留(即聚合)的最高階數來表征。階數越高，受試光引發劑越敏感。結果列在下表2中。表2:<table>tableseeoriginaldocumentpage114</column></row><table>權利要求1.式I、II或III的化合物id="icf0002"file="A2008800156750002C2.tif"wi="85"he="35"top="96"left="28"img-content="drawing"img-format="tif"orientation="portrait"inline="yes"/>其中R1為氫，(CO)R″2，C1-C20烷氧基羰基，苯基-C1-C4烷基，任選被一個或多個鹵素、COOR11或CONR12R13取代的C1-C20烷基；或R1為被O、CO或NR14插入的C2-C20烷基；或為任選被O、CO或NR14插入的C2-C12烯基，或為C4-C8環烯基或C2-C12炔基；或R1為苯甲酰基、萘甲酰基、苯氧基羰基或萘氧基羰基；或為各自被一個或多個如下基團取代的苯甲酰基、萘甲酰基、苯氧基羰基或萘氧基羰基C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、SR10、OR11、NR12R13、鹵素、苯基、COOR11、CONR12R13、CN、NO2、或任選被O、CO或NR14插入的C3-C10環烷基；或R1為任選被O、CO或NR14插入的C3-C10環烷基，或為任選被O、CO或NR14插入的C3-C10環烷基羰基，或為任選被O、CO或NR14插入的C3-C10環烷基氧基羰基；或R1為未取代的苯基或萘基，或為被一個或多個C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、SR10、OR11、NR12R13、鹵素、苯基、COOR11、CONR12R13、CN、NO2或被任選被O、CO或NR14插入的C3-C10環烷基取代的苯基或萘基；R2和R′2彼此獨立地為氫、C1-C20烷基，該C1-C20烷基任選含有一個或多個C-C多重鍵；任選被O、CO或NR14插入的C3-C10環烷基，并且該未被插入或被插入的C3-C10環烷基任選地含有一個或多個C-C多重鍵；或R2和R′2為被一個或多個鹵素、OR11、COOR11、NR12R13、C1-C20雜芳基、C1-C20雜芳基-(CO)O、C1-C20雜芳基-S、CONR12R13、id="icf0003"file="A2008800156750003C1.tif"wi="18"he="9"top="76"left="164"img-content="drawing"img-format="tif"orientation="portrait"inline="yes"/>苯基或被SR10、OR11或NR12R13取代的苯基所取代的C1-C20烷基，該取代的C1-C20烷基任選含有一個或多個C-C多重鍵；或R2和R′2為被一個或多個O插入和/或任選被一個或多個如下基團取代的C2-C20烷基鹵素、OR11、COOR11、NR12R13、C1-C20雜芳基、C1-C20雜芳基-(CO)O、C1-C20雜芳基-S、CONR12R13、id="icf0004"file="A2008800156750003C2.tif"wi="18"he="9"top="121"left="146"img-content="drawing"img-format="tif"orientation="portrait"inline="yes"/>苯基或被SR10、OR11或NR12R13取代的苯基；該被插入的C2-C20烷基任選含有C-C多重鍵；或R2和R′2為未取代的苯基、萘基或C1-C20雜芳基；或為被一個或多個如下基團取代的苯基、萘基或C1-C20雜芳基C1-C12烷基、C2-C12烯基、C2-C12炔基、苯基、鹵素、CN、NO2、SR10、OR11、NR12R13，或任選被O、CO或NR14插入的C3-C10環烷基；或R2和R′2是C2-C20烷酰基、或未取代或被一個或多個C1-C6烷基、苯基、SR10、OR11或NR12R13取代的苯甲酰基；或R2和R′2為任選被一個或多個O插入和/或任選被一個或多個OH取代的C2-C12烷氧基羰基；或R2和R′2為未取代的或被一個或多個C1-C6烷基、鹵素、苯基、SR10、OR11或NR12R13取代的苯氧基羰基；或R2和R′2是NR12R13或id="icf0005"file="A2008800156750003C3.tif"wi="31"he="17"top="232"left="89"img-content="drawing"img-format="tif"orientation="portrait"inline="yes"/>或R2和R′2與同基團id="icf0006"file="A2008800156750004C1.tif"wi="29"he="9"top="29"left="80"img-content="drawing"img-format="tif"orientation="portrait"inline="yes"/>或(CO)R′2連接的苯基或萘基環的C原子之一形成環，其中所述形成的環是未取代或取代的；R″2具有對R2和R′2給出的含義之一或為id="icf0007"file="A2008800156750004C2.tif"wi="40"he="27"top="50"left="125"img-content="drawing"img-format="tif"orientation="portrait"inline="yes"/>R″′2具有對R2和R′2給出的含義之一或為id="icf0008"file="A2008800156750004C3.tif"wi="33"he="25"top="79"left="145"img-content="drawing"img-format="tif"orientation="portrait"inline="yes"/>或R3、R4和R5彼此獨立地為氫，鹵素，id="icf0010"file="A2008800156750004C5.tif"wi="19"he="10"top="127"left="119"img-content="drawing"img-format="tif"orientation="portrait"inline="yes"/>C1-C20烷基，被O、CO或NR14插入的C2-C20烷基，或為任選被O、CO或NR14插入的C2-C12烯基，或為C4-C8環烯基，C2-C12炔基，苯基-C1-C4烷基，CN，NO2或任選被O、CO或NR14插入的C3-C10環烷基；或R3、R4和R5為未取代的或被一個或多個C1-C20烷基、鹵素、CN、SR10、OR11或NR12R13取代的苯基；或R3、R4和R5為(CO)R′2、SR10、OR11、SOR10、SO2R10或NR12R13，其中取代基(CO)R′2、OR11、SR10和NR12R13任選通過基團R10、R11、R12R13和/或R′2與苯基環上的其它取代基或與苯基環的碳原子之一形成5-或6-元環；條件是(i)R3、R4或R5中的至少一個不是氫或C1-C20烷基；和(ii)如果在苯基環對位的R3、R4或R5中的一個為SR10，那么R10不是未取代的苯基；和(iii)如果在苯基環對位的R3、R4或R5中的一個為NR12R13，那么R12和R13不同時是C1-C20烷基；和(iv)如果在苯基環對位的R3、R4或R5中的一個為NR12R13且R12和R13與和它們連接的N原子一起形成環，則所述環不是嗎啉環；和(v)如果R3為氫，R4為氫或在苯基環鄰位的C1-C20烷基而且R5為在苯基環對位的OR11，那么R11不是C3-C10環烷基或被O插入的C3-C10環烷基；R6、R7、R8、R′6、R′7、R′8、R″6、R″7、R″′6和R″′7彼此獨立地具有對R3、R4和R5給出的含義之一；或式II中的R″6和R″7一起為C1-C6亞烷基或C2-C6亞烯基從而與和它們連接的苯基一起形成雙環，其中所述雙環任選被一個或多個C1-C20烷基，或被O、CO或NR14插入的C2-C20烷基取代，或所述雙環任選被C1-C4鹵代烷基，SR10，OR11，NR12R13，鹵素，苯基，COOR11，CONR12R13，CN，NO2或任選被O、CO或NR14插入的C3-C10環烷基取代，條件是基團id="icf0011"file="A2008800156750005C1.tif"wi="28"he="8"top="135"left="24"img-content="drawing"img-format="tif"orientation="portrait"inline="yes"/>與任一環連接；或式III中的R″′6和R″′7一起為C2-C6亞烷基或C2-C6亞烯基從而與和它們連接的苯基一起形成雙環，其中所述雙環任選被一個或多個C1-C20烷基，被O、CO或NR14插入的C2-C20烷基取代，或所述雙環任選被C1-C4鹵代烷基，SR10，OR11，NR12R13，鹵素，苯基，COOR11，CONR12R13，CN，NO2或任選被O、CO或NR14插入的C3-C10環烷基取代；條件是一個或多個基團(CO)R″′2與任一環連接；R9為氫，C3-C8環烷基，C2-C5烯基，C1-C20烷氧基，未取代的C1-C20烷基或被一個或多個鹵素、苯基、C1-C20烷基苯基和/或CN取代的C1-C20烷基；或R9為苯基或萘基，兩者是未取代的或被一個或多個C1-C6烷基、鹵素、CN、OR11、SR10和/或NR12R13取代；或R9為芐氧基或苯氧基，兩者是未取代的或被一個或多個C1-C6烷基和/或鹵素取代；R10為氫，C1-C20烷基，C3-C12烯基，任選被O、CO或NR14插入的C3-C10環烷基，或R10為苯基-C1-C4烷基或為被OH、SH、CN、C3-C6烯氧基、C1-C20雜芳基、C1-C20雜芳基-(CO)O、C1-C20雜芳基-S、id="icf0012"file="A2008800156750006C1.tif"wi="19"he="9"top="39"left="168"img-content="drawing"img-format="tif"orientation="portrait"inline="yes"/>-OCH2CH2CN、-OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、-O(CO)-(C1-C4烷基)、-O(CO)-苯基、-(CO)OH或-(CO)O(C1-C4烷基)取代的C1-C20烷基；或R10為被一個或多個O或S插入的C2-C20烷基；或R10為-(CH2CH2O)nH，-(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)，C2-C8烷酰基，苯甲酰基，C3-C12烯基或C3-C6烯酰基；或R10為苯基、萘基或C1-C20雜芳基，各自為未取代的或被一個或多個鹵素、C1-C12烷基、C1-C12烷氧基、苯基-C1-C3烷氧基、苯氧基、C1-C12烷基硫烷基、苯基硫烷基、-N(C1-C12烷基)2、二苯基氨基、-(CO)O(C1-C8烷基)或(CO)N(C1-C8烷基)2取代；或R10為苯基、萘基或C1-C20雜芳基且經由直接鍵、C1-C4亞烷基、O、S、NR14或CO和與SR10相連的苯基環一起形成5-或6-元環，其中所述苯基或萘基為未取代的或被一個或多個C1-C20烷基、被O、CO或NR14插入的C2-C20烷基取代，或被任選被O、CO或NR14插入的C3-C10環烷基取代，或被鹵素、C1-C20烷氧基、C1-C20烷基羰基或苯基羰基取代；n是1-12的整數；R11為氫、任選被一個或多個鹵素取代的C1-C20烷基；或R11為-(CH2CH2O)nH、-(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C1-C8烷酰基、C3-C12烯基、C3-C6烯酰基、苯基-C1-C4烷基；或為被一個或多個O插入的C2-C20烷基；或為任選被O、CO或NR14插入的C3-C10環烷基；或R11為被如下基團取代的C1-C20烷基OH、SH、CN、C3-C6烯氧基、C1-C20雜芳基、C1-C20雜芳基-(CO)O、C1-C20雜芳基-S、-OCH2CH2CN、-OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、id="icf0013"file="A2008800156750006C2.tif"wi="19"he="9"top="235"left="93"img-content="drawing"img-format="tif"orientation="portrait"inline="yes"/>-O(CO)-(C1-C4烷基)、-O(CO)-苯基、-(CO)OH或-(CO)O(C1-C4烷基)；或R11為未取代的或被一個或多個C1-C6烷基、鹵素、OH或C1-C4烷氧基取代的苯甲酰基；或R11為苯基、萘基或C1-C20雜芳基，各自為未取代的或被一個或多個鹵素、OH、C1-C12烷基、C3-C10環烷基或C1-C12烷氧基取代；R12和R13彼此獨立地為氫，C1-C20烷基，被O、CO或NR14插入的C2-C20烷基，或為C2-C4羥烷基、C1-C12烷氧基、苯基-C1-C4烷基、(CO)R15、C2-C10烷氧基烷基、C3-C5烯基或任選被O、CO或NR14插入的C3-C10環烷基；或R12和R13為苯基或萘基，各自是未取代的或被一個或多個C1-C20烷氧基，(CO)R15，苯基，NR16R17，SR10，OR11，C1-C20烷基，被由O、CO或NR14插入的C2-C20烷基取代或被任選被O、CO或NR14插入的C3-C10環烷基取代；或R12和R13彼此獨立地為C2-C5亞烷基或C2-C5亞烯基，其連接到與NR12R13相連的苯基或萘基環的C原子之一上，其中所述C2-C5亞烷基或C2-C5亞烯基任選被O、CO或NR14插入；或R12和R13彼此獨立地為苯基，其經由直接鍵連接到NR12R13位于其上的苯基環上；或R12和R13和與它們相連的N-原子一起形成5-或6-元的飽和或不飽和環，其任選被O、N或NR14插入，且該環是未取代的或被一個或多個C1-C20烷基、C1-C20烷氧基、＝O、SR10、OR11、NR16R17、(CO)R15、NO2、CN、苯基取代，或被任選被O、CO或NR14插入的C3-C10環烷基取代；或R12和R13和與它們相連的N-原子一起形成雜芳環體系，該雜芳環體系為未取代的或被一個或多個C1-C20烷基、C1-C20烷氧基、＝O、SR10、OR11、NR16R17、(CO)R15、NO2、CN、苯基取代，或被任選被O、CO或NR14插入的C3-C10環烷基取代；R14為氫、C1-C20烷基、C3-C8環烷基、苯基或(CO)R15；R15為氫，OH，C1-C20烷基，C1-C4鹵代烷基，被O、CO或NR14插入的C2-C20烷基，或為任選被O、CO或NR14插入的C3-C10環烷基，或為苯基-C1-C4烷基、SR10、OR11或NR12R13；或R15為苯基、萘基或C1-C20雜芳基，它們都是未取代的或被一個或多個SR10、OR11、NR12R13、id="icf0014"file="A2008800156750008C1.tif"wi="32"he="10"top="28"left="86"img-content="drawing"img-format="tif"orientation="portrait"inline="yes"/>CN、NO2、鹵素、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、被由O、CO或NR14插入的C2-C20烷基取代或被任選被O、CO或NR14插入的C3-C10環烷基取代；R16和R17彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、C3-C10環烷基或苯基；或R16和R17和與它們相連的N-原子一起形成5-或6-元的飽和或不飽和環，其任選被O、S或NR14插入；或R16和R17彼此獨立地為C2-C5亞烷基或C2-C5亞烯基，其連接到與NR16R17相連的苯基環或萘基環的C原子之一上，其中所述C2-C5亞烷基或C2-C5亞烯基任選被O、CO或NR15插入，并且任選在該C2-C5亞烷基或C2-C5亞烯基上稠合有苯環；R18，R19，R20，R′18，R′19和R′20彼此獨立地為氫，鹵素，id="icf0015"file="A2008800156750008C2.tif"wi="24"he="10"top="120"left="168"img-content="drawing"img-format="tif"orientation="portrait"inline="yes"/>C1-C20烷基，被O、CO或NR14插入的C2-C20烷基，或為任選被O、CO或NR14插入的C2-C12烯基，或為C4-C8環烯基，C2-C12炔基，苯基-C1-C4烷基，CN，NO2或任選被O、CO或NR14插入的C3-C10環烷基；或R18，R19，R20，R′18，R′19和R′20是未取代或被一個或多個C1-C20烷基、鹵素、CN、SR10、OR11或NR12R13取代的苯基；或R18，R19，R20，R′18，R′19和R′20是(CO)R′2、SR10、OR11、SOR10、SO2R10或NR12R13，其中取代基(CO)R′2、OR11、SR10和NR12R13任選通過基團R10、R11、R12R13和/或R′2與苯基環上的其它取代基或與苯基環的碳原子之一形成5-或6-元環；R″18和R″19彼此獨立地具有對R″6和R″7給出的含義之一；和R″′18和R″′19彼此獨立地具有對R″′6和R″′7給出的含義之一；R21是COOR11、CONR12R13或(CO)R9；或R21具有對R15給出的含義之一；R22是COOR11、CONR12R13或(CO)R9；或R22具有對R12和R13給出的含義之一；X是O、S、SO或SO2；X2是直接鍵、任選被O、CO或NR14插入的C1-C20亞烷基，并且該未被插入或被插入的C1-C20亞烷基是未取代的或被一個或多個如下基團取代鹵素、OR11、COOR11、NR12R13、C1-C20雜芳基、C1-C20雜芳基-(CO)O、C1-C20雜芳基-S、CONR12R13、id="icf0016"file="A2008800156750009C1.tif"wi="19"he="9"top="53"left="89"img-content="drawing"img-format="tif"orientation="portrait"inline="yes"/>苯基或被鹵素、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、SR10、OR11或NR12R13取代的苯基，并且該未取代或取代的、被插入或未被插入的C1-C20亞烷基任選地含有一個或多個C-C多重鍵；m是整數1或2；R23具有對R9給出的含義之一；R24是氫、C1-C20烷基；C2-C20烯基；任選被O、CO或NR14插入的C3-C10環烷基；或R24是C3-C10環烯基；被一個或多個鹵素、OR11、COOR11、NR12R13、C1-C20雜芳基、C1-C20雜芳基-(CO)O、C1-C20雜芳基-S、CONR12R13、id="icf0017"file="A2008800156750009C2.tif"wi="16"he="8"top="127"left="51"img-content="drawing"img-format="tif"orientation="portrait"inline="yes"/>或苯基取代的C1-C20烷基；或R24是被一個或多個O插入的和/或任選被一個或多個鹵素、OR11、COOR11、NR12R13、C1-C20雜芳基、C1-C20雜芳基-(CO)O、C1-C20雜芳基-S、CONR12R13、id="icf0018"file="A2008800156750009C3.tif"wi="16"he="8"top="157"left="61"img-content="drawing"img-format="tif"orientation="portrait"inline="yes"/>或苯基取代的C2-C20烷基；或R24是苯基、萘基或C1-C20雜芳基，它們都任選被一個或多個C1-C12烷基、苯基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、CN、NO2、SR10、OR11、NR12R13，或任選被O、CO或NR14插入的C3-C10環烷基取代；或R24是C2-C20烷酰基，或未取代或被一個或多個C1-C6烷基、鹵素、苯基、SR10、OR11或NR12R13取代的苯甲酰基；或R24是任選被一個或多個O插入和/或任選被一個或多個OH取代的C2-C12烷氧基羰基；或R24是未取代的或被一個或多個C1-C6烷基、C1-C4鹵代烷基、鹵素、苯基、SR10、OR11或NR12R13取代的苯氧基羰基；或R24是NR12R13；或R24與同基團id="icf0019"file="A2008800156750010C1.tif"wi="31"he="14"top="28"left="67"img-content="drawing"img-format="tif"orientation="portrait"inline="yes"/>連接的苯基或萘基環的C原子之一形成環，其中所述形成的環是未取代或取代的；或R24是id="icf0020"file="A2008800156750010C2.tif"wi="80"he="27"top="57"left="61"img-content="drawing"img-format="tif"orientation="portrait"inline="yes"/>條件是(a)以下基團中的至少一個是NR12R13或id="icf0021"file="A2008800156750010C3.tif"wi="36"he="18"top="103"left="114"img-content="drawing"img-format="tif"orientation="portrait"inline="yes"/>式I或III中的R2；式I中的R3、R4、R5、R6、R7、R′6或R′7的定義中的，或式II中的R6、R7、R8、R′6、R′7、R′8、R″6或R″7的定義中的，或式III中的R6、R7、R8、R′6、R′7、R″′6或R″′7的定義中的，或對式III中的R″′2或對式I、II或III中的基團R2或R′2中的R24提到的基團id="icf0022"file="A2008800156750010C4.tif"wi="24"he="11"top="167"left="35"img-content="drawing"img-format="tif"orientation="portrait"inline="yes"/>中的R18、R19、R20、R′18、R′19、R′20的定義中的基團(CO)R′2中的R′2；式II中的，或式I的R1中的基團(CO)R″2中的，或式I中的基團R1或R14或式II中的基團R12或R13或式III中的基團R12或R13中的R15中的基團id="icf0023"file="A2008800156750010C5.tif"wi="27"he="8"top="217"left="85"img-content="drawing"img-format="tif"orientation="portrait"inline="yes"/>中的R″2；或式III中的R″′2；或(b)以下基團中的至少一個與同相應的基團id="icf0024"file="A2008800156750010C6.tif"wi="69"he="10"top="238"left="121"img-content="drawing"img-format="tif"orientation="portrait"inline="yes"/>(CO)R′2或(CO)R″′2連接的苯基或萘基環的C原子之一形成環式I或III中的R2；式I中的R3、R4、R5、R6、R7、R′6或R′7的定義中的，或式II中的R6、R7、R8、R′6、R′7、R′8、R″6或R″7的定義中的，或式III中的R6、R7、R8、R′6、R′7、R″′6或R″′7的定義中的，或對式III中的R″′2或對式I、II或III中的基團R2或R′2中的R24提到的基團id="icf0025"file="A2008800156750011C1.tif"wi="24"he="11"top="55"left="33"img-content="drawing"img-format="tif"orientation="portrait"inline="yes"/>中的R18、R19、R20、R′18、R′19、R′20的定義中的基團(CO)R′2中的R′2；式II中的，或式I的R1中的基團(CO)R″2中的，或式I中的基團R1或R14或式II中的基團R12或R13或式III中的基團R12或R13中的R15中的基團id="icf0026"file="A2008800156750011C2.tif"wi="26"he="8"top="105"left="84"img-content="drawing"img-format="tif"orientation="portrait"inline="yes"/>中的R″2；或式III中的R″′2；或(c)以下基團中的至少一個含有一個或多個C-C多重鍵式I或III中的R2，式I中的R3、R4、R5、R6、R7、R′6或R′7的定義中的，或式II中的R6、R7、R8、R′6、R′7、R′8、R″6或R″7的定義中的，或式III中的R6、R7、R8、R′6、R′7、R″′6或R″′7的定義中的，或對式III中的R″′2或對式I、II或III中的基團R2或R′2中的R24提到的基團id="icf0027"file="A2008800156750011C3.tif"wi="24"he="12"top="178"left="34"img-content="drawing"img-format="tif"orientation="portrait"inline="yes"/>中的R18、R19、R20、R′18、R′19、R′20的定義中的基團(CO)R′2中的R′2；式II中的，或式I的R1中的基團(CO)R″2中的，或式I中的基團R1或R14或式II中的基團R12或R13或式III中的基團R12或R13中的R15中的基團id="icf0028"file="A2008800156750011C4.tif"wi="26"he="8"top="228"left="85"img-content="drawing"img-format="tif"orientation="portrait"inline="yes"/>中的R″′2；或式III中的R″′2；或(d)以下基團中的至少一個是被一個或多個C1-C20雜芳基、C1-C20雜芳基-(CO)O、C1-C20雜芳基-S或id="icf0029"file="A2008800156750011C5.tif"wi="16"he="8"top="257"left="87"img-content="drawing"img-format="tif"orientation="portrait"inline="yes"/>取代的C1-C20烷基式I或III中的R2；式I中的R3、R4、R5、R6、R7、R′6或R′7的定義中的，或式II中的R6、R7、R8、R′6、R′7、R′8、R″6或R″7的定義中的，或式III中的R6、R7、R8、R′6、R′7、R″′6或R″′7的定義中的，或對式III中的R″′2或對式I、II或III中的基團R2或R′2中的R24提到的基團id="icf0030"file="A2008800156750012C1.tif"wi="24"he="12"top="72"left="33"img-content="drawing"img-format="tif"orientation="portrait"inline="yes"/>中的R18、R19、R20、R′18、R′19、R′20的定義中的基團(CO)R′2中的R′2；式II中的，或式I的R1中的基團(CO)R″2中的，或式I中的基團R1或R14或式II中的基團R12或R13或式III中的基團R12或R13中的R15中的基團id="icf0031"file="A2008800156750012C2.tif"wi="26"he="8"top="122"left="84"img-content="drawing"img-format="tif"orientation="portrait"inline="yes"/>中的R″2；或式III中的R″′2或存在于式I、II或III任一個中的作為取代基的基團SR10、OR11或COOR11中的R10或R11；或(e)以下基團中至少一個是未取代或取代的C1-C20雜芳基式III中的R″′2或存在于式I、II或III任一個中的作為取代基的基團SR10、OR11或COOR11中的R10或R11。2.根據權利要求1的式I、II和III的化合物，其中Ri是C1-C20坑基SR2和R'2彼此獨立地是C廣C20烷基，該C廣C20烷基任選含有一個或多個C-C多重鍵；1_XR21或R2和R'2是被一個或多個COOR、C廣C2o雜芳基-S或R22取代的d-C2。烷基，或R2和R'2是未取代的苯基或d-C2o雜芳基；或被一個或多個CrC12烷基或SRm取代的苯基；或R2和R'2是；R2O或R2和R'2與同基團—i=N—Gl或(CO)R'2連接的苯基或萘基環的C原子之一形成環，其中所述形成的環是未取代或取代的；R"2具有對R2和R'2給出的含義之一；R，"2具有對R2和R，2給出的含義之一或為Rl;R3、Rt和Rs彼此獨立地為氬，或R3、R4和R5是(CO)R'2或NR12R13，R6、R7、R8、R'6、R，7、R'8、R"6、R"7、R，"6和R'"7彼此獨立地具有對R"R4和Rs給出的含義之一；Ru和Ru和與它們相連的N-原子一起形成雜芳環體系；Rl8、R19、R20、R'18、R'19和R'20是氛，或R,s、R19、R20、R'18、R、9和R'2o是未取代或被一個或多個d-C20烷基取代的苯基；R21是(CO)R"R22是(CO)R"X是O;X2是直驗；m是整數l;R23具有對R9給出的含義之一；和(b)作為光引發劑的至少一種如權利要求i所限定的式i、n或ni的化合物。3.4.根據權利要求3的可光聚合組合物，其除光引發劑(b)之外，還包含至少一種另外的光引發劑(c)和/或其它添加劑(d)。5.根據權利要求3-4中任一項的可光聚合組合物，包含光敏劑，特別是選自由二苯甲酮及其衍生物、噻噸酮及其衍生物、蒽醌及其衍生物或香豆素及其衍生物組成的組中的化合物，作為另外的添加劑(d)。6.根據權利要求3-5中任一項的可光聚合組合物，其中所述組分(a)是通過使環氧樹脂和不飽和一元羧酸的反應產物與飽和或不飽和多元酸酸酐反應獲得的樹脂。7.根據權利要求3-6中任一項的可光聚合組合物，還包含粘結劑聚合物(e)，特別是甲基丙烯酸酯與甲基丙烯酸的共聚物。8.根據權利要求3-7中任一項的可光聚合組合物，包含顏料或顏料的混合物作為另外的添加劑(d)。9.根據權利要求8的可光聚合組合物，包含M劑或分歉劑的混合物作為另外的添加劑(d)。10.根據權利要求3-9中任一項的可光聚合組合物，包含占組合物的0.005至25重量。/。的光引發劑(b),或光引發劑(b)和(c)。11.含有烯屬不飽和雙鍵的化合物的光聚合方法，該方法包括用150至600納米的電磁輻射，或用電子束或用X-射線照射根據權利要求3-10中任一項的組合物。12.制備如權利要求1所限定的式I、II或III的化合物的方法，包括:4吏式Ia、IIa或IIIa的將化合物<formula>formulaseeoriginaldocumentpage15</formula>其中R"R2，R'2，R"2，R"'2，R3，R4,R5，R6，R'6，R"6,R"VR7，R'7，R"7，R"'7，Rs和R'8如權利要求1中所限定，與式V或VI的酰卣或酸酐<formula>formulaseeoriginaldocumentpage15</formula>其中Hal代表鹵素原子且R9如權利要求1中所限定，在堿或堿>'昆合物存在下反應。13,根據權利要求3-10中任一項的組合物的用途，用于制造著色和非著色的油漆和清漆、粉末涂料、印刷油墨、印刷板、粘合劑、壓敏粘合劑、牙科組合物、凝膠涂料、電子學用光致抗蝕劑、電鍍抗蝕劑、抗蝕刻劑、液體膜和干膜、阻焊劑、制造用于各種顯示應用的濾色片用的抗蝕劑、在等離子體顯示板、電致發光顯示器和LCD的制造過程中產生結構用的抗蝕劑、LCD間隔物、用于全息數據存儲(HDS)、作為包封電氣和電子元件的組合物、用于制造磁記錄材料、樣t機械部件、波導、光學開關、電鍍掩模、蝕刻掩模、色彩打樣體系、玻璃纖維電纜涂料、絲網印刷模版、用于通過立體平版印刷技術產生三維物體、用作圖像記錄材料、用于全息記錄、微電子電路、脫色材料、圖像記錄材料用的脫色材料、用于使用微膠嚢的圖像記錄材料、作為UV和可見激光直接成像系統用的光致抗蝕劑材料、作為形成印刷電路板的順序累積層中的介電層所用的光致抗蝕劑材料。14.根據權利要求ll的方法，用于制造著色和非著色的油漆和清漆、粉末涂料、印刷油墨、印刷板、粘合劑、壓敏粘合劑、牙科組合物、凝膠涂料、電子學用光致抗蝕劑、電鍍抗蝕劑、抗蝕刻劑、液體膜和干膜、阻焊劑、制造用于各種顯示應用的濾色片用的抗蝕劑、在等離子體顯示板、電致發光顯示器和LCD的制造過程中產生結構用的抗蝕劑、LCD間隔物、用于全息數據存儲(HDS)、作為包封電氣和電子元件的組合物、用于制造磁記錄材料、撒:機械部件、波導、光學開關、電鍍掩模、蝕刻掩模、色彩打樣體系、玻璃纖維電纜涂料、絲網印刷模版、用于通過立體平版印刷技術產生三維物體、用作圖像記錄材料、用于全息記錄、微電子電路、脫色材料、圖像記錄材料用的脫色材料、用于使用微膠嚢的圖像記錄材料、作為UV和可見激光直接成像系統用的光致抗蝕劑材料、作為形成印刷電路板的順序累積層中的介電層所用的光致抗蝕劑材料。15.在至少一個表面上用根據權利要求3的組合物涂布的涂布基底。16.照相制造浮雕圖像的方法，其中使根據權利要求15的涂布基底依圖像曝光，然后用顯影劑除去未曝光的部分。17.濾色片，通過在透明基底上提供均包含光敏樹脂和顏料的紅色、而制成，其中所述光敏樹脂包含多官能丙烯酸酯單體、有機聚合物粘結劑和如權利要求3中所限定的式I、II或III的光聚合引發劑。18.式Ia、IIa和IIIa的化合物C=N—OH(Ia<formula>formulaseeoriginaldocumentpage16</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage17</formula>其中R!，R2，R，2，R"2,R"'2，R3,R4，R5，&，R'6，R"6，R，"6，R7，R'7，R"7，R'"7,Rs和R，s如權利要求l中所限定。全文摘要本發明涉及式(I)、(II)和(III)的化合物，其中R₁、R₂、R′₂和R″′₂為例如C₁-C₂₀烷基，條件是R₁、R₂、R′₂和R″′₂中至少一個帶有規定的取代基；R₃、R₄和R₅例如彼此獨立地為氫或限定的取代基，條件是R₃、R₄或R₅中至少一個不是氫或C₁-C₂₀烷基；R₆，R₇，R₈，R′₇，RV，R′₈，R″₆，R″₇，R″′₆和R″′₇例如彼此獨立地具有對于R₃、R₄和R₅給出的含義之一；R₉為例如C₁-C₂₀烷基，其在光聚合反應中顯示出非常好的性能。文檔編號C07D409/00GK101687794SQ200880015675公開日2010年3月31日申請日期2008年4月24日優先權日2007年5月11日發明者倉久敏,大和昌紀,松本亮,田邊純一申請人:巴斯夫歐洲公司