一種自動高效拉晶爐的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及半導體致冷件生產技術領域的設備，特別是涉及拉晶爐。
【背景技術】
[0002]晶粒是制造半導體致冷件的部件，晶粒的主要成分是三碲化二鉍，作為制造致冷件的晶粒要求其分子排列整齊，晶粒里面的分子排列越整齊，致冷件的效率就越高。
[0003]晶粒是由晶棒切割而成的，這就要求晶棒里面的分子排列是整齊的。
[0004]制造晶棒時，對其里面的分子進行排列的過程就是拉晶，拉晶是在拉晶爐中進行的。
[0005]現有技術中，拉晶爐是一個具有腔室的爐體，爐體安裝在搖擺裝置上，晶棒的材料放置在拉晶管中，裝有材料的拉晶管放置在這樣的拉晶爐中，在加熱、搖動的情況下進行，使里面的分子重新排列，這樣的拉晶爐具有對晶棒分子排列整齊性差、拉晶效果差的缺點、還具有控制不便、浪費能源的缺點。
【發明內容】
[0006]本實用新型的目的就是針對上述缺點，提供一種拉晶效果好、便于控制、節省能源的自動高效拉晶爐。
[0007]本實用新型的技術方案是這樣實現的:一種自動高效拉晶爐，其特征是:它包括框架，在框架下面安裝傳動裝置，傳動裝置連接有絲杠，在框架中間固定有水平的底托板，框架上面有放置拉晶管的放置板，放置板上有拉晶管的放置孔，在底托板和放置板之間有引導桿，還有加熱盤在底托板和放置板之間，加熱盤可上下滑動的套接在引導桿上，所述的絲杠穿過底托板連接加熱盤。
[0008]進一步地講，所述的加熱盤上面或/和下面還有冷卻盤，加熱盤和冷卻盤之間有隔熱材料，所述的冷卻盤是導熱材料制成的，里面設置有盤旋的冷卻腔，還有冷卻液連通外部。
[0009]進一步地講，所述的加熱盤側面還安裝有偏轉電極，所述的偏轉電極是100—150Vo
[0010]進一步地講，所述的底托板上面設置有振動裝置，所述的振動裝置的振幅是2-3毫米，頻率是40赫茲。
[0011]進一步地講，所述的加熱盤、冷卻盤、偏轉電極、傳動裝置連接控制裝置。
[0012]進一步地講，所述的底托板上面有支撐拉晶管的支架。
[0013]本實用新型的有益效果是:
[0014]1、這樣的拉晶爐具有拉晶效果好、便于控制、節省能源的優點；
[0015]2、所述的加熱盤上面和下面還有冷卻盤，所述的冷卻盤是導熱材料制成的，里面設置有盤旋的冷卻腔，還有冷卻液連通外部，所述的加熱盤側面還安裝有偏轉電極，所述的偏轉電極是100— 150V，所述的底托板上面設置有振動裝置，所述的振動裝置的振幅是2-3毫米，頻率是40赫茲，具有拉晶效果更好的優點；
[0016]3、所述的加熱盤、冷卻盤、偏轉電極、傳動裝置連接控制裝置，具有自動化程度更尚的優點；
[0017]4、所述的底托板上面有支撐拉晶管的支架，具有拉晶管中的所有材料都能拉晶，不留死角的優點。
【附圖說明】
[0018]圖1是本實用新型的結構示意圖。
[0019]其中:1、框架 2、傳動裝置 3、絲杠 4、底托板 5、放置板 6、放置孔7、引導桿 8、加熱盤9、冷卻盤 10、隔熱材料11、偏轉電極 12、振動裝置 13、支架。
【具體實施方式】
[0020]下面結合附圖對本實用新型作進一步說明。
[0021]如圖1所示，一種自動高效拉晶爐，其特征是:它包括框架1，在框架I下面安裝傳動裝置2，傳動裝置2連接有絲杠3，在框架中間固定有水平的底托板4，框架上面有放置拉晶管的放置板5，放置板5上有拉晶管的放置孔6，在底托板4和放置板5之間有引導桿7，還有加熱盤8在底托板4和放置板5之間，加熱盤8可上下滑動的套接在引導桿7上，所述的絲杠3穿過底托板連接加熱盤8。
[0022]本實用新型使用時，將裝有原料的拉晶管放置在放置孔6中，拉晶管下面有底托板托著，拉晶管豎立放置，這時可以啟動加熱裝置，加熱裝置在拉晶管側面進行加熱，開動傳動裝置，絲杠運轉，加熱盤下面移動，可以對拉晶管上下不同的部位進行拉晶，具有本實用新型拉晶效果好、便于控制、節省能源的優點。
[0023]進一步地講，所述的加熱盤上面或/和下面還有冷卻盤9，加熱盤和冷卻盤之間有隔熱材料10，所述的冷卻盤是導熱材料制成的，里面設置有盤旋的冷卻腔，還有冷卻液連通外部。這樣在拉晶前后可以控制原料的溫度，能夠使拉晶的效果更好，實驗證明，用這樣的拉晶生產出的產品，致冷件效率提高9一 10%O
[0024]進一步地講，所述的加熱盤側面還安裝有偏轉電極11，所述的偏轉電極是100—150V。這樣在拉晶的偏轉電極中進行，原料的分子排列更整齊，能夠使拉晶的效果更好，實驗證明，用這樣的拉晶生產出的產品，致冷件效率提高5 — 7%。
[0025]進一步地講，所述的底托板上面設置有振動裝置12，所述的振動裝置的振幅是2-3毫米，頻率是40赫茲。這樣在拉晶的振動中進行，原料的分子排列更整齊，能夠使拉晶的效果更好，實驗證明，用這樣的拉晶生產出的產品，致冷件效率提高3 — 5%。
[0026]進一步地講，所述的加熱盤、冷卻盤、偏轉電極、傳動裝置連接控制裝置。
[0027]進一步地講，所述的底托板上面有支撐拉晶管的支架13。這樣加熱盤可以較多的向下移動，避免了拉晶管下面沒有進行拉晶，留有死角的現象。
[0028]以上所述僅為本實用新型的具體實施例，但本實用新型的結構特征并不限于此，任何本領域的技術人員在本實用新型的領域內，所作的變化或修飾皆涵蓋在本實用新型的專利范圍內。
【主權項】
1.一種自動高效拉晶爐，其特征是:它包括框架，在框架下面安裝傳動裝置，傳動裝置連接有絲杠，在框架中間固定有水平的底托板，框架上面有放置拉晶管的放置板，放置板上有拉晶管的放置孔，在底托板和放置板之間有引導桿，還有加熱盤在底托板和放置板之間，加熱盤可上下滑動的套接在引導桿上，所述的絲杠穿過底托板連接加熱盤。
2.根據權利要求1所述的拉晶爐，其特征是:所述的加熱盤上面或/和下面還有冷卻盤，加熱盤和冷卻盤之間有隔熱材料，所述的冷卻盤是導熱材料制成的，里面設置有盤旋的冷卻腔，還有冷卻液連通外部。
3.根據權利要求1所述的拉晶爐，其特征是:所述的加熱盤側面還安裝有偏轉電極，所述的偏轉電極是100— 150V。
4.根據權利要求2所述的拉晶爐，其特征是:所述的加熱盤側面還安裝有偏轉電極，所述的偏轉電極是100— 150V。
5.根據權利要求1、2、3或4所述的拉晶爐，其特征是:所述的底托板上面設置有振動裝置，所述的振動裝置的振幅是2-3毫米，頻率是40赫茲。
6.根據權利要求5所述的拉晶爐，其特征是:所述的加熱盤、冷卻盤、偏轉電極、傳動裝置連接控制裝置。
7.根據權利要求6所述的拉晶爐，其特征是:所述的底托板上面有支撐拉晶管的支架。
【專利摘要】本實用新型涉及半導體致冷件生產技術領域的設備，名稱是一種自動高效拉晶爐，它包括框架，在框架下面安裝傳動裝置，傳動裝置連接有絲杠，在框架中間固定有水平的底托板，框架上面有放置拉晶管的放置板，放置板上有拉晶管的放置孔，在底托板和放置板之間有引導桿，還有加熱盤在底托板和放置板之間，加熱盤可上下滑動的套接在引導桿上，所述的絲杠穿過底托板連接加熱盤，所述的加熱盤上面或／和下面還有冷卻盤，加熱盤和冷卻盤之間有隔熱材料，所述的冷卻盤是導熱材料制成的，里面設置有盤旋的冷卻腔，還有冷卻液連通外部，具有拉晶效果好、便于控制、節省能源的優點。
【IPC分類】C30B15-00
【公開號】CN204589369
【申請號】CN201520268704
【發明人】陳磊, 劉栓紅, 趙麗萍, 張文濤, 蔡水占, 郭晶晶, 張會超, 陳永平, 王東勝, 惠小青, 辛世明, 田紅麗
【申請人】河南鴻昌電子有限公司
【公開日】2015年8月26日
【申請日】2015年4月30日