一種晶圓氧化用高溫擴散爐管的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種晶圓氧化用高溫擴散爐管，包括爐管本體，爐管本體內具有內腔，在爐管本體的一端設有第一進氣口，第一進氣口上設有第一勻氣裝置，第一勻氣裝置連接外部的第一進氣管，在爐管本體的另一端設有第二進氣口，第二進氣口上設有第二勻氣裝置，第二勻氣裝置連接外部的第二進氣管，且第一進氣口設置在爐管本體一側的上端，第二進氣口設置在爐管本體另一側的下端，在爐管本體的下端設有尾氣排放口，尾氣排放口設有過濾裝置，過濾裝置連接外部的尾氣管道，本實用新型采用非對稱設置的兩個進氣口，且均在進氣口處安裝勻氣裝置，能夠進一步過濾進入內腔的氣體，同時能夠保證氣體的均勻性，提高晶圓氧化的均勻性。
【專利說明】
一種晶圓氧化用高溫擴散爐管
技術領域
[0001]本實用新型涉及半導體設備領域，具體為一種晶圓氧化用高溫擴散爐管。
【背景技術】
[0002]擴散爐管是半導體器件制造過程中用于對硅片進行擴散、氧化及燒結等工藝的一種熱加工設備。主要反應裝置一般分為水平式和直立式兩種，半導體材料在高純凈的反應腔內進行高溫反應，此過程一般需要通入不同種類的氣體或對腔體進行抽真空處理。整個生產過程需要操作、生產設備需要純凈、輕便、耐高溫，現有的晶圓氧化爐一般為直通式進氣口，而且只設置一個，雖然設置氣體調節閥，但是氣體進入爐管后，呈不均勻性分布，容易造成晶圓表面氧化不均勻，影響晶圓質量。
【實用新型內容】
[0003]本實用新型的目的在于提供一種晶圓氧化用高溫擴散爐管，以解決上述【背景技術】中提出的問題。
[0004]為實現上述目的，本實用新型提供如下技術方案:一種晶圓氧化用高溫擴散爐管，包括爐管本體，所述爐管本體內具有內腔，在所述爐管本體的一端設有第一進氣口，所述第一進氣口上設有第一勻氣裝置，所述第一勻氣裝置連接外部的第一進氣管，在所述爐管本體的另一端設有第二進氣口，所述第二進氣口上設有第二勻氣裝置，所述第二勻氣裝置連接外部的第二進氣管，且所述第一進氣口設置在爐管本體一側的上端，所述第二進氣口設置在爐管本體另一側的下端，在所述爐管本體的下端設有尾氣排放口，所述尾氣排放口設有過濾裝置，所述過濾裝置連接外部的尾氣管道。
[0005]優選的，所述第一勻氣裝置和第二勻氣裝置結構完全一致，包括耐高溫框架，在所述耐高溫框架一端設有進氣口，所述耐高溫框架內設有第一勻氣層、第二勻氣層、第三勻氣層，且所述第一勻氣層、第二勻氣層、第三勻氣層與耐高溫框架垂直交錯布置，在所述耐高溫框架的另一端設有微孔材料層，所述微孔材料層包括基材層、粘合層、聚四氟乙烯微孔膜層，所述基材層通過粘合層連接聚四氟乙烯微孔膜層，所述聚四氟乙烯微孔膜層的微孔孔徑為I微米-20微米。
[0006]優選的，所述過濾裝置包括筒體，所述筒體為“T”字形結構，所述筒體的底部設有密封層，在所述筒體的側壁上均勻設有若干個微孔，且呈環狀分布在筒體的側壁。
[0007]與現有技術相比，本實用新型的有益效果是:本實用新型結構設計新穎，采用非對稱設置的兩個進氣口，能夠保證進入的氣體分布在晶圓的上部和下部，且均在進氣口處安裝勻氣裝置，采用的勻氣裝置包括多個勻氣層和微孔材料層，多個勻氣層交錯設置，能夠保證氣體流通的均勻性，采用的微孔材料層能夠進一步對氣體進行均勻布氣，保證了進入內腔氣體的均勻性，提高晶圓氧化的均勻性;另外本實用新型采用的過濾裝置，能夠提高氣體過濾速度，且過濾后的氣體從筒體側壁的微孔排出，能夠提高尾氣排出效率。
【附圖說明】
[0008]圖1為本實用新型的整體結構不意圖；
[0009]圖2為本實用新型的勻氣裝置結構示意圖；
[0010]圖3為本實用新型的微孔材料層剖視圖；
[0011 ]圖4為本實用新型的過濾裝置結構示意圖；
[0012]圖中:1、爐管本體;2、內腔;3、第一進氣口；4、第一勻氣裝置;5、第一進氣管;6、第二進氣口 ；7、第二勻氣裝置;8、第二進氣管;9、尾氣排放口；10、過濾裝置;11、尾氣管道;12、耐高溫框架；13、進氣口； 14、第一勻氣層；15、第二勻氣層；16、第三勻氣層;17、微孔材料層；18、基材層;19、粘合層;20、聚四氟乙烯微孔膜層;21、筒體;22、密封層;23、微孔。
【具體實施方式】
[0013]下面將結合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本實用新型中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。
[0014]請參閱圖1-4，本實用新型提供一種技術方案:一種晶圓氧化用高溫擴散爐管，包括爐管本體1，爐管本體I內具有內腔2，在爐管本體I的一端設有第一進氣口 3，第一進氣口 3上設有第一勻氣裝置4，第一勻氣裝置4連接外部的第一進氣管5，在爐管本體I的另一端設有第二進氣口 6，第二進氣口 6上設有第二勻氣裝置7，第二勻氣裝置7連接外部的第二進氣管8，且第一進氣口 3設置在爐管本體I 一側的上端，第二進氣口 6設置在爐管本體I另一側的下端，在爐管本體I的下端設有尾氣排放口 9，尾氣排放口 9設有過濾裝置10，過濾裝置10連接外部的尾氣管道11。本實用新型的勻氣層也采用微孔材料，且使用孔徑為10微米-500微米的微孔陶瓷。
[0015]本實施例中，第一勻氣裝置4和第二勻氣裝置7結構完全一致，包括耐高溫框架12，在耐高溫框架12—端設有進氣口 13，耐高溫框架12內設有第一勻氣層14、第二勻氣層15、第三勻氣層16，且第一勻氣層14、第二勻氣層15、第三勻氣層16與耐高溫框架12垂直交錯布置，在耐高溫框架12的另一端設有微孔材料層17，微孔材料層17包括基材層18、粘合層19、聚四氟乙烯微孔膜層20，基材層18通過粘合層19連接聚四氟乙烯微孔膜層20，聚四氟乙烯微孔膜層20的微孔孔徑為I微米-20微米，基材層材質為滌綸、聚酰亞胺纖維、聚苯硫醚纖維、芳綸、聚四氟乙烯纖維、腈綸、聚丙烯纖維或聚甲基丙烯酸甲酯纖維中的一種或多種，本實用新型采用非對稱設置的兩個進氣口，能夠保證進入的氣體分布在晶圓的上部和下部，且均在進氣口處安裝勻氣裝置，采用的勻氣裝置包括多個勻氣層和微孔材料層，多個勻氣層交錯設置，能夠保證氣體流通的均勻性，采用的微孔材料層能夠進一步對氣體進行均勻布氣，保證了進入內腔氣體的均勻性，提高晶圓氧化的均勻性。
[0016]本實施例中，過濾裝置10包括筒體21，筒體21為“T”字形結構，筒體21的底部設有密封層22，在筒體21的側壁上均勻設有若干個微孔23，且呈環狀分布在筒體21的側壁，本實用新型采用微孔過濾技術，能夠提高氣體過濾速度，且過濾后的氣體從筒體側壁的微孔排出，能夠提高尾氣排出效率。
[0017]各位技術人員須知:雖然本實用新型已按照上述【具體實施方式】做了描述，但是本實用新型的發明思想并不僅限于此實用新型，任何運用本發明思想的改裝，都將納入本專利專利權保護范圍內。
【主權項】
1.一種晶圓氧化用高溫擴散爐管，包括爐管本體(I)，其特征在于:所述爐管本體(I)內具有內腔(2)，在所述爐管本體(I)的一端設有第一進氣口(3)，所述第一進氣口(3)上設有第一勻氣裝置(4)，所述第一勻氣裝置(4)連接外部的第一進氣管(5)，在所述爐管本體(I)的另一端設有第二進氣口(6)，所述第二進氣口(6)上設有第二勻氣裝置(7)，所述第二勻氣裝置(7)連接外部的第二進氣管(8)，且所述第一進氣口(3)設置在爐管本體(I)一側的上端，所述第二進氣口(6)設置在爐管本體(I)另一側的下端，在所述爐管本體(I)的下端設有尾氣排放口(9)，所述尾氣排放口(9)設有過濾裝置(10)，所述過濾裝置(10)連接外部的尾氣管道(11)。2.根據權利要求1所述的一種晶圓氧化用高溫擴散爐管，其特征在于:所述第一勻氣裝置(4)和第二勻氣裝置(7)結構完全一致，包括耐高溫框架(12)，在所述耐高溫框架(12) —端設有進氣口(13)，所述耐高溫框架(12)內設有第一勻氣層(14)、第二勻氣層(15)、第三勻氣層(16)，且所述第一勻氣層(14)、第二勻氣層(15)、第三勻氣層(16)與耐高溫框架(12)垂直交錯布置，在所述耐高溫框架(12)的另一端設有微孔材料層(17)，所述微孔材料層(17)包括基材層(18)、粘合層(19)、聚四氟乙烯微孔膜層(20)，所述基材層(18)通過粘合層(19)連接聚四氟乙烯微孔膜層(20)，所述聚四氟乙烯微孔膜層(20)的微孔孔徑為I微米-20微米。3.根據權利要求1所述的一種晶圓氧化用高溫擴散爐管，其特征在于:所述過濾裝置(1 )包括筒體(21)，所述筒體(21)為“T”字形結構，所述筒體(21)的底部設有密封層(22 )，在所述筒體(21)的側壁上均勻設有若干個微孔(23)，且呈環狀分布在筒體(21)的側壁。
【文檔編號】C30B31/16GK205635862SQ201620336030
【公開日】2016年10月12日
【申請日】2016年4月19日
【發明人】蔡倫
【申請人】溫州巨亮光伏科技有限公司