具有側甲硅烷基的含氟化合物的制作方法

專利名稱：：具有側甲硅烷基的含氟化合物的制作方法
技術領域：
：本發明涉及含氟硅垸化合物以及由其衍生的涂料組合物，所述化合物和組合物可用于處理基底、特別是具有諸如陶瓷或玻璃之類的硬質表面的基底，以使得它們防水、防油、抗污漬、抗污垢，并且可用于處理諸如光學透鏡之類的抗反射基底。
背景技術：
：雖然在本領域中已知許多氟化組合物可用于處理基底以使得它們防油和防水，但仍希望提供進一步改善的組合物來處理基底，特別是具有硬質表面的基底(例如陶瓷、玻璃和石料)，以使得它們防水、防油，并且易于清潔。還需要將玻璃和塑料作為硬質表面進行處理，特別是在光學領域中，以使得它們抗污漬、抗污垢并且抗粉塵。有利的是，此類組合物以及使用它們的方法能夠產生具有改進性能的涂層。具體地講，期望可以改善涂層的耐久性，包括改善涂層的耐磨性。此外，在使用較少的清潔劑、水或體力勞動的情況下提高這種基底的易清潔性，這不僅是最終用戶的愿望，而且還對環境具有正面的影響。另外，期望涂層顯示具有特別良好的耐化學性和耐溶劑性。組合物應當以容易和安全的方式便利地使用，并且和現有的制造方法相適合。優選的是，組合物很容易適應實施生產待處理基底的制造過程。
發明內容本發明提供了由化學式表示的含氟硅烷化合物8其中Rf為含氟基團；w為共價鍵、多價亞烷基或亞芳基或它們的組合，所述亞烷基任選地包含一個或多個鏈中氧或氮原子re為含硅垸的基，由氨基硅烷和丙烯酰基之間的邁克爾反應而生成；x和y各自獨立地為至少1,并且z為l或2。在一個方面，本發明涉及包含一種或多種化合物以及化合物的混合物的化學組合物，所述化合物具有至少一個含氟基團以及至少一個由氨基硅烷和丙烯酰基化合物(例如具有至少一個含氟基團的丙烯酸酯化的多元醇)之間的邁克爾反應的生成的含硅烷部分。除非另有說明，否則說明書和權利要求書中使用的下列術語具有如下給定含義"垸基"是指具有1至約12個碳原子的直鏈或支鏈、環狀或非環狀的飽和單價烴基，例如甲基、乙基、l-丙基、2-丙基、戊基等等。"丙烯酰"是指丙烯酸酯、硫丙烯酸酯或丙烯酰胺。"亞烷基"是指具有1至約12個碳原子的直鏈飽和二價烴基或具有3個至約12個碳原子的支鏈飽和二價烴基，例如亞甲基、亞乙基、亞丙基、2—甲基亞丙基、亞戊基、亞己基等等。"垸氧基"指具有末端氧原子的烷基，如CH3-0-、<:2115-0-等。"亞芳烷基"是指如上所定義的具有連接到亞烷基的芳基的亞垸基，例如芐基、l一萘乙基等等。"亞烷芳基"是指具有垸基連接的亞芳基。"亞芳基"是指多價芳族基，例如亞苯基、萘等。"固化的化學組合物"是指干燥的化學組合物，或從環境溫度或更高的溫度下將溶劑從化學組合物蒸發直至干燥。該組合物還可由于硅烷化合物間形成的硅氧垸鍵而交聯。"親核含氟化合物"是指具有一個或兩個親核官能團(例如羥基或胺基)，以及全氟垸基、全氟亞垸基、全氟氧烷基或全氟氧亞烷基的化合物，如CF9S02N(CH3)CH2CH2OH，C4F9CH2CH2OH,C2F50(C2F40)3CF2CONHC2H4OH,c-C6FCH2OH等等。"親電含氟化合物"是指具有一個或兩個親電官能團(例如酸基、酰鹵基或酯基)，以及全氟烷基、全氟亞垸基、全氟氧垸基或全氟氧亞垸基的化合物，如C4F9CH2CH2C02CH3,C4F9C02H，C2F50(C2F40)3CF2COCl,c-C6FuC02H等等。"硬質基底"是指保持其形狀的任何剛性材料，例如玻璃、陶瓷、混凝土、天然石頭、木材、金屬、塑料等等。"氧化烷氧基"基本上具有垸氧基的上述給定意思，不同的是一個或多個氧原子可存在于烷基鏈中并且所存在的碳原子總數可以多達50個，例如CH3CH2OCH2CH20-、C4H9OCH2CH2OCH2CH20-、CH30(CH2CH20)wooH等等。"氧化垸基"基本上具有烷基的上述給定意思，不同的是一個或多個氧雜原子可存在于垸基鏈中，這些雜原子通過至少一個碳原子彼此隔開，例如CH3CH2OCH2CH2-、CH3CH2OCH2CH2OCH(CH3)CH2-、C4F9CH2OCH2CH2-、等等。"氧化烯基"基本上具有亞垸基的上述給定意思，不同的是一個或多個氧雜原子可存在于亞垸基鏈中，這些雜原子通過至少一個碳原子彼此隔開，例如-CH2OCH20-、-CH2CH2OCH2CH2-、-CH2CH20CH2CH2CH2-等等。"鹵代"是指氟代、氯代、溴代或碘代，優選氟代和氯代。"全氟垸基"基本上具有"垸基"的上述給定意思，不同的是垸基的所有或基本上所有的氫原子被氟原子取代并且碳原子數為1至約12個，例如全氟丙基、全氟丁基、全氟辛基等等。"全氟亞烷基"基本上具有"亞垸基"上述給定的意思，不同的是亞烷基的所有或基本上所有的氫原子被氟原子取代，例如全氟亞丙基、全氟亞丁基、全氟亞辛基、等等。"全氟氧烷基"基本上具有"氧化垸基"的上述給定意思，不同的是氧化烷基的所有或基本上所有的氫原子被氟原子取代并且碳原子數為3至約100個，例如CF3CF2OCF2CFr、CF3CF20(CF2CF20)3CF2CF2-、C3F70(CF(CF3)CF20)sCF(CF3)CF2-，(其中s為(例如)約1至約50)等等。"全氟氧亞烷基"基本上具有"氧化烯基"上述給定的意思，不同的是氧化烯基的所有或基本上所有的氫原子被氟原子取代并且碳原子數為3至約100個，例如-CF2OCF2-或-[CF2-CF2-0]r-[CF(CF3)-CF2-0]s-;其中r和s為(例如)1至50的整數。"全氟化基團"是指其中所有或基本上所有的鍵合碳的氫原子被氟原子取代的有機基團，例如全氟烷基、全氟氧垸基等等。"親核丙烯酰基化合物"是指每個分子具有至少一個伯或仲親核基團、以及至少一個丙烯酰基(包括丙烯酸酯和丙烯酰胺基團)的有機化合物。"邁克爾加成"是指其中親核物質(例如氨基硅烷)對丙烯酰基進行1,4加成的加成反應。具體實施例方式本發明提供了由化學式I表示的含氟硅垸化合物，如上所述。(Rf)x~E"RL(R2)y]z"、z(I)其中Rf為含氟基團，包括單價的含全氟烷基或含全氟氧垸基的基團或二價的含全氟亞垸基或全氟氧亞垸基的基團；W為共價鍵、多價的亞垸基或亞芳基或它們的組合，所述亞烷基任選地包含一個或多個鏈中氧或氮原子R2為由氨基硅垸和丙烯酰基之間的邁克爾反應生成的含硅烷基團。X2為-0、-S-或-NR、，其中R4為H或C廣C4烷基，R5為CrC4烷基或-R6-Si(Yp)(R7)3-p或(Rf)x-RLx2-C(0)-CH2CH2隱；x和y各自獨立地為至少1，并且z為l或2。對于化學式I，W得自氨基硅烷對于丙烯酰基的邁克爾加成，如下面的化學式XLC—CH2CH2-N—R6-Si-(R7)3-p仰其中12乂2為—O、-S-或一NR、，其中R4為H或d-C4烷基，R5為C廣C4垸基或-R6-Si(Yp)(R7)3-p或(Rf)x-RLx2-C(0)誦CH2CH2-;RS為二價亞垸基，所述亞垸基任選地包含一個或多個鏈中氧或氮原子；Y為可水解基團，W為單價烷基或芳基，并且p為1、2或3，雖然發明人不希望被理論束縛，但是據信上述化學式I的化合物與基底表面發生縮合反應，以通過化學式II的可水解"Y"基團的水解或置換形成硅氧烷層。在此上下文中，"硅氧烷"是指連接到化學式I化合物的-Si-O-Si-鍵。在存在水的情況下，"Y"基團將水解成"Si-OH"基團，進一步縮合成硅氧烷。由包含化學式I的化合物的涂料組合物制備的涂層包含化合物本身、以及由結合到預定基底的表面和通過硅氧烷形式分子間交聯產生的硅氧烷衍生物。該涂層還可以包含未反應的或未縮合的"Si-Y"基團。組合物可進一步包含非硅烷物質，例如低聚全氟氧烷基單氫化物、起始物質、全氟氧垸基醇和酯。在一個實施例中，本發明提供了包含由化學式I表示的化合物、溶劑以及任選的水和酸的涂料組合物。在另一個實施例中，涂料組合物包含由化學式I表示的化合物的水性懸浮液或分散體。為了實現對多種基底(例如陶瓷)具有良好的耐久性，本發明的組合物優選包含水。因此本發明提供了涂布的方法，該方法包括使基底與涂料組合物(包含由化學式I表示的化合物和溶劑)相接觸的步驟。在另一個實施例中，可通過化學氣相沉積法將由化學式I表示的化合物涂布至基底，尤其是光學應用中使用的抗反射基底。相對于化學式I，Rf基團可包含單價的含全氟垸基或含全氟氧烷基或二價的含全氟亞烷基或全氟氧亞烷基。更具體地講，Rf可由化學式13III表示:-f~oIIQ份,(in)其中R/為單價的全氟垸基或全氟氧垸基，或二價的全氟亞垸基或全氟氧亞垸基。Q可為共價鍵或二價連接基團(例如亞烷基、亞芳基、亞芳垸基、垸亞芳基)，Q任選地包括鏈中雜原子，例如O、N、和S、以及它們的組合。Q還任選地包括含雜原子的官能團(例如羰基或磺酰基)、以及它們的組合(例如磺酰胺、羧酰氨基或酯基)，還可選擇Q使得"Q-CO-X2-"部分不是氨基甲酸鹽、尿素或碳酸鹽基團；即鄰近羰基的原子不是雜原子；乂2為-0-、-NR4-或-S-，其中114為H或Cr(V烷基，z為1或2，并且v為0或1。化學式III的R^基團可包括直鏈、支鏈或環狀的含氟基團或它們的任何組合。R/基團可以是單價或二價，并且在碳一碳鏈中任選地包含一個或多個鏈中氧原子以便形成碳一氧一碳鏈(即全氟氧亞烷基)。完全氟化的基團通常是優選的，但是氫或其它鹵素原子也可作為取代基存在，前提條件是相對于每兩個碳原子存在不超過一個的任何一種原子。另外優選的是，任何R/基團均包含至少約40重量。/。的氟，更優選包含至少約50重量％的氟。單價Rfi基團的終端部分通常完全氟化，優選包含至少三個氟原子，如CFs-、CF3CF2-、CF3CF2CF2-、(CF3)2N-、14(CF3)2CF-、SF5CF2-。在某些實施例中，其中n為2至12(包括2、12)的單價全氟垸基(即，由化學式CJ^w-表示的那些)或二價全氟亞垸基(即，由化學式-C。F2n-表示的那些)為優選的R/基團，更優選n-3至5，并且最優選n-4。可用的全氟氧烷基和全氟氧亞烷基Rf1基團對應化學式W-Rf3-0-Rf4-(Rf5)q-(IV)其中對于單價的全氟氧垸基，W為F,對于二價的全氟氧亞垸基，W為開放化合價"-")(openvalence);R/表示全氟亞垸基，R/表示由具有1、2、3或4個碳原子的全氟亞烷基氧基組成的全氟亞垸基氧基或此類全氟亞烷基氧基的混合物，R/表示全氟亞烷基，q為0或l。化學式(IV)中的全氟亞烷基Rf3和R/可以是直鏈或支鏈的，并且可以包含1至10個碳原子，優選1至6個碳原子。典型的單價全氟烷基為CF3-CF2-CFr，典型的二價全氟亞垸基為-CF2-CF2-CF2-、-CF2-或-CF(CF3)CF2-。全氟亞烷基氧基Rf4的實例包括-CF2-CF2-0-、-CF(CF3)-CF2-0-、-CF2-CF(CF3)-0-、-CF2-CF2-CF2-0-、-CF2-0-、-CF(CF3)-0-、以及-CF;rCF2-CF2-CF2-0。全氟亞垸基氧基R/可以由相同的全氟氧亞垸基單元或不同的全氟氧亞烷基單元的混合物構成。當全氟氧亞烷基由不同的全氟亞垸基氧化單元構成時，它們可以無規構型、交替構型存在，或者它們可作為嵌段存在。全氟化的聚(氧化亞烷基)基團的代表性實例包括-[CF2-CFrO]r-;-[CF(CF3)-CF2-0〗s-;-[CF2CF2-0]r-[CF20]t-，-[CF2CF2CF2CFrO]u以及-[CF2-CF2-0〗r-[CF(CF3)-CF2-0〗s-;其中各r、s、t和u各自為1至50的整數，優選2至25。對應于化學式(V)的優選的全氟氧垸基為CFrCF2-CF2-0-[CF(CF3)-CF20]s-CF(CF3)CF2-，其中s為2至25的整數。全氟氧烷基和全氟氧亞烷基化合物可通過產生末端碳酰基氟化物基團的六氟環氧丙烷的低聚反應獲得。通過本領域技術人員所熟知的反應，可將該碳酰氟轉化成酸、酯或醇。然后可根據已知的工序使碳酰氟或由其衍生的酸、酯或醇進一步反應以產生所需的基團。相對于化學式I的Rf基團或者化學式III的R/基團，其中y或z為1，可設想出含氟單官能化合物，優選一元醇和單胺。可用的含氟單官能化合物的代表性實例包括如下CF3(CF2)3S02N(CH3)CH2CH2OH、CF3(CF2)3S02N(CH3)CH(CH3)CH2OH、CF3(CF2)3S02N(CH3)CH2CH(CH3)NH2、CF3(CF2)3S02N(CH2CH3)CH2CH2SH、CF3(CF2)3S02N(CH3)CH2CH2SCH2CH2OH、C6F13S02N(CH3)(CH2)4OH、CF3(CF2)7S02N(H)(CH2)3OH、C3F7S02N(CH3)CH2CH2OH、CF3(CF2)4S02N(CH3)(CH2)4NH2、C4F9S02N(CH3)(CH2)uOH、CF3(CF2)5S02N(CH2CH3)CH2CH2OH、CF3(CF2)5S02N(C2H5)(CH2)6OH、CF3(CF2)2S02N(C2H5)(CH2)4OH、CF3(CF2)3S02N(C3H7)CH2OCH2CH2CH2OH、CF3(CF2)4S02N(CH2CH2CH3)CH2CH2OH、CF3(CF2)4S02N(CH2CH2CH3)CH2CH2NHCH3、CF3(CF2)3S02N(C4H9)CH2CH2NH2、CF3(CF2)3S02N(C4H9)(CH2)4SH、CF3(CF2)3CH2CH2OH、C4F9OC2F4OCF2CH2OCH2CH2OH;n-C6F13CF(CF3)CON(H)CH2CH2OH;C6F13CF(CF3)C02C2H4CH(CH3)OH;C3F7CON(H)CH2CH2OH;C3F70(CF(CF3)CF20)"36CF(CF3)CH20H;以及QF70(CF(CF3)CF20)w6CF(CF3)C(0)N(H)CH2CH20H等等，以及它們的混合物。相對于化學式I的Rf基團或化學式III的Rf1基團，其中y或z為2，可設想出氟化多元醇和聚胺。合適的氟化多元醇的代表性實例包括R/S02N(CH2CH20H)2，例如N-雙(2-羥乙基)全氟丁基磺酰胺；R/OC6H4S02N(CH2CH20H)2;R/S02N(R')CH2CH(OH)CH20H，例如C6F13S02N(C3H7)CH2CH(OH)CH2OH;R/CI^CONCCHzCHzOHh;CF3CF2(OCF2CF2)3OCF2CON(CH3)CH2CH(OH)CH2OH;R/OCH2CH(OH)CH20H，例如C4F9OCH2CH(OH)CH2OH;RCH2CH2SC3H60CH2CH(OH)CH20H;Rf'CI^CHzSC^HsCHCCHzOHh;R/CH2CH2SCH2CH(OH)CH2。H;R/CH2CH2SCH(CH20H)CH2CH20H;R/CH2CH2CH2SCH2CH(OH)CH20H，例如C5F,,(CH2)3SCH2CH(OH)CH2OH;R/CH2CH2CH20CH2CH(OH)CH20H，例如CsFu(CH2)30CH2CH(OH)CH20H;Rf1CH2CH2CH2OC2H4OCH2CH(OH)CH2OH;R/CH2CH2(CH3)OCH2CH(OH)CH20H;R/(CH2)4SC3H6CH(CH20H)CH20H;Rfl(CH2)4SCH2CH(CH2OH)2;Rf乂CH2)4SC3H60CH2CH(OH)CH20H;R,CH2CH(C4H9)SCH2CH(OH)CH20H;R/CH20CH2CH(OH)CH20H;R/CH2CH(OH)CH2SCH2CH2。H;R/CH2CH(OH)CH2SCH2CH20H;R/CH2CH(OH)CH20CH2CH20H;R一CH2CH(OH)CH20H;Rf!R"SCH(R"'OH)CH(R'"OH)SR"Rf;(R/CH2CH2SCH2CH2SCH2)2C(CH20H)2;((CF3)2CFO(CF2)2(CH2)2SCH2)2C(CH2OH)2;(R/R"SCH2)2C(CH20H)2;1,4-雙(1-羥基-l，l-二氫全氟乙氧基乙氧基)全氟-正丁垸(HOCH2CF2OC2F40(CF2)4OC2F4OCF2CH2OH);1，4-雙(1-羥基國1,1-二氫全氟丙氧基)全氟-正丁垸(HOCH2CF2CF20(CF2)40CF2CF2CH20H);通過氟化氧雜環丁烷的開環聚合反應制備的氟化氧雜環丁烷多元醇，例如Poly-3-Fox(得自OmnovaSolutions,Inc.，AkronOhio(美國俄亥俄州阿克倫的OmnovaSolutions公司));如美國專利No.4,508,916(Newell等人)所述，通過氟化有機基團取代的環氧化物與包含至少兩個羥基的化合物的開環加聚反應制備的聚醚醇；以及全氟聚醚二醇，例如FomblinZDOL(HOCH2CF20(CF20)8.12(CF2CF20)8.12CF2CH2OH，(可得自Solvay,Thorofore,NJ(美國新澤西州薩若伏的索爾韋公司))；其中Rf為具有1至12個碳原子的全氟烷基，或具有3至約50個碳原子的全氟氧垸基，該全氟氧垸基所存在的所有全氟化碳鏈具有6個或更少的碳原子，或它們的混合物；R'為1至4個碳原子的垸基；R"為1至12個碳原子的支鏈或直鏈亞烷基、2至12個碳原子的亞垸基硫-亞垸基、2至12個碳原子的亞垸基-氧化亞垸基，或2至12個碳原子的亞烷基亞氨基亞烷基，其中氮原子上包含作為第三取代基的氫或1至6個碳原子的垸基；并且R"'為1至12個碳原子的直鏈或支鏈亞烷基或由化學式CrH2r(OCsH2S)t(其中r為1-12,s為2-6，t為1-40)表示的亞垸基-聚氧化亞烷基。優選的氟化多元醇包括N-雙(2-羥乙基)全氟丁基磺酰胺；通過氟化氧雜環丁烷的開環聚合反應制備的氟化氧雜環丁垸多元醇，例如Poly-3-Fox(得自OmnovaSolutions,Inc.,AkronOhio(美國俄亥俄州阿克倫的OmnovaSolutions公司))；如美國專利No.4,508,916(Newell等人)所述，通過氟化有機基團取代的環氧化物與包含至少兩個羥基的化合物的開環加聚反應制備的聚醚醇；以及全氟聚醚二醇，例如FomblinZDOL(HOCH2CF20(CF20)8_12(CF2CF20)8_12CF2CH2OH)，(可得自Solvay，Thorofore，NJ(美國新澤西州薩若伏的索爾韋公司))；1，4-雙(1-羥基-U-二氫全氟乙氧基乙氧基)全氟-正丁垸((HOCH2CF2OC2F40(CF2)4OC2F4OCF2CH2OH);以及1，4誦雙(1-羥基-1,1-二氫全氟丙氧基)全氟-正丁烷(HOCH2CF2CF20(CF2)40CF2CF2CH20H)。由至少一個含氟基團構成的更優選的多元醇包括N-雙(2-羥乙基)全氟丁基磺酰胺；1，4-雙(1-羥基-1,1-二氫全氟丙氧基)全氟-正-丁烷(HOCH2CF2CF20(CF2)4OCF2CF2CH2OH)以及CF3CF2CFrO-[CF(CF3)CF20]n-CF(CF3)-，其中n為3至25的整數。該全氟化的聚醚基團可得自六氟環氧丙垸的低聚反應。此類全氟化聚醚基團是尤其優選的，這是因為它們具有良好的環保特性。化學式I中在Rf基團和W丙烯酰基之間的W部分包括選自亞烷基、亞芳基或它們的組合的多價基團以及可選的鏈中氧或氮雜原子或它們的組合。W可以是未取代的，或被烷基、芳基、鹵素或它們的組合取代。R1基團通常具有不超過30個碳原子。在一些化合物中，R1基團具有不超過20個碳原子、不超過IO個碳原子、不超過6個碳原子或不超過4個碳原子。例如，W可以為亞垸基、被芳基取代的亞烷基或亞烷基與亞芳基的組合。化學式I的R1部分可由具有至少兩個親核官能團的脂肪族或芳族化合物生成。此類化合物可具有化學式R丄(X2H)y+x，其中w為共價鍵、多價的亞烷基或亞芳基或它們的組合，所述亞烷基任選地包含一個或多個鏈中氧或氮原子；各個X^蟲立地為-O,-S-或-NR4-,其中R"為H或CrC4垸基，且x+y至少為2.此類化合物包括多元醇、聚胺以及羥基胺。在一個實施例中，由化學式I表示的含氟化合物可部分地包含具有單或雙官能全氟化基團與至少一個親電官能團的含氟化合物的反應產物；和親電的含氟化合物。此類化合物包括由以下化學式表示的那些RfL[Q-C0-X3]z，(V)其中Rf1、Q和z如所述化學式III所述，且f為-OH、鹵素原子或OR4，其中W為H或C,-C4垸基、或者，即由化學式V表示的化合19物為酯、酸或鹵酰。由化學式V表示的化合物尤其可用于制備由化學式I表示的化合物，其中R1不是共價鍵，即R1為多元醇或聚胺的殘基。根據權利要求1所述的含氟化合物可部分地包含a)由化學式VI(如下)表示的具有親核官能團和至少一個丙烯酰基的親核丙烯酰化合物，和b)由化學式V(如上)表示的具有含氟基團和親電基團的化合物的反應產物。丙烯酰基部分可為丙烯酸酯或丙烯酰胺，并且親核官能團可為氨基、硫醇基或羥基基團。優選地，親核丙烯酰基化合物為具有羥基和至少兩個丙烯酰基的聚丙烯酰基化合物。此類親核丙烯酰化合物包括由以下化學式表示的那些O23/211、X2為-O、-S-或-NR4-，優選-O-,其中R4為H或Q-C4烷基，R3多價的亞烷基或亞芳基或它們的組合，所述亞垸基任選地包含一個或多個鏈中氧或氮原子；并且q為1至5。應當理解，末端"HX2"基團優選不是-NR411，因為末端胺可通過邁克爾加成進行聚合。使用此類末端胺可需要保護基團以抑制此類邁克爾聚合反應，直至丙烯酰基已由氨基硅烷官能化。優選q大于1。所得的多個丙烯酰基允許制備由化學式I表示的具有多個硅垸基團的化合物。硅烷基團與Rf基團的摩爾比可大于1:1或大于2:1。由化學式VI表示的可用的親核丙烯酰化合物包括(例如)丙烯酸酯化合物，所述丙烯酸酯化合物選自由下列組成的組(a)含單丙烯酰的化合物，例如羥基乙基丙烯酸酯、甘油單丙烯酸酯、1,3-丁二醇單丙20烯酸酯、1，4-丁二醇單丙烯酸酯、1,6-己二醇單丙烯酸酯、垸氧基化的脂肪族單丙烯酸酯、環己垸二甲醇單丙烯酸酯、垸氧基化的己二醇單丙烯酸酯、烷氧基化的新戊二醇單丙烯酸酯、己內酯改性的新戊二醇羥基新戊酸酯丙烯酸酯、己內酯改性的新戊二醇羥基新戊酸酯單丙烯酸酯、二甘醇單丙烯酸酯、二丙二醇單丙烯酸酯、乙氧基化的丙二酚-A單丙烯酸酯、羥基特戊醛改性的三羥甲基丙烷單丙烯酸酯、新戊二醇單丙烯酸酯、丙氧基化的新戊二醇單丙烯酸酯、四乙二醇單丙烯酸酯、三環癸二甲醇單丙烯酸酯、三甘醇單丙烯酸酯、三丙二醇單丙烯酸酯；(b)含多丙烯酰的化合物，例如甘油二丙烯酸酯、乙氧基化的三丙烯酸酯(例如乙氧基化的三羥甲基丙垸二丙烯酸酯)、季戊四醇三丙烯酸酯、丙氧基化的二丙烯酸酯(例如丙氧基化(3)甘油二丙烯酸酯、丙氧基化(5.5)甘油二丙烯酸酯、丙氧基化(3)三羥甲基丙垸二丙烯酸酯、丙氧基化(6)三羥甲基丙烷二丙烯酸酯)、三羥甲基丙垸二丙烯酸酯、較高官能度的含(甲基)丙烯酰基的化合物例如雙三羥甲基丙垸四丙烯酸酯和五丙烯酸二季戊四醇酯。這樣的化合物可廣泛地得自供應商例如賓夕法尼亞州愛克斯頓市的沙多瑪公司；喬治亞州士麥那城的UCB化工品公司；以及威斯康星州密爾沃基的阿爾德里奇化學公司。另外的可用的丙烯酸酯材料包括含二羥基乙內酰脲部分的聚丙烯酸酯，例如，如在美國4,262,072(Wendling等人)中所記述。相對于示例性的親核丙烯酰基化合物，應當理解可使用相應的丙烯酰胺和硫丙烯酸酯。另外，指出的羥基可被相應的硫醇基取代。在另一個實施例中，由化學式I表示的含氟化合物可部分地包含具有單或雙官能全氟化基團的親核含氟化合物和至少一個親核官能團的反應產物；和親電丙烯酰化合物。此類親核含氟化合物包括由以下化學式表示的那些R卩-[Q(x2H)y]z，(VII)其中R/、Q、X2、y和z如所述化學式m所述。由化學式VII表示的化合物尤其可用于制備由化學式I表示的化合物，其中R1為共價鍵，并且可通過與丙烯酰卣或官能化的等同物的反應被丙烯酰基官能化。因此可通過具有下列化學式的中間體聚丙烯酰化合物來制備由化學式I表示的化合物^巾Rf、R1、X2、y和z如此前化學式I所述。隨后，具有化學式Vin的聚丙烯酰化合物可通過氨基硅烷的邁克爾加成被硅垸基團官能化。優選的氨基硅烷可由下列通式表示HN-RO-Si—(R')3-p，(IX)其中R5為H、C廣C4垸基或-R6誦Si(Yp)(R7)3.p;116為二價亞烷基，所述亞垸基任選地包含一個或多個鏈中氧原子;Y為可水解基團，W為單價垸基或芳基，p為1、2或3，優選為3。應當理解，在存在水的情況下，Y基團可水解成-OH基團，這導CH=CH2:，(VIII)-R22致與基底表面發生反應，以形成硅氧垸鍵，因而鍵形成，尤其是Si-O-Si鍵，其是防水的，并且可為由本發明的化學組合物所賦予的去污特性提供增強的耐久性。相對于由化學式IX表示的氨基硅烷，應該指出的是，其中RS為H的那些伯胺，能夠通過邁克爾加成與兩個丙烯酰基反應，這可導致化學式I的含氟化合物的交聯。此類化合物可由化學式II表示，其中R5基團為(Rfh-Ri-X^CCCO-CI^CHr。一些可用于本發操作中的氨基硅垸，在美國專利No.4，378，250中有所描述，并且包括氨基乙基三乙氧基硅烷、e-氨基乙基三甲氧基硅烷、e-氨基乙基三乙氧基硅烷、e-氨基乙基三丁氧基硅烷、e-氨基乙基三丙氧基硅垸、a-氨基乙基三甲氧基硅烷、ci-氨基乙基三乙氧基硅烷、y-氨基丙基三甲氧基硅垸、y-氨基丙基三甲氧基硅烷、y-氨基丙基三乙氧基硅烷、y-氨基丙基三丁氧基硅烷、y-氨基丙基三丙氧基硅烷、e-氨基丙基三甲氧基硅垸、e-氨基丙基三乙氧基硅烷、P-氨基丙基三丙氧基硅垸、e-氨基丙基三丁氧基硅烷、a-氨基丙基三甲氧基硅烷、a-氨基丙基三乙氧基硅烷、a-氨基丙基三丁氧基硅烷、以及a-氨基丙基三丙氧基硅烷，還可使用少量(<20摩爾％)的鏈中含氮的氨基硅垸，包括在美國4,378,250中描述的那些N-(P-氨基乙基)-P-氨基乙基三甲氧基硅烷、N-(e-氨基乙基)-e-氨基乙基三乙氧基硅垸、N-(e-氨基乙基)-e-氨基乙基三丙氧基硅烷、N-(e-氨基乙基)-a-氨基乙基三甲氧基硅烷、N-(e-氨基乙基)-a-氨基乙基三乙氧基硅烷、N-(P-氨基乙基聲a-氨基乙基三丙氧基硅垸、n-(e-氨基乙基)-e-氨基丙基三甲氧基硅垸、n-(e-氨基乙基)-y-氨基丙基三乙氧基硅烷、n-(e-氨基乙基)-y-氨基丙基三丙氧基硅垸、N-(P-氨基乙基)-y-氨基丙基三甲氧基硅垸、N-(P-氨基乙基)-e-氨基丙基三乙氧基硅垸、n-(p-氨基乙基)-e-氨基丙基三丙氧基硅烷、N-(y-氨基丙基)-e-氨基乙基三甲氧基硅烷、N-(y-氨基丙基)-P-氨基乙基三乙氧基硅烷、N-(Y-氨基丙基)-P-氨基乙基三丙氧基硅垸、N-甲基氨基丙基三甲氧基硅垸、P-氨基丙基甲基二乙氧基硅垸、以及Y-二亞乙基三氨基丙基三乙氧基硅垸。由化學式I表示的含氟化合物可在三步工序中制備。第一步是通過具有化學式V的親電含氟化合物(例如C4F9C(0)OCH3)與具有化學式R、xZH)y+x的含有至少2個親核基團(例如醇基或者伯氨基或仲氨基)的化合物進行反應以生成相應的含氟氨基多元醇或聚胺、酯基多元醇或聚胺、或氨基化合物、或與氨基和醇基混合的酯。第二步是剩余的醇和/或氨基(具有化學式R、X2H)y+x)與丙烯酰鹵、酯、酸酐或丙烯酸進行丙烯酸酯化以生成具有化學式VIII的中間體。第三步是隨后對側丙烯酰基進行氨基硅垸的邁克爾加成。優選的是，由化學式Rip^H)y+x表示的化合物為伯氨多元醇，所述伯胺多元醇具有一個伯氨基和至少兩個羥基。一般來講，將反應性組分和溶劑直接按順序或作為預制備的混合物裝入干燥的反應釜中。當獲得均勻的混合物或溶液后，任選地加入催化劑，并在一定溫度下加熱反應混合物，并且持續加熱足以使反應發生的時間。可通過監控紅外(IR)來確定反應的進度。所使用的具有化學式V的氟化化合物的量足以與平均5至50摩爾Q/。的化合物Rip^H)y+x的可用氨或醇官能團反應。優選的是，所使用的具有化學式V的化合物與平均10至30摩爾％的基團反應。剩余的基團，平均約50至95摩爾％、優選70至90摩爾％，由諸如丙烯酸酯之類的丙烯酰基化合物進行官能化，然后進行氨基硅垸(IX)的邁克爾加成，從而產生既有側含氟基團又有側硅垸基團的化合物。作為三步工序的另外一種選擇，由化學式VII表示的親核含氟化合物可與丙烯酸酯(或等同物)反應，然后進行氨基硅烷(IX)的邁克爾加成以生成具有下列化學式的化合物<formula>formulaseeoriginaldocumentpage25</formula>Rf為含氟基團；乂2為-0、—S-或-NR4-，其中W為H或C廣CV烷基，R5為CrC4垸基或-R6-Si(Yp)(R7)3-p或(Rf)x-X2-C(0)-CH2CH2-;116為二價亞垸基，所述亞烷基任選地包含一個或多個鏈中氧原子；Y為可水解基團，W為單價垸基或芳基，p為1、2或3，并且z為1或2。作為另外一種選擇,氨基硅垸(IX)和親核丙烯酰基化合物(VI)可為預反應的，并且然后使這種具有下述化學式XI的邁克爾加成物與具有化學式V的含氟化合物反應。o5Yp廠2III6I7-x^c—ch2ch2-n—RLsi—(R7)3_p」q(xi)其中R1、R5、R6、R7、X2、Y、p和q如此前化學式I和II所述。盡管對于氨基硅相對丙烯酰基的邁克爾加成通常不需要催化劑，但適用于邁克爾反應的催化劑為堿，所述堿的共軛酸優選具有12至14之間的pKa值。最優選使用的堿為有機的。這樣的堿的實例為1,4-二羥基嘧啶、甲基二苯基膦、甲基-二-對-甲苯基膦、2-烯丙基-N-烷基咪唑啉、四-叔-丁基氫氧化銨、DBU(1，8-二氮二環[5.4.0]H~—-7-烯)和DBN(l,5-二氮二環[4.3.0]九-5-烯)、甲醇鉀、甲醇鈉、氫氧化鈉等等。25與本發明有關的優選催化劑為DBU和四甲基胍。在邁克爾加成反應中使用的催化劑的量優選相對于固體在0.05重量％至2重量％之間，更優選在0.1重量％至1.0重量°/。之間。根據本發明的組合物可涂布在基底上，并且至少部分地固化以提供帶涂層制品。在一些實施例中，聚合的涂層可形成保護涂層，該保護涂層可提供耐劃傷性、耐涂寫性、防污染性、粘合劑隔離、低折射率以及防水性中的至少之一。根據本發明的帶涂層的制品包括(例如)眼鏡、反射鏡、窗戶、粘合劑隔離襯片以及抗涂寫膜。合適的基底包括(例如)玻璃(如窗戶和光學元件，例如透鏡和反射鏡)、陶瓷(如瓷磚)、水泥、石頭、涂漆面(如汽車車身板件、輪船表面)、金屬(如建筑物柱子)、紙張(如粘合劑隔離襯片)、紙板(如食品容器)、熱固性塑料、熱塑性塑料(如聚碳酸酯、丙烯酸樹脂、聚烯烴、氨基甲酸酯、聚酯、聚酰胺、聚酰亞胺、酚醛樹脂、二醋酸纖維素、三醋酸纖維素、聚苯乙烯以及苯乙烯-丙烯腈共聚物)，以及它們的組合。基底可以是膜、片，或者其可以具有一些其他形式。基底可包括透明或半透明顯示器元件，在其上任選地具有陶瓷聚合物硬涂層。在一些實施例中，提供了包含含氟化合物的混合物和溶劑的涂料組合物。本發明的涂料組合物包括本發明的含氟化合物的溶劑懸浮液、分散體或溶液。當用作涂層時，涂料組合物將賦予任何種類的基底拒油性和拒水性，和/或去污性和抗污性。含氟化合物可溶解、懸浮或分散于多種溶劑中以形成適用于涂布基底的涂料組合物。一般來講，溶劑溶液可包含(基于固體組分的總重量)約0.1至約50重量％或甚至多達約90重量％的非揮發性固體。基于固體組分的總重量，涂料組合物優選包含約0.1至約10重量％的含氟硅垸化合物。涂層中含氟化合物的優選使用量為總固體的約0.1至約5重量％、最優選約0.2至約1重量％。合適的溶劑包括醇、酉旨、乙二醇醚、酰胺、酮、烴、氫氟烴、氫氟醚、氯代烴、氯烴以及它們的混合物。涂料組合物可以還包含水和酸。在一個實施例中，該方法包括使基底與包含由化學式I表示的硅垸和溶劑的涂料組合物接觸，隨后使基底與含水酸接觸。為了便于制備并且為了節省成本，可在使用前不久通過稀釋具有化學式I的化合物中的一者或多者的濃縮物來制備本發明的組合物。濃縮物通常包含含氟硅烷在有機溶劑中的濃縮溶液。濃縮物應該可以穩定若干周，優選可以穩定至少1個月，更優選可以穩定至少3個月。已經發現的是化合物可以高濃度容易地溶解于有機溶劑。本發明的涂料組合物任選地包含倍半硅氧烷或原硅酸酯。倍半硅氧烷可與涂料組合物共混，或作為另外一種選擇，化學式I的化合物的涂層可涂布到此前施用的倍半硅氧垸涂層上。可用的倍半硅氧垸包括由化學式R^Si(OR1、表示的二有機氧硅烷(或其水解產物)與由化學式R^SiO^表示的有機硅垸(或其水解產物)的共縮物，其中每個Rie為1至6個碳原子的垸基或芳基，R11表示具有1至4個碳原子的烷基。在添加到組合物之前，優選的倍半硅氧垸是中性的或陰離子的倍半硅氧垸。可用的倍半硅氧垸可以通過如下專利中所述的技術制備美國專利No.3,493,424(Mohrlok等人)、4,351,736(Steinberger等人)、5,073,442(K謂lton等人)、4,781,844(Kortmann等人)和4,781,844。倍半硅氧烷可以相對于總固體90重量％至99.9重量％的量加入。倍半硅氧垸的制備可通過如下方法實現將硅垸加入到水、緩沖劑、表面活性試劑和任選的有機溶劑的混合物中，同時在酸性或堿性條件下攪拌所述混合物。優選均勻而緩慢地添加一定量的硅烷以便實現200至500埃的窄粒度分布。可以添加的硅烷的準確量取決于取代基R以及是否使用陰離子或陽離子表面活性試劑。倍半硅氧垸的共縮物(其中單元可以嵌段分布或隨機分布存在)通過同時發生的硅烷水解形成。相對于倍半硅氧垸的重量而言，四有機硅烷(包括四烷氧基硅垸及其水解產物(如由化學式Si(OH)4表示的))的含量小于10重量％，優選小于5重量％，更優選小于2重量°/。。下列硅烷可用于制備本發明的倍半硅氧烷甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧硅垸、甲基三異丙氧基氧硅烷、乙基三甲氧基硅垸、乙基三乙氧基硅烷、丙基三甲氧基硅垸、異丁基三甲氧基硅烷、異丁基三乙氧基硅烷、2-乙基丁基三乙氧基硅垸以及2-乙基丁氧基三乙氧基硅院c組合物可通過傳統的技術例如噴霧、刮涂、凹涂、逆轉輥涂布、凹版印刷涂布、浸涂、刮棒涂布、滿涂、浸涂或旋涂涂布到基底。可以將組合物涂敷成提供所需程度的防水性、防油性、防污漬性、防污垢性的任何厚度。通常，將組合物涂布到基底作為相對薄的層，產生具有在約40nm至約60nm范圍的厚度的干燥固化層，盡管還可使用較薄和較厚(例如具有多達100微米或更大的厚度)的層。緊接著，通常至少部分地移除(如使用強制通風烘箱)任何可選的溶劑，然后將組合物至少部分地固化以形成耐用涂層。涂覆本發明的含氟硅烷的優選涂布方法包括浸涂。待涂布的基底通常可在室溫下(通常約20至約25t:)與處理組合物接觸。作為另外一種選擇，可將混合物施加至在(例如)60至150'C的溫度下進行預熱的基底上。這對于工業生產來說是特別有意義的，由此(例如)瓷磚可以在從生產線末端的烘焙箱中出來之后立即進行處理。施加后，可將處理過的基底在環境溫度或高溫(如在40至300°C)下干燥和固化，并且持續足以干燥的時間。為了移除過量的材料，該處理可能還需要打磨的步驟。28本發明提供了基底上的保護涂層，其相對耐用，并且比基底表面本身更加防污染和更易于清潔。本發明在一個實施例中提供了用于制備包括基底(優選硬質基底)和多于一層的抗污涂層(通常在基底上沉積大于約15埃厚)的帶涂層制品的方法和組合物。本發明的抗污涂層優選為至少約20埃厚，并且更優選至少約30埃厚。一般來講，涂層的厚度小于10微米，優選小于5微米。涂層材料通常以基本上不改變制品的外觀和光學特性的量存在。根據權利要求1所述的化合物尤其適用于制備抗反射基底的防污涂層，例如眼科透鏡中使用的那些。可通過氣相沉積或通過浸涂、滿涂、簾式涂布、旋涂、刮棒涂布或其它的有溶劑或水基的方法提供涂層。抗反射涂層可包括設置在透明(即透光的)基底(例如玻璃、石英或有機聚合物基底，包括聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚氯乙烯、聚硫胺甲酸酯、聚乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯、聚酸亞胺、和聚酯，尤其是聚對苯二甲酸乙二醇酯)上的一層或多層材料。最簡單的抗反射涂層為單層透明材料，所述透明材料的折射率小于其所設置的基底的折射率。多層抗反射涂層包括基底上的兩層或多層電介質材料，其中至少一層的折射率大于基底的折射率。通常將它們稱為抗反射薄膜疊堆。可利用多種材料提供抗反射涂層。優選的是，利用薄的金屬氧化物膜提供抗反射涂層，并且更優選地是，利用薄的濺涂的金屬氧化物膜。本文中，"金屬氧化物"包括單一金屬(包括準金屬)的氧化物以及金屬合金的氧化物。優選的金屬氧化物包括氧化硅，所述氧化硅可以耗盡氧(即，其中氧化物中的氧的量小于化學計量)。優選的是,最外表面上的金屬氧化物膜包括氧化硅(SiOx，其中x不大于2)，盡管其它合適的材料包括錫、鈦、鈮、鋅、鋯、鉭、釔、鋁、鈰、鎢、鉍、銦以及它們的混合物的氧化物。具體的實例包括Si02、Sn02、Ti02、Nb205、ZnO、Zr02、Ta205、Y203、A1203、Ce02、W03、Bi20、ln203、和ITO(氧化銦錫)、以及的它們的組合和交替層。濺涂的金屬氧化物膜相對熱蒸發膜是優選的，因為濺涂膜比熱蒸發膜具有更高的密度并且更硬、更平滑和更穩定。盡管這種濺涂的金屬氧化物膜相對多孔并且由具有通過原子力顯微鏡測得直徑在約5納米至約30納米范圍內的粒子簇組成，但它們相對水和氣體是充分不可滲透的，所述水和空氣可改變金屬氧化物膜的機械、電、以及光學特性。合適的透明基底包括玻璃和透明的熱塑性材料，例如聚(甲基)丙烯酸酯、聚碳酸酯、聚硫胺甲酸酯、聚苯乙烯、苯乙烯共聚物(例如丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物和丙烯腈-苯乙烯共聚物)、纖維素酯(尤其是醋酸纖維素和醋酸纖維素-丁酸共聚物)、聚氯乙烯、聚烯烴(例如聚乙烯和聚丙烯)、聚酰亞胺、聚苯醚、以及聚酯(尤其是聚對苯二甲酸乙二醇酯)。術語"聚(甲基)丙烯酸酯"(或"丙烯酸系")包括通常被稱為澆注丙烯酸片、拉伸丙烯酸的材料、聚(甲基丙烯酸甲酯)"PMMA"、聚(甲基丙烯酸酯)、聚(丙烯酸酯)、聚(甲基丙烯酸甲酯-共-丙烯酸乙酯)等的材料。基底的厚度可以變化，然而對于柔性的有機膜來說通常為約0.1mm至約lmm。此外，有機聚合物基底可以由多種不同的方法制成。例如，可以擠出熱塑性材料，然后切成所需的尺寸。可以對其進行模制以形成所需的形狀和尺寸。另外，可以進行槽澆，隨后加熱和拉伸，從而形成有機聚合物基底。其上沉積抗反射涂層的基底可以包括涂底漆的表面。可以通過施加諸如丙烯酸層之類的化學底漆層產生涂底漆的表面，或者通過化學蝕刻、電子束照射、電暈處理、等離子體蝕刻或共擠出粘附促進層。這種涂底漆的基底是市售的。例如，涂以含水丙烯酸酯乳膠底漆的聚對苯二甲酸乙二醇酯基底可購自北卡羅來納州霍普韋爾的帝國化學工業薄膜公司(ImperialChemicalIndustriesFilms,Hopewell，N.C.)。因此，本發明提供了用于抗反射基底抗污組合物，以及將抗污組合物沉積至抗反射基底上的方法，該方法包括使抗污組合物蒸發并且將抗污組合物沉積至抗反射基底上。抗反射基底為任何是抗反射薄膜疊堆的部分的透明基底，或任何具有利用抗反射組合物完全或部分覆蓋的表面的透明基底。抗反射組合物優選為抗反射金屬氧化物、金屬氟化物、金屬氮化物、金屬硫化物等。更優選地是，抗反射組合物為抗反射金屬氧化物，并且最優選地是，抗反射組合物為噴涂抗反射金屬氧化物膜的涂層(優選包含氧化硅)。本發明的抗污組合物使得表面更耐污染，例如(如)來自指紋的皮膚油。它還使得表面更易清潔，優選的是利用干擦或利用水和洗滌劑。此外，它引起所涂布的表面、尤其是薄膜疊堆的抗反射表面的光學特性的極少或沒有破壞。也就是說，本發明的抗污涂層沒有顯著增加薄膜疊堆的反射率。利用本發明的方法制備的制品包括任選地具有底漆表面(其上涂布可選的粘附增強涂層)的基底(例如玻璃或有機聚合物基底)、抗反射組合物(優選的是，多層薄膜疊堆)、以及包含具有化學式I的化合物的抗污組合物。抗污組合物的總體厚度是根據對于增強抗污和耐久特性所需的厚涂層以及對于維持抗反射基底的抗反射特性所需的薄涂層之間進行平衡產生。通常，本發明的抗污組合物的總體涂層厚度為約20至500埃，更優選地為約40至100埃。在另一方面，抗污組合物優選以單層沉積。使抗污組合物蒸發的條件可根據抗污組合物的結構和分子量而變化。在本發明的一個方面中，優選蒸發可在低于約0.01毫米汞柱的壓力下發生。在本發明的另一個方面中，蒸發可在至少約80'C的溫度下發生。在本發明的另一個實施例中，蒸發包括利用本領域已知的蒸發沉積方法將抗污組合物和抗反射基底布置在室中、加熱該室(包含抗污組合物)、并且降低該室內的壓力。本發明還提供了一種方法，其中在將抗污組合物和抗反射基底布置在室中之前加熱該室。作為另外一種選擇，將抗污組合物布置在第一室中并且將抗反射涂布的眼科透鏡布置在與第一室相連的第二室中，以使得從第一室蒸發的抗污組合物可沉積到第二室中的抗反射涂布的眼科透鏡上。在本發明的另一方面中，可以使第二室保持常溫而加熱第一室。可用的真空室和設備是本領域中已知的。一種市售的單元為卯0DLS，可得自SatisVacuumofAmerica,GrovePort，Ohio。實例通過以下實例進一步說明了本發明的對象及優點，但在這些實例中列舉的具體材料及其量以及其他的條件和細節不應被理解為對本發明的不當限制。這些實例僅僅是說明性的，并非意圖限制所附權利要求書的范圍。除非另外指明，否則實例以及說明書其余部分中的所有份數、百分數、比率等均按重量計。除非另外指明，否則使用的溶劑和其他試劑均得自AldrichChemical公司，Milwaukee,WI(美國威斯康星州密爾沃基的AldrichChemical公司)。測試方法核磁共振(NMR)^和19F的NMR波譜在VarianUNITYplus400傅立葉變換NMR波譜儀(可得自VarianNMRInstruments,PaloAlto,CA)上操作。IR光譜學(IR)IR光譜在Thermo-Nicolet,Avatar370FTIR上操作，購自ThermoElectron公司，Waltham,MA(薩諸塞州沃爾塞姆市的熱電公司)。實驗術語表除非另有說明，否則實例中使用的"HFPO-"是指甲酯F(CF(CF3)CF20)aCF(CF3)C(0)OCH3的端基F(CF(CF3)CF20)aCF(CF3)-，其中平均為4-20個，其可根據美國專利No.3，250,808(Moore等人)報道的方法通過利用分餾法純化來制備。利用與美國專利7，094,829(Audenart等人)所述相類似的工序來制備HFPO-C(0)N(H)CH2CH2OH。HFPO二甲基酯-CH30(0)CCF(CF3)(OCF2CF(CF3)bOCF2CF2CF2CF20(CF(CF3)CF20)cCF(CF3)COOCH，也被稱為H3CO(0)C-HFPO-C(0)OCH3或HFPO-(C(0)OCH3)2,其中b+c平均為約4至15，其可利用FC(0)CF2CF2C(0)F作為原料(提供了HFPO低聚物二-酰基氟)根據美國專利No.3,250,807(Fritz等人)中報道的方法來制備，然后通過利用美國專利No.6,923,921(Flyrm等人)中所述的分餾法移除較低沸點的材料進行甲醇分解和純化。按照美國2006/0216500(Klun等人)的制備例31A中所述來制備HFPO-CONHCH2CH2OCOCH=CH2(HFPO-AEA)。根據美國2002/0250921中給定用于(FC-1/AM-1)的工序來制備HFPO-CONHCH2CH2CH2NHCH3。C4F9CH2CH2OCOCH=CH2可購自OakwoodProducts,Inc，WestColumbia，SC。3-烯丙氧丙基三甲氧基硅烷和雙(三甲氧基甲硅烷基丙基)胺可得自Gelest,Inc.Morrisville，PA。合成的材料HFPO-CH2OCOCH=CH2已通過先前報道的方法33(McIntyre,D.K.專利:美國4,873,140;1989年10月10日)進行制備。NH2CH2CH2-NH-CH2CH2-NH-CH2CH2-NH2可購自VWRinternational公司,WestChester,PA。LTM(CH2OC(0)CH=CH2)2的化學式為CH2=CHC(0)OCH2CF20(CF2CF20)m(CF20)nCF2CH2OC(0)OCH=CH2，并且利用與美國3,810,874的實例XV相似的工序進行制備，用丙烯酰氯取代甲基丙烯酰氯。CH^CHC(0)0(CH2)3Si(OCH3)3可購自VWRinternational,Inc,WestChester，PA。N-甲基氨丙基三甲氧基硅垸(MAPTMS)可購自UnionCarbideChemicalsandPlasticsCo.,Danbury，CT(康涅狄格州丹伯里的聯合碳化物公司)。雙(丙基-3-三甲氧基硅垸)胺可購自Gelest,Morrisville，PA(美國賓夕法尼亞州莫里斯維爾的蓋勒斯特公司)。氨基丙基三甲氧基硅烷(APTMS)可得自威斯康星州的密爾沃基的西格瑪阿爾德里奇公司。在N2的大氣環境下將C4F9CH2CH2OCOCH=CH2(5克，0.0157摩爾)注入到配備有磁力攪拌棒、N2入口和回流冷凝器的100毫升的3頸圓底燒瓶中。將3-氨基丙基三甲氧基硅垸(1.40克，0.00785摩爾)在15分鐘的間期內逐滴加入到燒瓶中。反應是放熱的，并且在室溫下攪拌30分鐘。之后將反應混合物在55'C加熱12小時。當通過的NMR監測丙烯酸酯峰完全消失后停止反應。34實例2fflFPO-CHzOCOCH^CH^-N-fCHzVSifOCH^在N2的大氣環境下將HFPO-CH2OCOCH=CH2(5克，0.00395摩爾)注入到配備有磁力攪拌棒、N2入口和回流冷凝器的100毫升的3頸圓底燒瓶中。將3-氨基丙基三甲氧基硅垸(0.35克，0.00197摩爾)在15分鐘的間期內逐滴加入到燒瓶中。反應是放熱的，并且在室溫下攪拌30分鐘。之后將反應混合物在55"C加熱12小時。實例3HFPO-CONHCH2CH2OCOCH2-CHrN-「(CH2VSi(OCH2)2l2在N2的大氣環境下將HFPO-CONHCH2CH2OCOCH=CH2(10克，0.00714摩爾)注入到配備有磁力攪拌棒、N2入口和回流冷凝器的100毫升的3頸圓底燒瓶中。將雙(三甲氧基甲硅垸基丙基)胺(2.43克，0.00714摩爾)在15分鐘的間期內逐滴加入到燒瓶中。反應是放熱的，并且在室溫下攪拌30分鐘。之后將反應混合物在55'C加熱12小時。預備實施例1HFPO-C(0)NHCH2CH(OH)CH2OH的合成將HFPO-C(0)OCH3(分子量1266，64克，0.0506摩爾)和(±)-3-氨基-l，2-丙二醇(5.99克，0.06557摩爾)注入到配備有磁力攪拌棒和入口銜接子的500毫升的1頸圓底燒瓶中并且在75'C氮氣下攪拌72小時。此時，當傅立葉紅外變換(FTIR)分析確認與HFPO-C(0)OCH3(1790cm")相關的峰消失并且與所需的酰胺(1710cm")相關的峰出現時反應終止。將產物溶于70克的甲基叔-丁基醚中并且在室溫下與16毫升的2N(水溶液)HC1攪拌15分鐘，然后放置于分液漏斗中以除去水相(pH=l)。依次用三個100克水溶液的等分試樣洗滌有機相，在每次分離后除去水相以得到中性的pH。該產物用10克硫酸鎂進行干燥并且在Bttchner漏斗上進行過濾。在65。C和28托的旋轉蒸發器上濃縮有機層。HFPO-C(0)NHCH2CH(OH)CH2OH的^-NMR顯示所需的產物不含過量的(±)-3-氨基-1,2-丙二醇。預備實例2HFPO-C(0)NHCH2CH(OC(0)CH-CH2)CH20C(0)CH-CH^的合成將HFPO-C(0)NHCH2CH(OH)CH2OH(分子量1325，60.88克，0.0459摩爾，得自預備實例l)、三乙胺U2.09克，0.1195摩爾)、甲基叔-丁基醚(82.95克)、以及對-甲氧基苯酚(0.03克，500PPM的固體)注入到配備有磁力攪拌棒和入口銜接子的500毫升的1頸圓底燒瓶中并且在40'C的干燥空氣中攪拌10分鐘。丙烯酰氯(9.98克，0.1103摩爾)在15分鐘的間期內逐滴加入到燒瓶中。反應是放熱的并且攪拌72小時。然后從加熱中取出產物并且與50克的2N(水溶液)HC1攪拌20分鐘，然后放置于分液漏斗中以除去水相(pH-l)。然后將產物與90克的10%(水溶液)的碳酸鈉攪拌20分鐘，然后放置于分液漏斗中以除去水相(pH=9)。隨后將產物與90克的10%(水溶液)的氯化鈉攪拌20分鐘，然后放置于分液漏斗中以除去水相。該產物用10克硫酸鎂進行干燥并且在Biichner漏斗上進行過濾。在旋轉蒸發器(55'C，28托)上濃縮有機層。HFPO-C(0)NHCH2CH(OC(0)CH=CH2)CH2OC(0)CH=CH2的！H-恵R與所需的產物相符。實例4HFPO-C(0)NHCH2CHfOCfO)CH2CH2N(CH^CH,、Si(OCH^)CH2OC(0)CH2CH2N(CH2)(CH^Si(OCH^將HFPO-C(0)NHCH2CH(OC(0)CH=CH2)CH2OC(0)CH=CH2(分子量1433，10克，0.0070摩爾，得自預備實例3)注入到配備有磁力攪拌棒和入口銜接子的500毫升的1頸圓底燒瓶中并且在55'C的干燥空氣下攪拌10分鐘。將CH3NH(CH2)3Si(OCH3)3(分子量193,2.69克，0.0140摩爾)在15分鐘的間期內逐滴加入到燒瓶中。將反應攪拌24小時。HFPO-C(0)NHCH2CH(OC(0)CH2CH2N(CH3)(CH2)3Si(OCH3)3)CH2OC(0)CH2CH2N(CH3)(CH2)3Si(OCH3)3的！H-NMR與所需的產物相符。實例5HFPO-C(0)NHCH2CH(OC(0)CH2CH2麗C叫Si(OCH!)^)CH20C將HFPO-C(0)NHCH2CH(OC(0)CH=CH2)CH2OC(0)CH=CH2(分子量1433，10克，0.0070摩爾，得自預備實例3)注入到配備有磁力攪拌棒和入口銜接子的500毫升的1頸圓底燒瓶中并且在55'C的干燥空氣下攪拌10分鐘。將NH((CH2)3Si(OCH3)3)2(分子量341，4.76克，0.0140摩爾)在15分鐘的間期內逐滴加入到燒瓶中。將反應攪拌24小時。HFPO-C(0)NHCH2CH(OC(0)CH2CH2N((CH2)3Si(OCH3)3)2)CH20C(0)CH2CH2N(CH3)(CH2)3Si(OCH3)3)2的^-NMR與所需的產物相符。實例6LTM(CH2OC(0)CH2CH2N((CH2hSi(OCH^)2)2將LTM(CH2OC(0)CH=CH2)2(分子量2142，15克，0.0070摩爾)和HN((CH2)3Si(OCH3)3)2(分子量:341，4.78克,0.0140摩爾)注入到配備有磁力攪拌棒和入口銜接子的100毫升的1頸圓底燒瓶中并且在65°C的干燥空氣下攪拌24小時。LTM(CH2OC(0)CH2CH2N((CH2)3Si(OCH3)3)2)2的iH-NMR顯示產物不含過量的原料。將LTM(CH2OC(0)CH=CH2)2(分子量2142，15克，0.0070摩爾)和HN(CH3)(CH2)3Si(OCH3)3(分子量:193.27，2.71克，0.0140摩爾)注入到配備有磁力攪拌棒和入口銜接子的100毫升的1頸圓底燒瓶中并且在55'C的干燥空氣下攪拌24小時。LTM(CH2OC(0)CH2CH2N(CH3)(CH2)3Si(OCH3)3)2的iH-NMR顯示產物不含過量的原料。預備實例3HFPO-(C(0)NHCH2CH20H)匸的合成將HFPO-(C(0)OCH3)2(分子量2400，150克，0.0625摩爾)和乙醇胺(分子量61.08，9.93克，0.1625摩爾)注入到配備有磁力攪拌棒和入口銜接子的500毫升的1頸圓底燒瓶中并且在75。C的氮氣下攪拌24小時。當FTIR確認與HFPO-(C(O)OCH3)2(1790cm")相關的峰消失并且與所需的酰胺(1710cm")相關的峰出現時終止反應。將產物溶于225克的甲基叔-丁基醚中并且在室溫下與50毫升的2N(水溶液)HC1攪拌15分鐘，然后放置于分液漏斗中以除去水相(PH=1)。然后將產物與80毫升的2%(水溶液)的碳酸鈉攪拌20分鐘，然后放置于分液漏斗中以除去水相(pH-8)。隨后將產物與50毫升的10%(水溶液)的氯化鈉攪拌20分鐘，然后放置于分液漏斗中以除去水相。該產物用lO克硫酸鎂進行干燥并且在Biichner漏斗上進行過濾。在旋轉蒸發器(溫度55°C;真空28托)上濃縮有機層。預備實例4HFPO-(C(0)NHCHrCHrOC(0)CH-CH,)i的合成將HFPO-(C(0)NHCH2CH2OH)2(分子量2458，50克，0.0203摩爾)、三乙胺(5.02克，0.0496摩爾)和FluorinertFC-77(87.50克，得自3M公司的全氟溶劑)注入到配備有磁力攪拌棒和入口銜接子的500毫升的1頸圓底燒瓶中并且在40'C的干燥空氣下攪拌10分鐘。將丙烯酰氯(分子量90.51，4.42克，0.0488摩爾)在15分鐘的間期內逐滴加入到燒瓶中。反應是放熱的并且攪拌24小時。然后從加熱中取出產物并且與5克水攪拌120分鐘，然后與5克硫酸鎂攪拌30分鐘并且然后與5克10%的碳酸鉀攪拌30分鐘。接下來，加入10克硅膠并且攪拌60分鐘。然后在Btichner漏斗上過濾產物，隨后利用額外的FluorinertFC77進行洗滌。在旋轉蒸發器(溫度55°C;真空28托)上濃縮有機層。HFPO-(C(0)NHCH2CH20C(0)CH-CH2)2的^-NMR與所需的產物相符。實例8HFPO"C(0)NHCH2CH2OC(0)CH2CH2-N((CH2)2Si(OCH2V)^將FPO-(C(0)NHCH2CH20C(0)CH-CH2)2(分子量2568,9克，0.0035摩爾，得自預備實例4)和HN((CH2)3Si(OCH3)3)2(分子量341,2.39克，0.0070摩爾)注入到配備有磁力攪拌棒和入口銜接子的50毫升的1頸圓底燒瓶中并且在70°C的干燥空氣下攪拌24小時。實例9HFPO"aO濯CH2CH二0③)CH，CH2-N(CH^C叫Si(OC叫)2將HFPO-(C(0)NHCH2CH20C(0)CH-CH2)2(分子量2568,9克，0.0035摩爾，得自預備實例4)禾BHN(CH3)(CH2)3Si(OCH3)3(分子量193.27,1.35克，0.0070摩爾)注入到配備有磁力攪拌棒和入口銜接子的50毫升的1頸圓底燒瓶中并且在70°C的干燥空氣下攪拌24小時。預備實例5HFPO-C(0)NHCH2CH2N(CH"C(0)CH-CHi的合成將HFPO-C(0)NHCH2CH2CH2NHCH3(分子量1267.15，25克，0.0197摩爾)、三乙胺(分子量101.19,2.60克，0.0256摩爾)、甲基-叔-丁基醚(29.74克)和對-甲氧基苯酚(7.5毫克，250PPM)注入到配備有磁力攪拌棒和入口銜接子的200毫升的1頸圓底燒瓶中并且在40'C的干燥空氣下攪拌10分鐘。將丙烯酰氯(分子量90.51，2.14克，0.0237摩爾)在15分鐘的間期內逐滴加入到燒瓶中。反應是放熱的并且攪拌24小時。從加熱中取出產物并且與15毫升的2N(水溶液)HCl在室溫下攪拌15分鐘，然后放置于分液漏斗中以除去水相(pH-l)。然后將產物與100毫升水在室溫下攪拌15分鐘，然后放置于分液漏斗中以除去水相。當pH值等于4時再重復三次該工序。利用5克硫酸鎂干燥該產物并且在Bttchner漏斗上進行過濾。在旋轉蒸發器(溫度55°C;真空28托)上濃縮有機層。39HFPO-C(0)NHCH2CH2CH2N(CH3)C(0)CH=CH2的tH-NMR與所需的產物相符。實例10<formula>formulaseeoriginaldocumentpage40</formula>將HFPO-C(0)NHCH2CH2CH2N(CH3)C(0)CH-CH2(分子量1322，7克，0.0053摩爾)和HN((CH2)3Si(OCH3)3)2(分子量:341，1.90克，0.0056摩爾)注入到配備有磁力攪拌棒和入口銜接子的50毫升的l頸圓底燒瓶中并且在55'C的干燥空氣下攪拌24小時。HFPO-C(0)NHCH2CH2CH2N(CH3)C(0)CH2CH2N((CH2)3Si(OCH3)3)2的iH-NMR示出了所需的產物。實施例11.fHFPO-C(0)NHCH2CH2OC(0)CH2CH2)2N(CH2hSi(OCH^在N2的大氣環境下將HFPO-C(0)NHCH2CH2OC(0)CH=CH2(5克，0.00357摩爾)注入到配備有磁力攪拌棒、N2入口和回流冷凝器的100毫升的3頸圓底燒瓶中。將3-氨基丙基三甲氧基硅垸(0.3203克，0.001786摩爾)在15分鐘的間期內逐滴加入到燒瓶中。反應是放熱的，并且在室溫下攪拌30分鐘。之后將反應混合物在55'C下加熱12小時。利用NMR分析獲得的透光粘性油。實例12.HFPO-C(0顧CH2CH20C(0)CH2CH2N(CH!)(CH^Si(OCH^在N2的大氣環境下將HFPO-CONHCH2CH2OCOCH=CH2(5克，0.00357摩爾)注入到配備有磁力攪拌棒、N2入口和回流冷凝器的100毫升的3頸圓底燒瓶中。接下來，3-(甲基)氨基丙基三甲氧基硅垸(0.69克，0.00357摩爾)在15分鐘的間期內逐滴加入到燒瓶中。反應是放熱的，并且在室溫下攪拌30分鐘。之后將反應混合物在55'C下加熱12小時。獲得了透光粘性油。40通過浸涂處理眼科透鏡將選定的含氟硅烷在NovecTMHFE-7100(得自3M公司的氫氟醚)中的0.1%的溶液放置在浸涂機的玻璃容器中。以15毫米/秒的速度將清潔的透鏡浸入到溶液當中，使之保持浸沒2秒。然后以15毫米/秒的速度從溶液中取出透鏡。在空氣中干燥涂布的透鏡30分鐘，然后以類似的浸入和取出速度將其浸入到0.1。/。的HC1溶液當中。用氮氣吹走任何過量的酸。將透鏡放置于鋁盤中并且在60'C的烘箱中固化30分鐘。通過化學氣相沉積(CVD)處理眼科透鏡在3xl0"托壓下的氣相沉積室中，利用本發明選定的的含氟硅垸中的每一種來處理清潔的透鏡。硅烷的汽化溫度的范圍為350-500°C。然后在環境條件下固化涂層。據信聚碳酸酯AirWearCrizal抗反射透鏡坯料(可得自EssilorUSA,St.Petersburg，FL)具有抗劃傷硬涂層、抗反射(AR)涂層以及疏水的表涂層。據信AR涂層具有含有氧化鋯/氧化硅/氧化鋯/氧化硅的四層CVD涂層。為了移除疏水的表涂層并且允許沉積本發明的含氟硅垸，將市售的透鏡坯料利用異丙醇進行沖洗并且利用鼓風機干燥，然后在HarrickPDC陽32GCleaner/Sterilizer(HarrickScientific公司，Pleasantville，NY)中暴露于真空等離子3分鐘。流干時間測試對于這項測試，使用浸涂機確定液體在經處理的眼科透鏡上的流干時間。將經處理的透鏡浸入到液體(油酸或異丙醇(IPA))當中并隨后再取出來。用于測試的取出速度為每秒5厘米(2英寸)。用計時器測量液體完全流干所需的時間。表1顯示出測量的用于比較異丙醇和油酸在選擇的CVD和浸涂的聚碳酸酯透鏡上的流干時間。根據該數據，通常與浸涂相比，透鏡的CVD涂布對于IPA和油酸均導致較短的流干時間。流干時間用于測量經處理透鏡的光滑度，液體完全流干所需的時間越短，則表面越光滑。液體的較快流干也是較好的疏水疏油表面的表征。靜態和動態接觸角靜態前進和后退接觸角的測試可對涂層材料的表面性能提供快速和精確的預測。使用配備了用于控制和數據處理的計算機的KrussG120和ASTVCA2500XE視頻接觸角系統(ASTProducts,Inc.)測量經處理的透鏡(在干燥和固化后)的接觸角。數據是對于水和正十六垸產生的。表2匯總了采取CVD和浸涂方法用各種硅垸處理的透鏡的靜態前進和后退接觸角。對所有經處理的透鏡測量的接觸角都高，但一般而言，通過浸涂處理的透鏡的接觸角略高。經處理的透鏡的滯后-最大(前進)和最小(后退)接觸角之間的差異被稱為接觸角滯后，其表征了表面的不均一性、粗糙度以及移動性。可能經涂布的表面的易清潔性能與接觸角滯后是相關的。較高的后退接觸角將有助于從經處理的表面移除染色的液體。因此，接觸角滯后越小，性能越好。表1列出了若干經處理的透鏡的滯后。耐久性測試按如下方式確定透鏡上的耐久性硅烷處理利用LensEraserAbrasionTester(可得自ColtsLaboratories,Inc.，Clearwater,FL)以及3M高性能Cloth(Scotch-BriteMicrofiberDustingCloth，得自3MCompany,St.Paul,MN)使經處理的透鏡經受2.27千克(5磅)負荷下的500個周期的磨損測試。然后采用上述的方法再次測量經處理的透鏡在磨損測試后的接觸角。表2顯示經處理的透鏡在耐磨性測試之后的接觸角數據。表3顯示經浸涂處理的透鏡分別在耐磨性測試之前和之后42的接觸角數據。粘附力和切邊測試運行該測試以確定墊片在切割操作中將透鏡保持在切邊器中位置的能力，這存在于透鏡的邊緣或周邊的加工中以使其符合所需的框架尺寸。將從轉換墊片III(可得自3M公司,StPaul,MN)的一側密封的紙張剝離并且涂覆至涂布透鏡的中央，該透鏡利用30厘米(12VV')的條穩固地附連在扭矩設備中。將作為在透鏡旋轉時保持透鏡定位的裝置的阻擋物施加到轉換墊片III的另一側上。將扭矩設備與墊片和透鏡插入到切邊器中(將阻擋物凸緣對齊到阻擋塊當中是至關重要的)，用2.86大氣壓(42psi)的壓力強有力地擠壓墊片。扭矩設備的頂端與扭矩刻度上的零度對齊。利用彈簧秤施加一分鐘的0.45千克(6磅)的水平力并且以距離零位置的度數來記錄扭矩設備在扭矩刻度上的新位置。如果扭矩度數小于或等于5，則認為它在切邊過程中具有足夠的粘附力和保持透鏡的能力。本發明的硅烷處理的測試結果示于表2中。用于比較的Alize透鏡坯料(可得自EssilorUSA)的扭矩度數〉15，這對于切邊過程需要專門的臨時性涂層(參見WO01/68384和US2004/0253369)。在本發明中描述的新的硅垸處理全部通過了扭矩測試。如果在扭矩測試之前首先利用異丙醇洗滌FC硅烷的CVD涂布的透鏡，那么粘附力得到了改善并且通過了該測試。因此，本發明的硅垸處理并不需要針對切邊過程的專門的臨時性涂層。<table>tableseeoriginaldocumentpage44</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage45</column></row><table>權利要求1.一種化合物，由如下化學式表示其中Rf為含氟基團；R1為共價鍵、多價的亞烷基或亞芳基或它們的組合，所述亞烷基任選地包含一個或多個鏈中氧或氮原子R2由如下化學式表示其中X2為-O、-S-或-NR4-，其中R4為H或C1-C4烷基，R5為C1-C4烷基或-R6-Si(Yp)(R7)3-p或(Rf)x-R1-X2-C(O)-CH2CH2-；R6為二價亞烷基，所述亞烷基任選地包含一個或多個鏈中氧原子；Y為可水解基團，R7為單價烷基或芳基，p為1、2或3，并且x和y各自獨立地為至少1，并且z為1或2。2.根據權利要求l所述的化合物，其中Rf由如下化學式表示:<formula>formulaseeoriginaldocumentpage2</formula>其中Rf1為單價的全氟垸基或全氟氧垸基或二價的全氟亞垸基或全氟氧亞垸基，Q為共價鍵或者二價的亞烷基或亞芳基，所述亞烷基任選地包含一個或多個鏈中雜原子，x2為-0-、-NR4-或-S-，其中R4為H或Cr(V烷基，z為1或2，并且v為0或1。3.根據權利要求1所述的組合物，其中W為由含氟丙烯酰基化合物和氨基硅垸之間的邁克爾反應生成的含硅垸部分。4.根據權利要求1所述的化合物，其中Rf包含選自單價的全氟垸基和全氟氧垸基以及二價的全氟亞垸基和全氟氧亞垸基的含氟基團。5.根據權利要求2所述的化合物，其中R/為單價的全氟氧垸基或包含一個或多個全氟化重復單元的二價的全氟氧亞垸基，所述全氟化重復單元選自_(CnF2nO)-、-(CF(Z)O)-、-(CF(Z)CnF2nO)-、-(CnF2nCF(Z)0)-、-(CF2CF(Z)0)-以及它們的組合，其中n為1至4，和Z為全氟烷基、全氟垸氧基或全氟氧烷基。6.根據權利要求2所述的化合物，其中R/包括由以下化學式表示的基團W-Rf3-0-Rf4-(Rf5)q-其中對于單價的全氟氧烷基，W為F，和對于二價的全氟氧亞烷基，W為開放化合價("-");RfS表示全氟亞烷基，Rf4表示全氟亞垸基氧基，所述全氟亞垸基氧基由具有1、2、3或4個碳原子的全氟氧亞烷基或這樣的全氟氧亞垸基的混合物組成，RfS表示全氟亞烷基，并且q為0或1。7.根據權利要求4所述的化合物，其中所述全氟氧亞垸基選自以下的一個或多個基團-[CF2-CF2-0]r-;-[CF(CF3)-CF2-0]s-;-[CF2CF2-0]r-[CF20]t-;-[CF2CF2CF2CFrO]u以及-[CF2-CF2-0]r-[CF(CF3)-CF2-0]s-;其中每個r、s、t以及u各自為l至50的整數。8.根據權利要求1所述的化合物，其中Rf包含單價的全氟氧亞垸基并且z為2。9.根據權利要求2所述的化合物，其中R/為單價的全氟氧垸基并且z為1。10.根據權利要求1所述的化合物，其中Rf由氟化的一元醇或多元醇生成。11.根據權利要求l所述的化合物，其中Y為鹵素、d-C4垸氧基或CrC4酰氧基。12.根據權利要求2所述的化合物，其中硅垸基團與Rf基團之間的摩爾比大于1:1。13.根據權利要求2所述的化合物，所述化合物衍生自由如下化學式表示的親核的丙烯酰基化合物<formula>formulaseeoriginaldocumentpage5</formula>Rf為含氟基團；W為共價鍵、多價的亞烷基或亞芳基或它們的組合，所述亞烷基任選地包含一個或多個鏈中氧或氮原子-乂2為-O、—S-或-NR4-，其中R4為H或C廣C4垸基，y至少為1，并且z為1或2。14.根據權利要求1所述的化合物，所述化合物衍生自由如下化學式表示的氨基硅垸<formula>formulaseeoriginaldocumentpage5</formula>其中R5為Q-CV烷基或-R6-Si(Yp)(R7)3-p;W為二價亞烷基，所述亞垸基任選地包含一個或多個鏈中氧原子；Y為可水解基團，W為單價烷基或芳基，p為1、2或3，優選為3。15.—種涂料組合物，其包含至少一種根據權利要求1所述的化合物和溶劑。16.根據權利要求15所述的涂料組合物，其還包含倍半硅氧烷。17.—種化合物，其包含氨基硅烷與具有丙烯酸酯側基基團的含氟化合物的邁克爾加成反應的產物；所述含氟化合物包含親電的含氟化合物與親核的丙烯酰基化合物的反應產物。18.根據權利要求l所述的化合物，由如下化學式表示<formula>formulaseeoriginaldocumentpage6</formula>其中Rf為含氟基團；乂2為—O、-S-或一NR4-，其中R4為H或Q-Q烷基，R5為C廣C4烷基或-R6-Si(Yp)(R7)3-p或(Rf)x-X2-C(0)-CH2CH2-;W為二價亞垸基，所述亞垸基任選地包含一個或多個鏈中氧原子；Y為可水解基團，R"為單價烷基或芳基，p為1、2或3,并且z為1或2。19.一種涂料組合物，其包含根據權利要求1所述的化合物和溶劑。20.—種涂布的方法，其包括使基底與根據權利要求19所述的涂料組合物相接觸的步驟。21.—種涂布的制品，其包括具有固化的涂層的基底，所述涂層為根據權利要求1所述的硅垸化合物的涂層。22.根據權利要求21所述的涂布制品，其中所述基底為抗反射基底，該抗反射基底包括具有一種或多種金屬氧化物的金屬氧化物膜的抗反射表面。23.根據權利要求22所述的制品，其中所述抗反射表面包括真空沉積的金屬氧化物膜。24.根據權利要求21所述的制品，其中所述硅垸化合物通過氣相沉積進行涂布。25.根據權利要求21所述的制品，其包括具有第一表面和第二表面的透明基底；在所述第一表面至少一部分上的抗反射涂層；以及沉積到所述抗反射涂層上的所述硅烷的涂層。26.根據權利要求25所述的制品，其中所述透明基底包含柔性有機聚合物材料。全文摘要描述了含氟硅烷化合物以及由其衍生的涂料組合物。所述化合物和組合物可以用于處理基底，特別是具有諸如陶瓷或玻璃之類的硬質表面的基底，以使它們防水、防油、抗污漬、以及抗污垢。式(I)中R²由式(II)表示。文檔編號C07F7/18GK101679461SQ200880007561公開日2010年3月24日申請日期2008年2月22日優先權日2007年3月8日發明者奧斯卡·S·本茲,托馬斯·P·克倫,蘇賴斯·艾耶爾,韋恩·W·凡申請人:3M創新有限公司