專利名稱：用于光刻法的旋壓玻璃抗反射涂層的吸收性化合物的制作方法
技術領域：
本發明一般地涉及光吸收旋壓玻璃材料，更具體地涉及可以引入旋壓玻璃材料的吸收性化合物，其在光刻法中用作抗反射層，以及生產吸收性化合物的方法。
背景技術：
為了滿足更快性能的要求，集成電路設備部件的特征尺寸不斷減小。具有較小部件尺寸的設備的制造在許多通常用于半導體制造的方法中帶來了新的挑戰。這些制造方法中最重要的一種是光刻法。
長期以來已經認識到，通過光刻法生產的圖案中的線寬度偏差可能源于從半導體片上底層反射的光的光學干涉。由于底層的表面形態引起的光致抗蝕劑厚度的偏差同樣誘導線寬度偏差。涂覆在抗光蝕劑層下的抗反射涂層(ARC)已經被用于防止來自照射光束反射的干涉。此外，抗反射涂層部分地平面化薄片的表面形態，有助于改善梯級上的線寬度偏差，因為光致抗蝕劑的厚度更均勻。
有機聚合物薄膜，尤其是在通常用于曝光抗光蝕劑的i-線(365nm)和g-線(436nm)波長和最近使用的248nm波長具有吸收的那些，通常被用作抗反射涂層。然而，有機ARC與有機抗光蝕劑共有許多化學性能的事實可能限制可用的加工程序。此外有機ARC可能與抗光蝕劑層混合。避免混合的一種解決方案是引入熱固性粘結劑作為有機ARC另外的組分，例如在Flaim等的美國專利號5,693,691中描述的。染料也可以引入有機ARC，以及任選地另外的添加劑，例如潤濕劑、增粘劑、防腐劑和增塑劑，如Arnold等的美國專利號4,910,122所描述的。
氮氧化硅是另一種已經用作抗反射涂層的材料。然而，氮氧化硅與ARC一樣通過相消干涉方法而不是通過吸收起作用，其意味著必需非常嚴格控制氧氮化物厚度，并且該材料不能如ARC那樣在高度變化的表面形態上起作用。此外，氮氧化硅通常通過化學蒸汽淀積進行沉積，而抗光蝕劑層通常使用旋壓-涂布機涂覆。額外的化學蒸汽淀積方法增加了加工復雜性。
可以用作抗反射層的另一類材料是包含染料的旋壓玻璃(SOG)組合物。Yau等美國專利號4,587,138公開了與旋壓玻璃混合的染料，例如堿性黃#11，其量為大約1重量％。Allman等美國專利號5,100,503公開了交聯的聚硅氧烷，其包含無機染料，例如TiO2、Cr2O7、MoO4、MnO4或者ScO4和增粘劑。Allman另外教導了也作為平面化層的旋壓玻璃組合物。然而，迄今已經公開的旋壓玻璃、染料混合物對于暴露于深紫外、尤其是248和193nm光源不是最佳的，而這些光源正在被普遍地用于生產具有小的部件尺寸的設備。此外，不是所有染料都可以容易地引入任意的旋壓玻璃組合物中。
因此需要在深紫外光譜區中具有強烈吸收性的化合物，其可以被引入旋壓玻璃組合物，以提供抗反射涂層，同時需要合成這類吸收性化合物的方法。
發明概述用于深紫外光刻法的抗反射涂層材料包括引入旋壓玻璃(SOG)材料中的一種或多種有機吸收性化合物。按照本發明的實施方案，吸收性類醚化合物，其包含通過氧鍵連接到萘或者蒽發色團的硅乙氧基、硅二乙氧基或者硅三乙氧基物質，被用作有機吸收性化合物。該吸收性類醚化合物具有通式C14H9(CH2)nOSiRm(OC2H5)3-m或者C10H8(CH2)nOSiRm(OC2H5)3-m，其中n＝1-3，m＝0-2，和R是氫或者烷基基團，例如甲基、乙基或者丙基基團。
合成本發明的光吸收類醚化合物的方法基于醇取代的發色團與乙酰氧基硅化合物在化學計量量的醇存在下的反應，該乙酰氧基硅化合物具有通式RmSi(OCOCH3)4-m其中反應物的摩爾比為1∶1∶3-m。例如，9-蒽甲氧基-甲基二乙氧基硅烷的合成使用9-蒽甲醇、甲基三乙酰氧基硅烷(MTAS)和乙醇以1∶1∶2的摩爾比作為反應物來進行。反應物與丙酮或者適合的選擇性的酮混合以形成反應混合物，將其攪拌足夠長時間以形成產品，然后通過惰性氣體凈化或者通過真空抽出除去乙酸副產品。
可以將吸收性類醚化合物引入旋壓玻璃材料中，其包括甲基硅氧烷、甲基硅倍半氧烷、苯基硅氧烷、苯基硅倍半氧烷、甲基苯基硅氧烷、甲基苯基硅倍半氧烷和硅酸鹽聚合物。在此，旋壓玻璃材料也包括通式為(H0-1.0SiO1.5-2.0)x的氫硅氧烷聚合物，和氫硅倍半氧烷聚合物，其具有通式(HSiO1.5)x，其中x大于約8。還包括氫硅倍半氧烷和烷氧基氫化硅氧烷或者羥基氫化硅氧烷的共聚物。旋壓玻璃材料還包括有機氫化硅氧烷聚合物，其通式為(H0-10SiO1.5-2.0)n(R′0-1.0SiO1.5-2.0)m，和有機氫化硅倍半氧烷聚合物，其通式為(HSiO1.5)n(R′SiO1.5)m，其中m大于0和n和m的和大于約8和R′是烷基或者芳基。引入了吸收性化合物的旋壓玻璃材料的涂料溶液被用來在各種集成電路設備中的層上形成抗反射薄膜。
按照本發明的另一方面，還提供了合成吸收性旋壓玻璃組合物的方法，該吸收性旋壓玻璃組合物包含吸收性醚化合物。
附圖描述
圖1描繪了按照本發明的實施方案、用于使用甲基三乙酰氧基硅烷合成9-蒽甲氧基-甲基二乙氧基硅烷的反應流程。
詳細說明用于深紫外光刻法的抗反射涂層材料包括引入旋壓玻璃(SOG)材料中的一種或多種有機吸收性化合物。吸收性旋壓玻璃組合物被溶于適當的溶劑以形成涂料溶液和施加到各種在制造半器件中的材料層。吸收性旋壓玻璃抗反射涂層已經被設計成能容易地應用到現有半導體制造方法中。提供應用的性能包含顯影劑耐受性、在標準光致抗蝕劑工藝期間的熱穩定性和相對于底層的選擇脫除。
許多萘-和蒽-基化合物在248nm和低于248nm具有顯著的吸收。苯-基化合物、在此相等地稱作苯基-基化合物在短于200nm的波長具有顯著的吸收。雖然這些萘-、蒽-和苯基-基化合物經常地被稱為染料，在此使用術語吸收性化合物，因為這些化合物的吸收不局限于可見光譜區中的波長。然而，不是所有這類吸收性化合物可以被引入旋壓玻璃用作ARC材料。適用于本發明的吸收性化合物，在例如248nm、193nm或者其他可以用于光刻法的紫外線波長例如365nm周圍具有至少大約10nm寬波長范圍的吸收峰。僅僅具有窄吸收峰，例如在這些波長周圍小于2nm寬的吸收性化合物不是適合的。
適合的吸收性化合物的發色團通常具有一個、兩個或者三個苯環，其可以是稠合的或者不是稠合的。可結合的吸收性化合物具有可使用的、連接到發色團的活性基團，該活性基團包括羥基基團、胺基團、羧酸基團和取代的甲硅烷基基團，其中硅鍵接到一個、兩個或者三個“離去基團”，例如烷氧基基團或者鹵素原子。乙氧基或者甲氧基基團或者氯原子常常被用作離去基團。因此，適合的活性基團包括硅乙氧基、硅二乙氧基、硅三乙氧基、硅甲氧基、硅二甲氧基、硅三甲氧基、氯代甲硅烷基、二氯代甲硅烷基和三氯代甲硅烷基基團。用于旋壓玻璃組合物的結合的吸收性化合物的特定例子描述于美國專利申請序列號09/491,166，其與本申請普通轉讓并且在此引入作為參考。包含具有一個或多個乙氧基鍵接到硅的活性基團已經發現是有利的，特別是對于提高吸收性SOG薄膜的熱穩定性。
按照本發明的一個方面，可結合的吸收性化合物包括作為活性基團通過氧鍵連接到萘或者蒽發色團的硅乙氧基、硅二乙氧基或者硅三乙氧基物質。因此，本發明的吸收性化合物是類似醚的。(如果吸收性化合物中的硅原子被碳原子替代，該化合物將被嚴格地分類為醚。)該化合物可以具有以下通式結構 其中，n＝1-3，m＝0-2，和R是氫或者烷基基團，例如甲基、乙基或者丙基基團。結構1和2舉例說明其中活性基團在具體的取代基位置連接到發色團的化合物。其中活性基團連接到選擇性位置的類似的化合物，其全部通過通式C14H9(CH2)nOSiRm(OC2H5)3-m或者C10H8(CH2)nOSiRm(OC2H5)3-m描述，也包括在本發明中。
合成結構1和2的光吸收類醚化合物的方法基于醇取代的稠環發色團與乙酰氧基硅化合物在醇存在下的反應。乙酰氧基硅反應物由通式RmSi(OCOCH3)4-m給出，其中R和m在以上定義。有用的乙酰氧基硅化合物的具體的例子包括甲基三乙酰氧基硅烷(MTAS)、四乙酰氧基硅烷(TAS)、二甲基二乙酰氧基硅烷和二乙基二乙酰氧基硅烷。有用的醇包括甲醇、乙醇和丙醇。
例如合成9-蒽甲氧基-甲基二乙氧基硅烷3 使用摩爾比為1∶1∶2的9-蒽甲醇、MTAS和乙醇作為反應物。如可以從圖1的反應機理理解的，MTAS上的一個乙酰氧基基團與9-蒽甲醇上的-CH2OH反應形成含硅活性基團的醚鍵和乙酸，而MTAS上的兩個乙酰氧基基團與乙醇反應形成乙氧基和乙酸。在該合成法中，反應物與丙酮，或者選擇性的酮例如甲基異丁基酮(MIBK)或者甲乙酮混合，形成反應混合物，其被攪拌足夠長時間以形成產品3，通常幾天，然后通過用惰性氣體凈化或者通過真空抽出除去乙酸副產品。從該反應機理可以理解，一般說來醇取代的稠環化合物與乙酰氧基硅化合物，RmSi(OCOCH3)4-m與醇的比例為1∶1∶3-m。
可以引入旋壓玻璃材料中的吸收性類醚化合物包括甲基硅氧烷、甲基硅倍半氧烷、苯基硅氧烷、苯基硅倍半氧烷、甲基苯基硅氧烷、甲基苯基硅倍半氧烷和硅酸鹽聚合物。在此，旋壓玻璃材料也包括通式為(H0-1.0SiO1.5-2.0)x的氫硅氧烷聚合物，和氫硅倍半氧烷聚合物，其具有通式(HSiO1.5)x，其中x大于約8。還包括氫硅倍半氧烷和烷氧基氫化硅氧烷或者羥基氫化硅氧烷的共聚物。旋壓玻璃材料還包括有機氫化硅氧烷聚合物，其通式為(H0-1.0SiO1.5-2.0)n(R′0-1.0SiO1.5-2.0)m，和有機氫化硅倍半氧烷聚合物，其通式為(HSiO1.5)n(R′SiO1.5)m，其中m大于0和n和m的和大于約8和R′是烷基或者芳基。某些有用的有機氫化硅氧烷聚合物的n和m的和為約8到約5000，其中R′為C1-C20烷基基團或者C6-C12芳基基團。有機氫化硅氧烷和有機氫化硅倍半氧烷聚合物是可選擇地表示的旋壓聚合物。特定的例子包括甲基氫化硅氧烷、乙基氫化硅氧烷、丙基氫化硅氧烷、叔丁基氫化硅氧烷、苯基氫化硅氧烷、甲基氫化硅倍半氧烷、乙基氫化硅倍半氧烷、丙基氫化硅倍半氧烷、叔丁基氫化硅倍半氧烷、苯基氫化硅倍半氧烷和其混合物。
在吸收性旋壓玻璃組合物中，吸收性化合物可以填隙地引入旋壓玻璃基質。可選擇地，吸收性化合物化學地鍵接到旋壓玻璃聚合物。不束縛于任何理論，本發明人建議可結合的吸收性化合物通過可使用的活性基團對旋壓玻璃聚合物主鏈的鍵接提供有益結果。
旋壓玻璃材料通常合成自各種硅烷反應物，包括例如三乙氧基硅烷(HTEOS)、四乙氧基硅烷(TEOS)、甲基三乙氧硅烷(MTEOS)、二甲基二乙氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、四甲氧基硅烷(TMOS)、甲基三甲氧基硅烷(MTMOS)、三甲氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷(PTEOS)、苯基三甲氧基硅烷(PTMOS)、二苯基二乙氧基硅烷和二苯基二甲氧基硅烷。鹵代硅烷，尤其是氯硅烷例如三氯硅烷、甲基三氯硅烷、乙基三氯硅烷、苯基三氯硅烷、四氯化硅、二氯甲硅烷、甲基二氯硅烷、二甲基二氯硅烷、氯三乙氧基硅烷、氯三甲氧基硅烷、氯甲基三乙氧基硅烷、氯乙基三乙氧基硅烷、氯苯基三乙氧基硅烷、氯甲基三甲氧基硅烷、氯乙基三甲氧基硅烷和氯苯基三甲氧基硅烷也被用作硅烷反應物。為了生產吸收性旋壓玻璃組合物，吸收性醚化合物，例如結構(1)或者(2)或者結構(1)和/或(2)及其他吸收性化合物的混合物，在合成SOG材料期間與硅烷反應物混合。
在生產吸收性旋壓玻璃組合物的一般方法中，在反應器中形成包含以下的反應混合物硅烷反應物，例如HTEOS，或者TEOS和MTEOS，或者TMOS和MTMOS；或者，可選擇地四氯化硅和甲基三氯硅烷，一種或多種吸收性化合物；溶劑或者溶劑混合物；和酸/水混合物。適當的溶劑包括丙酮、異丙醇及其他簡單的醇、酮和酯例如1-丙醇、MIBK、丙氧基丙醇和乙酸丙酯。酸/水混合物是例如硝酸和水。其他質子酸或者酸酐，例如乙酸、甲酸、磷酸、鹽酸或者乙酸酐可選擇地被用于酸混合物。得到的混合物在約30和80℃之間的溫度保持大約1到24小時以生產吸收性SOG聚合物溶液。
吸收性SOG可以用適當的溶劑稀釋以獲得涂料溶液，其產生各種厚度的薄膜。適合的稀釋劑溶劑包括丙酮、異丙醇、乙醇、丁醇、甲醇、乙酸丙酯、乳酸乙酯、丙二醇單甲醚乙酸酯和丙二醇丙醚，商業上稱為Propasol-P。高沸點的稀釋劑溶劑例如乳酸乙酯和丙二醇丙醚被認為是有益的。認為高沸點溶劑降低形成泡膜缺陷的概率。與此相反，較低沸點的溶劑可以在薄膜的交聯頂層下面截留和隨后當在烘烤過程步驟期間除去時產生砂眼。可用于本發明的其他溶劑包括乙二醇二甲醚，可以稱作甘醇二甲醚，苯甲醚、二丁醚、二丙醚和戊醇。任選地，表面活性劑例如產品FC430，由3M(Minneapolis，MN)提供，或者產品Megaface R08，由DIC(Japan)提供，也被加入到涂料溶液中。涂料溶液通常包含約0.5和20％重量之間的聚合物。在使用之前，該涂料溶液通過標準過濾技術過濾。
形成吸收性有機氫化硅氧烷材料的方法包括形成雙相溶劑的混合物，其包括非極性溶劑和極性溶劑兩者和相轉移催化劑；加入一種或多種有機三鹵硅烷、氫化三鹵硅烷和一種或多種吸收性化合物，以提供雙相反應混合物；和反應該雙相反應混合物1到24小時，以生產吸收性有機氫化硅氧烷聚合物。相轉移催化劑包括，但是不局限于，四丁銨氯化物和芐基三甲基銨氯化物。示例性的非極性溶劑包括，但是不局限于，戊烷、己烷、庚烷、環己烷、苯、甲苯、二甲苯、鹵代溶劑例如四氯化碳及其混合物。有用的極性溶劑包括水、醇和醇和水混合物。吸收性聚合物溶液如上所述被稀釋和過濾以形成涂料溶液。
吸收性SOG涂料溶液被施加到各種用于半導體加工的層，取決于特定的制造方法，通常通過常規的旋壓沉積技術。這些技術包括分配旋壓、厚度旋壓和熱烘烤步驟，以生產吸收性SOG抗反射薄膜。典型工藝包括在1000和4000rpm之間持續約20秒的厚度旋壓和在80℃和300℃之間的溫度每個持續約1分鐘的兩個或三個烘烤步驟。如在以下實施例2中報告的，含有結構(3)吸收性醚的吸收性SOG抗反射薄膜具有大于0.18的消光系數。
合成9-蒽甲氧基-甲基二乙氧基硅烷3、9-蒽甲氧基-三乙氧基硅烷和包含這些吸收性化合物的吸收性SOG材料的方法描述在下面的實施例中。
實施例19-蒽甲氧基-甲基二乙氧基硅烷的合成在3升燒瓶中，混合92.37克(0.419mol)甲基三乙酰氧基硅烷(MTAS)、87.36克(0.419mol)9-蒽甲醇、38.56克(0.839mol)乙醇、595.51克(10.20mol)丙酮。將該溶液在氮氣氛中攪拌7天。將該溶液脫氣以除去乙酸副產品。
實施例2含9-蒽甲氧基甲基二乙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1-升燒瓶中，將297克(4.798mol)異丙醇、148克(2.55gmol)丙酮、123克(0.593mol)TEOS、77克(0.432mol)MTEOS、200g的9-蒽甲氧基-甲基二乙氧基硅烷，在實施例1中生產，2.61克(0.009)mol玫紅酸、10克(0.024mol)2-羥基-4(3-三乙氧基硅烷基丙氧基)-二苯基酮、0.09克(0.0004mol)2，6-二羥蒽醌、0.6克1.0M硝酸和72克(3.716mol)去離子水混合。將燒瓶回流4小時。將43克(0.590mol)丁醇加入該溶液。將所述溶液過濾。將該溶液分配，然后進行3000rpm厚度旋壓20秒并在80℃和180℃分別烘烤1分鐘。光學性質用N & KTechnology Model 1200分析儀測定。薄膜厚度為2801埃。在248nm，折射率(n)為1.470和消光系數(k)為0.185。
實施例39-蒽甲氧基-三乙氧基硅烷的合成在3升燒瓶中，混合110.73克(0.419mol)四乙酰氧基硅烷(TAS)、87.36克(0.419mol)9-蒽甲醇、57.98克(1.2585mol)乙醇、595.51克(10.20mol)丙酮。將該溶液在氮氣氛中攪拌7天。將該溶液脫氣以除去乙酸副產品。
實施例4含9-蒽甲氧基-三乙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1-升燒瓶中，將297克(4.798mol)異丙醇、148克(2.558mol)丙酮、123克(0.593mol)TEOS、77克(0.432mol)MTEOS、200g的9-蒽甲氧基-三乙氧基硅烷，在實施例3中生產，0.6克1.0M硝酸和72克(3.716mol)去離子水混合。將燒瓶回流4小時。將43克(0.590mol)丁醇加入該溶液。將所述溶液過濾。
實施例5含9-蒽甲氧基甲基二乙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1-升燒瓶中，將297克(4.798mol)異丙醇、148克(2.558mol)丙酮、123克(0.593mol)TEOS、77克(0.432mol)MTEOS、200g的9-蒽甲氧基-甲基二乙氧基硅烷，在實施例1中生產，0.6克1.0M硝酸和72克(3.716mol)去離子水混合。將燒瓶回流4小時。將43克(0.590mol)丁醇加入該溶液。將所述溶液過濾。
盡管本發明已經參考具體的實施例進行了描述，該描述僅僅為本發明的實施例，不應當將其理解為限制性的。公開的實施例的各種改進和特征結合都包括在如以下權利要求所定義的發明范圍內。
權利要求
1.制造光吸收類醚化合物的方法，該方法包括混合醇取代的稠合的苯環化合物，該稠環化合物包含兩個或三個環，乙酰氧基硅化合物、醇和溶劑，以生產反應混合物；攪拌該反應混合物足夠的時間以形成光吸收醚化合物；和除去酸性副產品。
2.權利要求1的方法，其中乙酰氧基硅化合物具有通式RmSi(OCOCH3)4-m其中R選自氫、甲基、乙基和丙基，和m＝0-2，和其中稠環化合物、乙酰氧基硅化合物和醇以1∶1∶3-m的化學計量比混合。
3.權利要求2的方法，其中乙酰氧基硅化合物是甲基三乙酰氧基硅烷。
4.權利要求2的方法，其中稠環化合物是9-蒽甲醇。
5.權利要求2的方法，其中所述醇是乙醇。
6.權利要求3的方法，其中所述光吸收醚化合物是9-蒽甲氧基-甲基二乙氧基硅烷。
7.一種光吸收旋壓玻璃組合物，其包含硅氧烷聚合物和吸收性類醚化合物，該類醚化合物包含兩個或三個稠合的苯環和連接選自硅乙氧基、硅二乙氧基和硅三乙氧基的含硅物質的氧鍵。
8.權利要求7的組合物，其中吸收性醚化合物具有通式C14H9(CH2)nOSiRm(OC2H5)3-m或者C10H8(CH2)nOSiRm(OC2H5)3-m，其中n＝1-3，m＝0-2和R選自氫、甲基、乙基和丙基。
9.權利要求8的組合物，其中所述吸收性醚化合物是9-蒽甲氧基-甲基二乙氧基硅烷。
10.權利要求7的組合物，其中所述硅氧烷聚合物是選自甲基硅氧烷、甲基硅倍半氧烷、苯基硅氧烷、苯基硅倍半氧烷、甲基苯基硅氧烷、甲基苯基硅倍半氧烷和硅酸鹽聚合物的聚合物。
11.權利要求7的組合物，其中所述硅氧烷聚合物是選自氫硅氧烷、氫硅倍半氧烷、有機氫化硅氧烷和有機氫化硅倍半氧烷聚合物和氫硅倍半氧烷和烷氧基氫化硅氧烷或者羥基氫化硅氧烷的共聚物的聚合物。
12.權利要求11的組合物，其中硅氧烷聚合物是具有選自以下通式的聚合物(H0-1.0SiO1.5-2.0)x，其中x大于約8，和(H0-1.0SiO1.5-2.0)n(R′0-1.0SiO1.5-2.0)m，其中m大于0，和n和m的和為約8到約5000和R′是C1-C20烷基基團或者C6-C12芳基基團。
13.一種涂料溶液，其包含權利要求7的所述吸收性旋壓玻璃組合物和溶劑或者溶劑混合物。
14.權利要求13的涂料溶液，其中所述溶液為約0.5％和約20％重量之間的吸收性旋壓玻璃組合物。
15.制造吸收性旋壓玻璃組合物的方法，其包括混合一種或多種選自烷氧基硅烷和鹵代硅烷的硅烷反應物、一種或多種可結合的有機吸收性化合物，其中至少一種有機吸收性化合物是吸收性醚化合物，其包含兩個或者三個稠合的苯環和連接選自硅乙氧基、硅二乙氧基和硅三乙氧基的含硅物質的氧鍵，酸/水混合物，和一種或多種溶劑，以形成反應混合物；和在約30和約80℃之間的溫度保持該反應混合物足夠的時間，以形成吸收性旋壓玻璃組合物。
16.權利要求15的方法，其中所述一種或多種硅烷反應物選自三乙氧基硅烷、四乙氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、四甲氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、三甲氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、二苯基二乙氧基硅烷，和二苯基二甲氧基硅烷、三氯硅烷、甲基三氯硅烷、乙基三氯硅烷、苯基三氯硅烷、四氯化硅、氯三乙氧基硅烷、氯三甲氧基硅烷、氯甲基三乙氧基硅烷、氯乙基三乙氧基硅烷、氯苯基三乙氧基硅烷、氯甲基三甲氧基硅烷、氯乙基三甲氧基硅烷和氯苯基三甲氧基硅烷。
17.權利要求16的方法，其中所述一種或多種硅烷反應物是四乙氧基硅烷和甲基三乙氧基硅烷。
18.權利要求15的方法，其中酸/水混合物是硝酸/水混合物。
全文摘要
作為有機光吸收化合物，使用了吸收性類醚化合物，其包含通過氧鍵連接到萘或者蒽發色團的硅乙氧基、硅二乙氧基或者硅三乙氧基物質。該吸收性類醚化合物被引入旋壓玻璃材料，為深紫外光刻法提供抗反射涂層材料。合成該光吸收醚化合物的方法基于醇取代的發色團與乙酰氧基硅化合物在醇存在下的反應。還提供了制造包含吸收性類醚化合物的吸收性旋壓玻璃材料的方法。
文檔編號C07F7/18GK1443218SQ01813009
公開日2003年9月17日 申請日期2001年7月12日 優先權日2000年7月17日
發明者T·巴德溫, M·里奇, J·德拉格, H·－J·吳, R·斯佩爾 申請人:霍尼韋爾國際公司