一種紅外高溫計使用的觀察窗裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種連接在晶體生長加熱爐上的觀察窗裝置，紅外高溫計透過本裝置能夠對準加熱爐中的測溫點。
【背景技術】
[0002]晶體生長方法通常有提拉法、氣相升華法、化學氣相沉積法等，這些生長溫度通常較高，可達1000°c以上，且化學物質容易與熱偶反應，或者在生長后熱偶難以清理。
[0003]目前，行業中開始使用紅外光測量溫度的高溫計來檢測晶體生長過程中的晶體溫度，及時消除熱偶。紅外高溫計的測量范圍最高可達3000 °C，且與反應物質不接觸，減少了晶體生長中的污染。但是，紅外高溫計的工作環境溫度較高，縮短使用壽命，由于晶體形狀和生長方法的不同，如何調整紅外高溫計使其對準測溫點都是困擾本領域技術人員的難題。
【實用新型內容】
[0004]針對現有技術存在的問題，本實用新型的目的在于提供一種可大大降低紅外高溫計工作溫度、便于調整紅外高溫計對準測溫點的觀察窗裝置。
[0005]為實現上述目的，本實用新型一種紅外高溫計使用的觀察窗裝置，該觀察窗裝置包括安裝座和水冷套筒，紅外高溫計設置在所述安裝座上，所述水冷套筒連接在安裝座與單晶爐之間，水冷套筒的內腔與所述單晶爐的爐腔相連接；
[0006]其中，水冷套筒的內腔外側設置有水夾層；安裝座包括第一調節底座和第二調節底座，所述第一調節底座和所述第二調節底座上均設置有觀察孔，第一調節底座設置在水冷套筒的遠離單晶爐的端部，第二調節底座安裝在第一調節底座上，紅外高溫計固定在所述第二調節底座上，第一調節底座與第二調節底座之間、第一調節底座與水冷套筒之間分別通過多個垂直于水冷套筒軸線方向的調節螺栓固定，并通過控制調節螺栓的伸縮長度調整紅外高溫計的位置，使其透過兩個所述觀察孔和水冷套筒的內腔檢測所述單晶爐內測溫點的溫度；
[0007]水冷套筒的內腔、第一調節底座的觀察孔或者第二調節底座的觀察孔設置有由玻璃或石英制成的氣密封隔片，在不影響紅外高溫計測量的同時保證單晶爐內的真空度。
[0008]進一步，所述第一調節底座與所述第二調節底座、第一調節底座與所述水冷套筒之間的所述調節螺栓沿水冷套筒的圓周方向均布，且至少設置三個。
[0009]進一步，所述水流套筒的所述水夾層上設置有進水口和出水口。
[0010]紅外高溫計透過第一調節座和第二調節座上的觀察孔，以及水冷套筒的內腔來檢測單晶爐內測溫點的溫度；水冷套筒用來阻擋高溫；通過調節螺栓控制第一調節座和第二調節座的相對位置，實現紅外高溫計對準監測點，在使用時，也可以通過只調節第二調節座來實現；氣密封隔片進一步阻擋高溫，同時保證單晶爐內的真空度；改善了鏡頭生長過程中因測溫點偏離等問題造成的溫度測量不準確的問題，本裝置操作方便、測量結果的可靠性尚°
【附圖說明】
[0011]圖1為本實用新型的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0012]下面，參考附圖，對本實用新型進行更全面的說明，附圖中示出了本實用新型的示例性實施例。然而，本實用新型可以體現為多種不同形式，并不應理解為局限于這里敘述的示例性實施例。而是，提供這些實施例，從而使本實用新型全面和完整，并將本實用新型的范圍完全地傳達給本領域的普通技術人員。
[0013]為了易于說明，在這里可以使用諸如“上”、“下” “左” “右”等空間相對術語，用于說明圖中示出的一個元件或特征相對于另一個元件或特征的關系。應該理解的是，除了圖中示出的方位之外，空間術語意在于包括裝置在使用或操作中的不同方位。例如，如果圖中的裝置被倒置，被敘述為位于其他元件或特征“下”的元件將定位在其他元件或特征“上”。因此，示例性術語“下”可以包含上和下方位兩者。裝置可以以其他方式定位(旋轉90度或位于其他方位)，這里所用的空間相對說明可相應地解釋。
[0014]如圖1所示為本實用新型一種紅外高溫計使用的觀察窗裝置的具體實施例，該觀察窗裝置包括安裝座和水冷套筒1，紅外高溫計2設置在安裝座上，單晶爐上設置有連接口3，水冷套筒I的下端連接在單晶爐的連接口 3上，水冷套筒I的上端連接在安裝座上，水冷套筒I的內腔4通過連接口 3與單晶爐的爐腔相連接，在水冷套筒I的內腔外側設置有水夾層5，水夾層5上設置有進水口 6和出水口 7，冷卻水從進水口 6進入水夾層5中，給水冷套筒I內腔4降溫，換熱后的冷卻水從出水口 7流出水夾層5。
[0015]安裝座包括第一調節底座8和第二調節底座9，第一調節底座8和第二調節底座9上均設置有觀察孔10、11，由觀察孔10、11和水冷套筒I內腔構成紅外高溫計2檢測加熱爐內測溫點溫度的信號采集通道，在該通道內設置一個氣密封的封隔片12，封隔片12有石英或玻璃材質制成，進一步阻擋高溫，保證單晶爐內的真空度，同時不影響紅外高溫計2的測溫。第一調節底座8設置在水冷套筒I的上端，第二調節底座9安裝在第一調節底座8上，紅外高溫計2固定在第二調節底座9上，因此，封隔片12可以設置在水冷套筒I的內腔4中或者設置在第一調節底座8的觀察孔10上或者設置在第二調節底座9的觀察孔11上，在圖1中的示例是將封隔片12設置在第一調節底座8的觀察孔10上。在第一調節底座8與水冷套筒I之間設置多個垂直于水冷套筒I軸線方向的調節螺栓，該調節螺栓穿過螺孔14頂置在水冷套筒I的周向外表面上，將第一調節底座8固定在水冷套筒I上端，且調節螺栓至少設置有沿水冷套筒I的圓周方向均布的三個，通過調整調節螺栓的伸出長度進而控制第一調節底座8與水冷套筒I的相對位置；同樣的，在第一調節底座8與第二調節底座9之間設置多個垂直于水冷套筒I軸線方向的調節螺栓，該調節螺栓穿過螺孔13頂置在第二調節底座9的周向外表面上，將第二調節底座9固定在第一調節底座8上，且該調節螺栓至少設置有沿水冷套筒I的圓周方向均布的三個，通過調整調節螺栓的伸出長度進而控制第二調節底座9與第一調節底座8的相對位置，通過兩次調整使紅外高溫計2透過這兩個觀察孔10、11和水冷套筒I的內腔4檢測位于單晶爐內的測溫點的溫度。
【主權項】
1.一種紅外高溫計使用的觀察窗裝置，其特征在于，該觀察窗裝置包括安裝座和水冷套筒，紅外高溫計設置在所述安裝座上，所述水冷套筒連接在安裝座與單晶爐之間，水冷套筒的內腔與所述單晶爐的爐腔相連接； 其中，水冷套筒的內腔外側設置有水夾層；安裝座包括第一調節底座和第二調節底座，所述第一調節底座和所述第二調節底座上均設置有觀察孔，第一調節底座設置在水冷套筒的遠離單晶爐的端部，第二調節底座安裝在第一調節底座上，紅外高溫計固定在所述第二調節底座上，第一調節底座與第二調節底座之間、第一調節底座與水冷套筒之間分別通過多個垂直于水冷套筒軸線方向的調節螺栓固定，并通過控制調節螺栓的伸縮長度調整紅外高溫計的位置，使其透過兩個所述觀察孔和水冷套筒的內腔檢測所述單晶爐內測溫點的溫度； 水冷套筒的內腔、第一調節底座的觀察孔或者第二調節底座的觀察孔設置有由玻璃或石英制成的氣密封隔片，在不影響紅外高溫計測量的同時保證單晶爐內的真空度。
2.如權利要求1所述的觀察窗裝置，其特征在于，所述第一調節底座與所述第二調節底座、第一調節底座與所述水冷套筒之間的所述調節螺栓沿水冷套筒的圓周方向均布，且至少設置三個。
3.如權利要求1所述的觀察窗裝置，其特征在于，所述水冷套筒的所述水夾層上設置有進水口和出水口。
【專利摘要】本實用新型公開了一種紅外高溫計使用的觀察窗裝置，包括安裝座和水冷套筒，紅外高溫計設置在安裝座上，水冷套筒連接在安裝座與單晶爐之間，水冷套筒的內腔與所述單晶爐的爐腔相連接，水冷套筒的內腔外側設置有水夾層；安裝座包括第一調節底座和第二調節底座，通過控制第一調節底座和第二調節底座，使紅外高溫計對準單晶爐內的測溫點。本實用新型采用水冷隔溫，雙調節底座調節，避免了將紅外高溫計直接固定在晶體生長爐上而不能隨意調整測溫點的缺點，降低了工作溫度，操作方便、測量可靠性高。
【IPC分類】G01J5-00, C30B35-00
【公開號】CN204530025
【申請號】CN201520005551
【發明人】張云偉, 李百泉, 何麗娟, 李海飛, 樊中華, 翟德云
【申請人】北京華進創威電子有限公司
【公開日】2015年8月5日
【申請日】2015年1月6日