包含含Ni合金和/或其它金屬合金的阻擋層、雙阻擋層、包括雙阻擋層的涂覆制品及其制 ...的制作方法
【專利摘要】一些示例性實施方式涉及被提供作為阻擋層用來保護包含銀等的紅外反射層的含Ni三元合金。提供包含鎳、鉻和/或鉬和/或其氧化物的阻擋層，可以改善耐腐蝕性、以及化學和機械耐久性。在一些實例中，在所述包含銀的層的至少一側上可以使用超過一個的阻擋層。在還另外的實例中，代替作為阻擋層或除了作為阻擋層之外，可以在涂層中使用基于NixCryMoz的層作為功能層。
【專利說明】包含含N i合金和/或其它金屬合金的阻擋層、雙阻擋層、包括 雙阻擋層的涂覆制品及其制造方法
[0001] 本申請將題為"包含Μ和/或Ti的阻擋層、包括阻擋層的涂覆制品、及其制造方法" (Barrier Layers Comprising Ni and/or Ti,Coated Articles Including Barrier Layers,and Methods of Making 1:he Same)的美國專利申請序列號 13/064,065(律師代理 案號3691-2195)?及題為"包括低福射涂層的涂覆制品、包括涂覆制品的絕緣玻璃（中空玻 璃）裝置、和/或其制造方法"（Coated A;rticle Including Low-Emissivity Coating, Insulating Glass Unit Including Coated article,and/or Methods of Making the Same)的美國專利申請序列號13/064,066(律師代理案號3691-2319)的全部內容引入作為 參考。
技術領域
[0002] 本發明的一些示例性實施方式設及一種涂覆制品（coated adicle)，其例如在 低-E涂層（coating)中包括至少一個諸如銀等的材料的紅外（IR)反射層。在一些實施方式 中，含ΜΞ元合金可W在所述涂層中用作至少一個層。在一些實例中，運種含ΜΞ元合金可 W被提供作為用于包含銀等的紅外（IR)反射層的阻擋層。在其它示例性實施方式中，所述 含ΜΞ元合金包括儀、銘和/或鋼(例如NixCryMoz等）。在一些示例性實施方式中，提供包含 儀、銘和/或鋼和/或其氧化物的層允許待使用的層具有改善的耐腐蝕性、W及改善的化學 和機械耐久性。在一些示例性實施方式中，所述含NiS元合金還可W包含Ti、化、Nb、Z;r、Mo、 W、Co和/或其組合。在另外的實例中，可W在所述包含銀的層的至少一側上使用超過一個阻 擋層。可W將含Μ層提供成與包含銀的層相鄰，并且可W將基于金屬的第二阻擋層提供成 與所述含Μ層相鄰。在其它實例中，可W將包含金屬氧化物的第Ξ阻擋層提供成與所述基 于金屬的第二阻擋層相鄰。
[0003] 本發明的一些示例性實施方式還設及代替(rather than)作為阻擋層或除了作為 阻擋層之外，在涂層中使用基于NixCryMoz的層作為功能層。本文的示例性涂覆制品可用于 絕緣玻璃（中空玻璃，insulating glasssJG)窗裝置、車窗的情形中，或用于其它適合的應 用例如整體窗(monolithic window)應用、層壓窗(夾層窗，laminated window)等。
【背景技術】
[0004] 在本領域中，已知涂覆制品用于窗應用例如絕緣玻璃（IG)窗裝置、車窗、整體窗 等。在一些示例性情形中，涂覆制品的設計者通常爭取高可見光透射率、低福射率(或低發 射率)和/或低薄層電阻(Rs)的組合。高可見光透射率可W允許將涂覆制品用于需要運些特 性的應用例如建筑或車窗應用中，而低福射率(低-E)和低薄層電阻特性允許運樣的涂覆制 品阻擋顯著量的IR福射，W便降低例如車輛或建筑物內部不想要的加熱。因此，典型地，對 于用在建筑玻璃上W阻擋顯著量的IR福射的涂層來說，通常希望在可見光譜中的高透射 率。
[0005] 低-E涂層中的紅外反射層影響整個涂層，并且在一些情況下紅外反射層是堆 (stack)中最敏感的層。不幸的是，包含銀的紅外反射層有時可能經受來自于沉積過程、隨 后的大氣過程、熱處理、化學攻擊和/或由于嚴酷的環境的損傷。在一些情況下，可能需要防 止低-E涂層中基于銀的層遭受氧，遭受化學攻擊例如酸性和/或堿性溶液、熱氧化、腐蝕，和 遭受由于包括污染物例如氧、氯、硫、酸和/或堿的濕氣而發生的損傷。如果涂層中的紅外反 射層未得到充分保護，涂覆制品的耐久性、可見光透射率和/或其它光學特性可能受損。
[0006] 因此，本領域技術人員將認識到，對具有改善的耐久性和改善的或基本上不變的 光學性質的低-E涂層，存在著需求。
【發明內容】
[0007] 本發明的一些示例性實施方式設及與包含銀的紅外（IR)反射層聯合使用的包含 含ΜΞ元合金的改善的阻擋層材料。在一些情形中，所述改善的阻擋層材料可W使所述涂 覆制品的耐久性得W改善。然而，其它示例性實施方式設及包含含ΜΞ元合金(例如儀、銘 和/或鋼）的紅外反射層。在運些情形中，包含含ΜΞ元合金的紅外反射層的使用也可W產 生具有改善的化學和/或機械耐久性的涂覆制品。
[0008] 本發明的一些示例性實施方式設及包括由玻璃基材承載的涂層的涂覆制品的制 造方法。在一些示例性實施方式中，所述方法包括:在所述玻璃基材上設置介電層;在所述 介電層上方設置包含含ΜΞ元合金的第一阻擋層;在所述含ΜΞ元合金上方設置包含銀的 紅外反射層；W及在所述紅外反射層上方設置包含含ΜΞ元合金的第二阻擋層，其中所述 涂層被用作低-E涂層。
[0009] 其它示例性實施方式設及制造涂覆制品的方法，所述方法包括:在玻璃基材上設 置介電層;在所述介電層上方設置第一阻擋層;在所述含ΜΞ元合金上方設置包含銀的紅 外反射層；W及在所述紅外反射層上方設置第二阻擋層，其中所述涂層被用作低-E涂層，其 中所述第一和第二阻擋層包含54-58wt. %的Ni、20-22.5wt. %的Cr和12.5-14.5wt. %的 Mo。
[0010] 其它示例性實施方式設及涂覆制品。在一些情形中，所述涂覆制品包含承載低-E 涂層的基材。所述低-E涂層可W從所述基材離開的順序包含:第一介電層;第一阻擋層;包 含銀的第一紅外反射層，其提供在所述第一阻擋層上方并與其相接觸;第二阻擋層，其提供 在所述紅外反射層上方并與其相接觸；W及提供在所述第二阻擋層上方的第二介電層，其 中所述第一和第二阻擋層包含54-58wt. %的Ni、20-22.5wt. %的Cr和12.5-14.5wt. %的 Mo。
[0011] 本發明的其它實施方式設及包括由玻璃基材承載的涂層的涂覆制品的制造方法， 所述方法包括:在所述基材上設置介電層，在所述介電層上方設置包含師、Ti、Cr和Zr中的 一種或多種的第一子阻擋層;在所述第一子阻擋層上方并與其相接觸地設置包含含Ni合金 的第一阻擋層;在所述包含含Ni合金的第一阻擋層上方并與其相接觸地設置包含銀的紅外 反射層;在所述紅外反射層上方并與其相接觸地設置包含含Μ合金的第二阻擋層；W及在 所述含Μ阻擋層上方并與其相接觸地設置包含Nb、Ti、Cr和化中的一種或多種的第二子阻 擋層。
[0012] 其它示例性實施方式還設及包括由玻璃基材承載的涂層的涂覆制品的制造方法。 在一些情形中，所述方法包括:在所述基材上設置介電層;在所述介電層上方設置包含Nb、 Ti、Cr和Zr中的一種或多種的第一子阻擋層;在所述第一子阻擋層上方并與其相接觸地設 置包含Ni、Cr、Ti和/或Mo的第一阻擋層;在所述包含Ni、Cr、Ti和/或Mo的第一阻擋層上方并 與其相接觸地設置包含銀的紅外反射層;在所述紅外反射層上方并與其相接觸地設置包含 NiXr、Ti和/或Mo的第二阻擋層；W及在所述包含Ni、Cr、Ti和/或Mo的層上方并與其相接觸 地設置包含Nb、Ti、化和Zr中的一種或多種的第二子阻擋層。
[0013] 其它示例性實施方式設及制造涂覆制品的方法，所述方法包括:在玻璃基材上設 置介電層;在所述介電層上方設置第一阻擋層;在所述第一阻擋層上方并與其相接觸地設 置包含銀的紅外反射層;在所述紅外反射層上方并與其相接觸地設置包含NiTi或其氧化物 的第二阻擋層;在所述第二阻擋層上方并與其相接觸地設置包含Ni化或其氧化物的第Ξ阻 擋層；W及在所述第Ξ阻擋層上方并與其相接觸地設置包含Sn、Ti、化、Nb、Zr、Mo、W和/或Co 的氧化物的第四阻擋層。
[0014] 其它示例性實施方式設及一種涂覆制品。所述涂覆制品包含低-E涂層。所述涂層 包含:玻璃基材;介電層;在所述介電層上方的包含Nb、Ti、化和Zr中的一種或多種的第一子 阻擋層;在所述第一子阻擋層上方并與其相接觸的包含Ni、Cr、Ti和/或Mo的第一阻擋層;在 所述包含Ni、Cr、Ti和/或Mo的第一阻擋層上方并與其相接觸的包含銀的紅外反射層;在所 述紅外反射層上方并與其相接觸的包含Μ、Cr、Ti和/或Mo的第二阻擋層；W及在所述包含 NiXr、Ti和/或Mo的層上方并與其相接觸的包含Nb、Ti、化和Zr中的一種或多種的第二子阻 擋層。
[0015] 本發明的另一種示例性實施方式設及包含由玻璃基材承載的涂層的涂覆制品的 制造方法，所述方法包括:在所述基材上設置第一介電層;在所述第一介電層上方并與其相 接觸地設置包含54-58wt. %的Ni、20-22.5wt. %的Cr和12.5-14.5wt. %的Mo的紅外反射 層；W及在所述紅外反射層上方并與其相接觸地設置第二介電層。
[0016] 其它實例設及包含由玻璃基材承載的涂層的涂覆制品的制造方法，所述方法包 括:在所述基材上設置包含氮化娃的第一介電層;在所述第一介電層上方并與其相接觸地 設置包含54-58wt. %的Ni、20-22.5wt. %的Cr和12.5-14.5wt. %的Mo的紅外反射層；在所 述紅外反射層上方并與其相接觸地設置包含NbZr的阻擋層;在所述紅外反射層上方并與其 相接觸地設置包含氮化娃的第二介電層；W及在所述第二介電層上方并與其相接觸地設置 包含錯的氧化物的外覆層(overcoat)。
[0017] 本發明的示例性實施方式還設及一種涂覆制品，其包含:玻璃基材;在所述基材上 的包含氮化娃的第一介電層;在所述第一介電層上方并與其相接觸的包含54-58wt. %的 化、20-22.5wt. %的Cr和12.5-14.5wt. %的Mo的紅外反射層;在所述紅外反射層上方并與 其相接觸的包含NbZr的阻擋層;在所述紅外反射層上方并與其相接觸的包含氮化娃的第二 介電層；W及在所述第二介電層上方并與其相接觸的包含錯的氧化物的外覆層。
[0018] -些示例性實施方式還設及通過上述和/或其它方法之一制造的涂覆制品和/或 絕緣玻璃裝置。
【附圖說明】
[0019] 圖1是根據本發明的示例性實施方式的包含單一紅外反射層和含ΜΞ元合金阻擋 層的涂覆制品的橫截面圖。
[0020] 圖2(a)-(b)是根據本發明的示例性實施方式的包含單一紅外反射層和基于 NixCryMox的阻擋層的涂覆制品的橫截面圖。
[0021] 圖3(a)-(c)是根據本發明的示例性實施方式的包含單一紅外反射層和基于 NiCrMo、NiTi和/或Ni化的阻擋層的涂覆制品的橫截面圖。
[0022] 圖4是根據本發明的示例性實施方式的包含至少兩個紅外反射層和含ΜΞ元合金 阻擋層的涂覆制品的橫截面圖。
[0023] 圖5是根據本發明的示例性實施方式的包含至少兩個紅外反射層和基于 化stelloy(哈司特儀基合金)的阻擋層的涂覆制品的橫截面圖。
[0024] 圖6是根據本發明的另一種示例性實施方式的包含紅外反射層W及提供在紅外反 射層的各側上的第一和第二阻擋層的涂覆制品的橫截面圖。
[0025] 圖7是根據本發明的又一種示例性實施方式的包含紅外反射層、與紅外反射層相 鄰的含Μ的第一阻擋層W及與第一阻擋層相鄰的基于金屬的第二阻擋層的涂覆制品的橫 截面圖。
[0026] 圖8是根據本發明的又一種示例性實施方式的包含紅外反射層、與紅外反射層相 鄰的基于C22的第一阻擋層、W及與第一阻擋層相鄰的基于NbZr的第二阻擋層的涂覆制品 的橫截面圖。
[0027] 圖9是根據本發明的又一種示例性實施方式的包含至少兩個紅外反射層、與紅外 反射層相鄰的含Ni的第一阻擋層、W及與第一阻擋層相鄰的基于金屬的第二阻擋層的涂覆 制品的橫截面圖。
[0028] 圖10是根據本發明的又一種示例性實施方式的包含紅外反射層、W及提供在紅外 反射層的各側上的第一和第二阻擋層的涂覆制品的橫截面圖，其中離所述玻璃基材最近和 最遠的阻擋層夾在兩個介電層之間。
[0029] 圖11是根據本發明的又一種示例性實施方式的包含至少兩個紅外反射層、W及提 供在各紅外反射層的各側上的第一和第二阻擋層的涂覆制品的橫截面圖，其中離所述玻璃 基材最近和最遠的阻擋層夾在兩個介電層之間。
[0030] 圖12是根據本發明的又一種示例性實施方式的包含紅外反射層、基于NiTi的第一 阻擋層、基于Ni化的第二阻擋層和基于金屬氧化物的第Ξ阻擋層的涂覆制品的橫截面圖。
[0031] 圖13是根據本發明的又一種示例性實施方式的包含至少兩個紅外反射層、基于 NiTi的第一阻擋層、基于NiCr的第二阻擋層和基于金屬氧化物的第Ξ阻擋層的涂覆制品的 橫截面圖。
[0032] 圖14是根據本發明的又一種示例性實施方式的包含基于NiCrMo的功能層的涂覆 制品的橫截面圖。
[0033] 圖15是根據本發明的又一種示例性實施方式的包含夾在兩個基于氮化娃的介電 層之間的基于C22的功能層并具有基于氧化錯的外覆層的涂覆制品的橫截面圖。
[0034] 圖16是根據本發明的又一種示例性實施方式的包含夾在介電層之間的基于C22的 功能層和基于NbZr的阻擋層并具有基于氧化錯的外覆層的涂覆制品的橫截面圖。
【具體實施方式】
[0035] 現在參考附圖，其中在數張圖中，相同的附圖標記始終指示相同的部件。
[0036] 本文中的涂覆制品可用于涂覆制品應用中，例如整體窗、IG窗裝置、車窗，和/或包 括單個或多個基材例如玻璃基材的任何其它適合應用。
[0037] 如上所述，在一些情形中，可能需要防止低-E涂層中的紅外反射層(例如基于銀的 層)遭受由后續的沉積過程、熱氧化、腐蝕、濕氣、化學攻擊和/或嚴酷環境引起的損傷。例 如，用于沉積后續層的等離子體中的氧可W被高度電離，并且可能需要防止基于銀的層遭 受其。此外，在沉積后的"大氣過程"中，基于銀的層可能易受來自氧、濕氣、酸、堿等的攻擊 的影響。如果位于基于銀的層與大氣之間的層具有任何缺陷，使得所述基于銀的層未被完 全覆蓋(例如刮擦、針孔等），情況可能尤為如此。
[0038] 例如，在一些情況下，包括含銀層的涂層的降解也可能由所述層中的Ag的物理重 建及其所導致的上覆層在加熱時的破壞所引起。在一些示例性實施方式中，在熱處理期間 可能出現問題。在那些情形中，氧可能擴散到基于銀的層中。在一些示例性實施方式中，至U 達基于銀的層的氧可能例如通過降低薄層電阻、影響福射率和/或產生模糊(霧度)等影響 其性質，并可能通過層堆引起性能降低。在其它情形中，Ag團聚可能造成缺陷。
[0039] 在一些示例性實施方式中，阻擋層可因此與基于銀的層（和/或其它紅外反射層） 一起用在低E涂層中，W減少上述和/或其它問題中的一些或全部的發生。在一些示例性情 形中，運些阻擋層可在銀周圍形成薄的保護性氧化物層，并改善涂覆制品的耐腐蝕性、化學 和/或機械耐久性。
[0040] 本發明的一些實施方式設及一種涂覆制品，其包括至少一個承載涂層的玻璃基 材。涂層典型地具有至少一個反射和/或阻擋至少一些I姆畐射的紅外（IR)反射層。在本發明 的不同實施方式中，紅外反射層可W是或包括諸如銀、金、Ni化和/或其Ξ元合金等的材料。 通常，紅外反射層被夾在涂層的至少第一和第二接觸層之間。
[0041] 鑒于上述內容，有利的是提供包含含ΜΞ元合金的阻擋層。在一些實例中，阻擋層 可W包含諸如儀、銘和/或鋼(例如化ynes合金例如C22、BC1和/或B3)的材料。在其它示例性 實施方式中，含ΜΞ元合金還可W包含Ti、化、抓、2'、1〇、胖、0〇和/或其組合。在一些情形中， 含化立元合金阻擋層(例如包含諸如儀、銘和/或鋼等的材料何W具有（1)對紅外反射層的 足夠的附著性；（2)對酸性和/或堿性溶液的改善的耐腐蝕性；（3)在高溫氧化期間的保護作 用；W及(4)改善的總體化學和/或機械耐久性。在其它示例性實施方式中，運些優點可W由 使用包含儀、銘和/或鋼的層作為紅外反射層和/或其它功能層而不是作為阻擋層來產生。
[0042] 此外，在其它示例性實施方式中，可W提供超過一個阻擋層。已有利地發現，在紅 外反射層的至少一側上及在一些情形中在兩側上）提供至少兩個阻擋層可W產生上述 優點。在一些示例性實施方式中，含Μ合金或含ΜΞ元合金可W與紅外反射層相鄰使用，并 且可W選擇提供良好的耐腐蝕性、W及良好的化學和機械耐久性的材料作為第二阻擋層。
[0043] 圖1是根據本發明的示例性實施方式的涂覆制品的橫截面圖。在一些示例性實施 方式中，圖1中示出的涂覆制品可用作在表面1和/或2上具有低-Ε涂層的整體窗，其中所述 低-Ε涂層包括僅單一的紅外反射層。然而，在其它示例性實施方式中，圖1中的涂覆制品可 W包含其它層。此外，按照本文描述的示例性實施方式制造的涂覆制品，根據不同的示例性 實施方式和應用，可用于如下中：在表面1、2、3和/或4上具有涂層的絕緣玻璃裝置(IGU);具 有緊靠(抵靠)表面2和/或3上的界層(夾層，interlayer)嵌入的、或暴露于表面1或4上的涂 層的層壓整體(monolithic lite);具有帶有緊靠表面2和/或3上的界層嵌入的、或暴露于 表面4上或別處的涂層的層壓外側(ou憂oard)的層壓IGU;具有暴露于表面3和/或6上、或嵌 入在表面4和/或5上的涂層的層壓內側（inboard)的層壓IGU。換句話說，在不同的示例性實 施方式中，該涂層可W整體地使用，或用于包含兩個或更多個基材的絕緣玻璃裝置中，或不 止一次用于玻璃裝置中，并且可W提供在所述裝置的任何表面上。
[0044] 涂覆制品包括玻璃基材1 (例如約1.0至10.0mm厚、更優選地約1.0mm至6.0mm厚的 透明、綠色、青銅色或藍綠色玻璃基材）、W及直接或間接提供在基材上的多層涂層35(或層 體系）。
[0045] 如圖1中所示，涂層35包含:任選的介電層3和/或5;包含含化立元合金的第一阻擋 層7,所述合金可W是或包括Ni、Ti、Cr、Nb、Zr、Mo、W、Co和/或其組合（例如NixCryMoz、 NixTiyCrz、NixTiy師Z、NixNbyZrz、NixCry 化Z、NixTiyM〇z、NixZryM〇z、Nix 師 yMoz、NixCryM〇z、 NixWyCrz、NixWyM〇z、NixWy 化z、NixWyNbz、NixWyTiz、NixC〇yM〇z、NixC〇yCrz、NixC〇yM〇z、NixC〇yZ。、 化xCoyNbz和/或NixCoyTiz);紅外反射層9，其包括銀、金等中的一種或多種；包含含NG元合 金的第二阻擋層11，所述合金可W是或包括Ni、TiXr、Nb、化、Mo、W、Co和/或其組合（例如 NixCryMoz、NixTiyCrz、NixTiyNbz、Nix師y 化Z、NixCryZrz、NixTiyM〇z、NixZryM〇z、Nix 師yMoz、 NixCryM〇z、NixWyCrz、NixWyM〇z、NixWyZrz、NixWyNbz、NixWyTiz、NixC〇yM〇z、NixC〇yCrz、NixC〇yM〇z、 NixC〇yZrz、NixC〇yNbz和/或NixC〇yTiz);W及任選的介電層13,其在一些示例性情形中可W是 保護性外覆層。在本發明的一些示例性實施方式中，還可W提供其它層和/或材料，并且在 一些示例性情形中可W除去或分開（split)-些層也是可能的。層3、5和/或13可W包括一 個或多個分離（離散）的層。介電層3、5和13可W是或包括氮化娃、氧化娃、氧氮化娃、氧化 錫、氧化鐵和/或任何適合的介電材料。在一些示例性實施方式中可W提供任選的外覆層 16。在其它實例中可排除它。在一些示例性實施方式中，當提供任選的外覆層16時，層16可 W是或包括錯。在不同實例中，基于錯的層可W被部分或完全氧化。在其它示例性實施方式 中，層16可W包含基于錯的合金的氧化物例如ZrxM〇y0z、ZrA10x和/或TiZr化。運些材料可有 利地對涂層和/或涂覆制品的更好的摩擦學和/或摩擦性質作貢獻。在其它實例中，可W在 涂層中的其它位置中提供其它介電層。在一些示例性實施方式中，所述層可W至少在開始 時作為錯的氮化物沉積。
[0046] 紅外（IR)反射層9優選地基本上或完全是金屬的和/或導電的，并且可W包含銀 (Ag)、金或任何其它適合的IR反射材料，或基本上由運些材料構成。紅外反射層9幫助使涂 層具有低-E和/或良好的日光控制特性例如低發射率、低薄層電阻等。然而，在本發明的一 些實施方式中，紅外反射層9可被輕微氧化。
[0047] 在不同的示例性實施方式中，圖1中示出并在本文中描述的紅外反射層可W包含 銀或基本上由銀構成。因此，將認識到，一些示例性實施方式可包括銀合金。在運樣的情形 中，Ag可W與適合量的21'、11、化、吐、口(1和/或其組合形成合金。在一些示例性實施方式中， Ag可W與Pd和化兩者形成合金，其中Pd和Cu各為約0.5-2% (W重量或原子％計）。其它可能 的合金包括 Ag 和如下中的一種或多種：Co、C、Mg、Ta、W、NiMg、PdGa、CoW、Si、Ge、Au、Pt、Ru、 511、41、111、￥、111、化、打、化和/或齡。一般來說，滲雜物濃度可^在0.2-5%的范圍內（^重量 或原子％計），更優選地為0.2-2.5%。在運些范圍內操作可W幫助銀維持基于銀的層的否 則可能由于形成合金而喪失的所需光學特性，從而幫助維持堆的整體光學特性，同時還改 善化學、腐蝕和/或機械耐久性。本文中確定的示例性Ag合金祀材料可W使用單一祀進行瓣 射，通過使用兩種(或更多種)祀共同瓣射來沉積等。除了提供改善的耐腐蝕性之外，Ag合金 的使用在一些情形中可幫助降低在升高的溫度下的銀擴散率，同時還幫助降低或阻擋在層 堆中的氧移動的量。運可W進一步提高銀擴散率，并且可改變那些可能導致差的耐久性的 銀生長和結構性質。
[0048] 在一些示例性實施方式中，阻擋層7可W是或包括鋒的氧化物。將認識到，在本發 明的不同實施方式中，含ΜΞ元合金的第一和第二層7和11可具有相同或不同的組成。
[0049] 介電層13可W是或包括氮化娃、氧化娃、氧氮化娃、氧化錫、氧化鐵等。在一些示例 性實施方式中，介電層13可W包含超過一個分離的層。此外，在一些情形中介電層13可W起 到保護性外覆層的作用。
[0050] 已有利地發現，在運些層中使用例如含ΜΞ元合金允許改善的耐腐蝕性、W及更 好的化學和/或機械耐久性。據信，含ΜΞ元合金(和/或其氧化物、氮化物和/或氧氮化物） 的使用在Ag的晶粒間界上形成保護層。在一些示例性實施方式中，運可W導致涂覆制品具 有更好的耐腐蝕性和/或防潮性、W及化學耐久性。此外，據信由于在紅外反射層周圍形成 薄的保護性氧化物層，可W減少氧擴散，運在一些示例性實施方式中也可W幫助改善耐腐 蝕性、化學和機械耐久性。
[0051 ] 在一些示例性實施方式中，含ΜΞ元合金可W包含儀、銘和/或鋼。在一些示例性 實施方式中，儀和含Μ合金可W能夠經受住各種腐蝕性環境、高溫、高應力和/或運些因素 的組合。然而，在一些情況下，Ni可W在正常環境中提供良好的耐腐蝕性，但是可能對高溫 濕氣和/或酸攻擊敏感。因此，在一些實例中可W添加化W提供對酸性溶液的改善的耐腐蝕 性。在其它實例中，化還可W提供對高溫氧化的防護。
[0052] 然而，由或基本上由Μ和/或Cr構成的阻擋層仍可W改善。例如，基本上由沉積并 在空氣中加熱的NiCr(其然后可W形成Ni化的氧化物)構成的層，當經受熱的酸性和堿性溶 液時，可經歷腐蝕和/或侵蝕。經加熱的Μ化涂層可能在下列物質中被侵蝕掉：（1)20 %化0H (65。1小時）；（2)50%出8〇4(65°(：;1小時）；和（3)5%肥1(65°(：;1小時）。此外，當經受沸水 a〇(TC;l小時）時，已觀察到經加熱的NiCr變得模糊。運可能是由于氯化物和/或氨化物的 形成所導致的。
[0053] 作為另一個實例，涂覆的含NiCr的層(例如，與經加熱的含NiCr的層相比氧化程度 較低或部分氧化)可被50%出S(k(65°C ; 1小時)和5 %HC1 (65°C ; 1小時)侵蝕掉。因此，可W看 到，紅外反射層(例如包含銀)對化學攻擊和/或在嚴酷環境中（例如在熱和/或潮濕環境中） 易受損傷。因此，對改善的阻擋層存在著需求。對于其中涂覆制品將整體地使用或用在絕緣 玻璃裝置或層壓組件的外表面上的應用來說，情況可能尤為如此，因為在一些示例性實施 方式中涂層可能暴露于運些因素。
[0054] 因此，在其中提供有涂層的整體應用中，在涂層被提供在表面1(例如用于防凝結） 和/或4(例如用于改善U值)上的絕緣玻璃裝置中，W及在運些涂層可能直接暴露于環境的 其它情形中，可能希望使用運些具有更好的耐腐蝕性、W及改善的化學和/或機械耐久性的 材料，例如，用于保護基于Ag的層。
[0055] 已發現，在一些示例性實施方式中，鋼(特別是在與儀一起使用時）可W改善對酸 W及對點狀和裂縫腐蝕的耐受性。此外，鋼(特別是在與銘一起使用時）可W針對來自堿溶 液的腐蝕提供改善的性質。因此，已有利地發現，在低E堆中，在基于銀的層周圍使用基于 NiCrMo的合金可W提供改善的耐腐蝕性、W及改善的化學和/或機械耐久性。沉積的和熱處 理的基于NiCrMo的阻擋層可W提供與由和/或基本上由Ni和Cr構成的阻擋層相比具有改善 的性能的涂層。
[0化6] 已有利地發現，在一些情形中，基于NiCrMo的合金（例如C22、BC1和/或B3 化llestoy)與基本上由Ni和化構成的層相比，可W更好地保護包括至少一個基于銀的層的 涂層。此外，在另外的實例中，基于NiCrMo的合金可W保護涂覆制品免受可見損傷。此外，還 相信NiCrMo可與涂層中的頂部介電層(例如層13)形成合金，運也可甚至改善該層對抗堿溶 液和沸水的性能。在頂部介電層13基于娃的實施方式中，情況可能尤為如此。例如，包含 MoSi的材料由于其良好的耐熱性和耐腐蝕性，在較高溫度下被用作加熱器。
[0化7] 表1-3示出了基于Μ化Mo的合金的Ξ種示例性實施方式（例如C22、BC1和B3)的組 成用于參考。
[0化引表1:化xCryMoz的第一種示例性實施方式(例如C22)-Wwt. %計的元素組成 [0化9]
[0060] 表2:NixCryM〇z的第二種示例性實施方式(例如B3)-Wwt. %計的元素組成
[0061]
[0062]表3:NixCryM〇z的第S種示例性實施方式(例如BCl)-Wwt. %計的元素組成
[0063]
[0064] 圖2(a)包括涂層35'。圖2(a)是基于圖1，除了圖2(a)具體地要求層7和11包含含有 Ni化Mo的合金。在一些示例性實施方式中，層7和/或11還可W潛在地小的量包含Fe、W、Co、 81、111、(：、￥、41和/或11，例如上面在表1中示出的。
[0065] 圖2(b)示出了涂層35"。圖2(b)是基于圖1和2(a)，除了圖2(b)具體地要求層7和11 是或包括化stelloy C22,并指明任選的外覆層包括Zr。
[0066] 圖3(a)示出了不同的示例性實施方式。在圖3(a)的實施方式中，不同的基于Ni的 合金可W被有利地用于一個涂層36內，W便進一步改善涂層的性質。在與圖3(a)-(c)相關 的示例性實施方式中，基于Ni的合金不必需是Ξ元合金。在一些情形中，基于Ni的合金可W 是二元的，或者可W包含超過3種金屬。例如，層7可W是或包括NiCr(和/或其氧化物和/或 氮化物），而層11是或包括NiTi(和/或其氧化物和/或氮化物）。在一些示例性實施方式中， 其中層7基于Ni化并且層11基于NiTi的層堆與其中層7和11二者都基于Ni化的層堆相比，薄 層電阻可低約25至45%，更優選地低約30至40%，最優選地低至少34%。
[0067] 作為另一個實例，層7可W是或包括NiCr(和/或其氧化物和/或氮化物），而層11是 或包括NixCryMoz(例如C22)。在一些示例性實施方式中，其中層7基于NiCr并且層11基于 NixCryMoz的層堆與其中層7和11兩者都基于Ni化的層堆相比，薄層電阻可W低約20至35%， 更優選地低約25至30%，最優選地低至少28%。
[006引因此，在一些示例性實施方式中，層7可W是或包括NiCr、Nix化yMoz(例如C22、B3、 BC1等）和NiTi中的至少一種，并且層11也可W是或包括Ni化、Nix化yMoz(例如C22、B3、BC1 等)和NiTi中的至少一種，只要為層7選擇的材料與為層11選擇的材料不同。
[0069] 圖3(b)示出了承載涂層36'的涂覆制品1。圖3(b)是基于圖3(a)，除了圖3(b)具體 要求層7是或包括NiCr(和/或其氧化物和/或氮化物），并且層11是或包括NiTi(和/或其氧 化物和/或氮化物）。
[0070] 圖3(c)示出了承載涂層36"的涂覆制品1。圖3(c)是基于圖3(a)，除了圖3(c)具體 要求層7是或包括NiCr(和/或其氧化物和/或氮化物），并且層11是或包括NixCryMoz(和/或 其氧化物和/或氮化物）。
[0071] 如上面討論的，按照圖3(a)-(c)制造的涂層可W有利地具有與例如包括僅基于 Ni化的阻擋層的涂層相比明顯降低的薄層電阻。
[0072] 圖4是根據本發明的示例性實施方式的涂覆制品的橫截面圖。在一些示例性實施 方式中，圖4中示出的涂覆制品可W用作具有擁有兩個紅外反射層的低-E涂層的整體窗。涂 覆制品包括玻璃基材1 (例如約1.0至10.0mm厚、更優選地約1.0mm至6.0mm厚的透明、綠色、 青銅色或藍綠色玻璃基材），W及直接或間接提供在基材上的多層涂層(或層體系)45。圖4 的實施方式包括玻璃基材1、介電層3和/或5、含ΜΞ元合金7、基于銀的層9、含ΜΞ元合金 11、基于銀的層19、含ΜΞ元合金21、介電層13和任選的外覆層16。層7、11和/或21可W是或 包括本文中對于圖1的示例性實施方式中的層7所討論的任何和/或所有示例性材料。類似 地，基于Ag的層9和19可W是本文中討論的銀合金。介電層3、5、13和16是任選的。運些層可 W包含本文中對于運些層所討論的任何材料。根據不同的示例性實施方式，可W提供運些 層中的一些或所有、或不提供運些層。
[0073] 圖5是基于圖4,并包括涂層45'。圖5指定層7、9、11和/或19可W包含基于NiCrMo的 合金(例如C22、BC1和/或B3)。
[0074] 其它示例性實施方式，例如圖6中示出的，設及上面提到的本發明的一些示例性實 施方式的另一方面。在運些示例性實施方式中，已發現在功能層（例如包含銀的紅外反射 層)的每個或任一側上提供兩個阻擋層可W導致改善的耐久性。
[0075] 更具體地，圖6是根據本發明的示例性實施方式的涂覆制品的橫截面圖。涂覆制品 包括玻璃基材1 (例如約1.0至10.0mm厚、更優選地約1.0mm至6.0mm厚的透明、綠色、青銅色 或藍綠色玻璃基材）、W及直接或間接提供在基材上的多層涂層50(或層體系）。涂層50由玻 璃基材1承載，并包括任選的介電層3和/或5、第一和第二阻擋層8/10和夾住基于銀的層9的 6/12、介電層13和任選的外覆層16。
[0076] 任選的介電層3、5和13可W是或包括氮化娃、氧化娃、氧氮化娃、氧化鐵、氧化錫和 任何其它適合的介電材料。根據不同的示例性實施方式，可W存在運些層中的所有或一些， 或不存在運些層。在其它示例性實施方式中，運些層中的每個可W包括一個或多個分離的 層。
[0077] 在一些示例性實施方式中，可W提供任選的外覆層16。在其它實例中，可W排除 它。在一些示例性實施方式中，當提供任選的外覆層16時，層16可W是或包括錯。在一些情 形中，基于錯的層可W被部分和/或完全氧化。在其它示例性實施方式中，層16可W包含基 于錯的合金的氧化物，例如化xMoyOz、化A1化和/或TiZrOx。運些材料可W有利地對涂層和/ 或涂覆制品的更好的摩擦學和/或摩擦性質作貢獻。
[0078] 仍參考圖6,阻擋層6和12可W包含被選擇用于改善的耐腐蝕性和/或增強的化學 和機械耐久性的材料。在一些示例性實施方式中，"阻擋層Γ層8和10(在下面詳細討論）W 及"阻擋層2"層6和12之間的附著是有利的。在一些情形中，層6和12可W分別良好地附著于 層8和10, W及良好附著于介電層12。此外，在一些實施方式中，用于層6和12的材料可W與 用于層8和10的材料在化學上相容。
[0079] 對于可熱處理的（例如可回火的）涂層來說，在一些情形中可能希望用于層6和12 的材料是熱穩定的。在一些示例性情形中，還可能希望運些材料在熱處理后在光學或物理 學方面不顯著降低涂層的性能。
[0080] 鑒于上述內容，已有利地發現，"阻擋層2"層6和12可W包含抓、2'、11、化和/或抓。 例如，層6和/或12可W包含師化、Zr、Ti化和/或Ti師。在一些示例性實施方式中，運些材料 為退火的和/或可熱處理的涂層提供良好的耐腐蝕和耐化學性質。在一些示例性實施方式 中，當涂層退火時，Tier可W用作"阻擋層2"。在其它示例性實施方式中，當涂層被熱處理 時，Zr、NbZr和/或TiNb可W用于層6和/或12。
[0081] 仍參考圖6的實施方式，含Μ合金可W與包含銀的層9相鄰使用。在一些示例性實 施方式中，最接近包含銀的層的阻擋層、即"阻擋層Γ (層8和10)，可W是或包括Μ。層8和/ 或10還可W包括Cr、Mo和/或Ti中的一種或多種。在一些示例性實施方式中，NiCrMo、NiCr 和/或NiTi可W用于層8和/或10。已有利地發現，將運些用于層8和/或10的材料靠近或鄰近 基于銀的層使用，可W提供與包含Ag的層的更好的附著和化學相容性。在一些示例性實施 方式中，單獨的Ti可能不提供強的耐腐蝕性，但是當它與Μ形成合金時，可W有利地使合金 勢(alloy potential)在高的（noble)或正的方向上移動，從而可W為Ag提供更好的保護。 在一些實例中，可熱處理(例如熱強化的和/或可熱回火的)NiTi可W提供改善的性能，特別 是在耐久性和光學性質方面。
[0082] 此外，在一些示例性實施方式中，上面提到的用于層8和10的材料也可W提供改善 的Ag分散。據信，提供更好的Ag的結構性質可W幫助實現更好的光學性質例如色散。目前還 相信，在一些情形中，緊鄰包含Ag的層提供包含NiTi化的層可W減少團聚和Ag膜早期聚結。
[0083] 圖7是基于圖6。在圖7中，涂層50'包括包含師化、Zr、TiCr和/或Ti師的層6和/或 12、W及包含含Ni阻擋層的層8和/或10。
[0084] 圖8也基于圖6,并示出了示例性實施方式。在圖8中，涂層50"包含基于氮化娃的介 電層3(省略了任選的介電層5)、包含Nb化的第一"阻擋層2"層6、包含C22的第一"阻擋層Γ 層8、基于銀的紅外反射層9、包含C22的第二"阻擋層Γ層10、包含師化的第二"阻擋層2"層 12、W及包含氮化娃的介電層13,其在一些情形中也可W起到保護性外覆層的作用。然而， 在其它示例性實施方式中，可W提供單獨的保護性外覆層16。在一些示例性實施方式中，層 16可W是基于錯的，并且可W是或包括錯的氧化物和/或其合金。它也可W進一步包括A1、 T巧日/或Mo。
[0085] 圖9也類似于圖6的實施方式，但是圖9設及雙銀涂層60。圖9包括玻璃基材1、介電 層巧日/或5、第一"阻擋層2"層6、第一"阻擋層Γ層8、包含Ag的第一紅外反射層9、第二"阻擋 層Γ層10、第二"阻擋層2"層12、第立""阻擋層Γ層18、包含Ag的第二紅外反射層19、第四 "阻擋層Γ層20、第四"阻擋層2"層22、介電層13和任選的外覆層16。在圖9中，"阻擋層Γ層 8、10、18和/或20可W是或包括本文中對于"阻擋層Γ層8和/或10所討論的任何材料。然而， 在一些示例性情形中，阻擋層18可W是或包括與阻擋層8和10相比不同的材料。"阻擋層2" 層6、12和22可W是或包括本文中對"阻擋層2"層6和/或12所討論的任何材料。按照不同的 示例性實施方式，可W存在介電層3、5和/或13中的一些或所有，或者不存在運些介電層。介 電層3、5和13可W是或包括氮化娃、氧化娃、氧氮化娃、氧化錫、氧化鐵和/或任何適合的介 電材料。在其它示例性實施方式中，可W提供獨立的保護性外覆層16。在一些示例性實施方 式中，層16可W是基于錯的，并且可W是或包括錯的氧化物和/或其合金，任選地進一步包 括Al、Ti和/或Mo。在其它實例中，在涂層中的其它位置中可W提供其它介電層。
[0086] 圖10示出了涂層50"'，其與圖6中示出的涂層50類似。然而，涂層50"'還包括介電 層14和/或15。在一些示例性實施方式中，運些介電層可W提供在基于銀的層9下方的"阻擋 層Γ與"阻擋層2"之間，并且也可W提供在基于銀的層9上方的"阻擋層2"與"阻擋層Γ之 間。在按照圖10的一些示例性實施方式中，夾在介電層當中的"阻擋層2"層6和12可w進一 步改善運些層和/或整個涂層的化學和/或機械耐久性。此外，在涂層中包含介電層14和/或 15可W有利地進一步保護基于銀的層免受腐蝕和/或刮擦。在一些示例性實施方式中，層14 和/或15可W包含氮化娃、氧化娃、氧氮化娃、氧化鐵、氧化錫和/或任何其它適合的介電材 料。此外，在一些示例性實施方式中，層14和/或15可W是致密的。
[0087] 圖11示出了涂層60'，其與圖9中示出的涂層60類似。然而，涂層60'還進一步包含 介電層14'和/或15'。運些層類似于上面討論的層14和15。層14'和15'也夾在分別地最接近 玻璃基材和最遠離玻璃基材的"阻擋層2"的層之間。在圖11的實施方式中，層6和22分別被 夾在介電層3和/或5與14'W及15'與13之間。
[0088] 圖12和13是根據本發明的示例性實施方式的涂覆制品的橫截面圖。在圖12中，涂 覆制品包括玻璃基材1 (例如約1.0至10.0mm厚、更優選地約1.0mm至6.0mm厚的透明、綠色、 青銅色或藍綠色玻璃基材）、W及直接或間接提供在基材上的多層涂層75(或層體系）。圖12 包括介電層3和/或5、阻擋層7和/或8、基于銀的層9、阻擋層10'、阻擋層10"和阻擋層24、W 及介電層13,介電層13按照不同的示例性實施方式可W起到外覆層和/或頂部涂層的作用。 介電層3、5和13可W是或包括氮化娃、氧化娃、氧氮化娃、氧化錫、氧化鐵和/或任何適合的 介電材料。在其它實例中，可W在涂層中的其它位置中提供其它介電層。在其它示例性實施 方式中，可W提供獨立的保護性外覆層16。在一些示例性實施方式中，層16可W是基于錯 的，并且可W是或包括錯的氧化物和/或其合金，任選地進一步包括Al、Ti和/或Mo。
[0089] 在圖12中，阻擋層6、7和/或8可W是或包括對于圖1-2的包含含ΜΞ元合金的層7、 是或包括Μ、化、Mo和/或Ti的"阻擋層Γ層8和/或10、和/或是或包括師、Zr、Ti、吐和/或Nb 的"阻擋層2"層6和/或12所討論的材料。在一些實例中，在圖12的實施方式中存在層6、7和8 中的僅一個。然而，在其它實施方式中，可W存在所述層中的多個。
[0090] 圖12還包括阻擋層10'、阻擋層10"和阻擋層16。在一些示例性實施方式中，阻擋層 10'可W包含Ni，使其良好地附著于基于Ag的層9。特別是，在一些示例性實施方式中，層10' 可W是或包括Ni和/或Ti、和/或其氧化物（例如NixTiyOz)。層10"可W是或包括Ni和/或Cr、 和/或其氧化物。在一些示例性實施方式中，層10"可W提高整個涂層的機械耐久性。最后， 在一些情形中，層24可W是"阻擋氧化物"（BOX)層。在一些示例性實施方式中，層24可W是 或包括Sn、Ti 吐、Ti師、師Zr、CrZr、TiMo、ZrMo、師Mo、CrMo、WCr、WMo、WZr、W師、WTi、CoMo、 CoCr、CoZr、CoNb和/或CoTi的氧化物。在一些實例中，提供阻擋層16可W進一步改善涂層的 耐久性。
[0091] 圖13是基于圖12,但是包括雙紅外反射層涂層85。在一些示例性實施方式中，圖13 中示出的涂覆制品可W用作具有擁有雙紅外反射層的低-E涂層的整體窗。涂覆制品包括玻 璃基材1 (例如約1.0至10.0mm厚、更優選地約1.0mm至6.0mm厚的透明、綠色、青銅色或藍綠 色玻璃基材）、W及直接或間接提供在基材上的多層涂層85(或層體系）。圖13包括介電層3 和/或5、阻擋層6、7和/或8、基于銀的層9、阻擋層10、11和/或12、基于Ag的層19、阻擋層10'、 阻擋層10"和阻擋層24、W及介電層13,介電層13按照不同的示例性實施方式可W起到外覆 層和/或頂部涂層的作用。在其它示例性實施方式中，可W提供獨立的保護性外覆層16。在 一些示例性實施方式中，層16可W是基于錯的，并且可W是或包括錯的氧化物和/或其合 金，任選地進一步包括Al、Ti和/或Mo。介電層3、5和13可W是或包括氮化娃、氧化娃、氧氮化 娃、氧化錫、氧化鐵和/或任何適合的介電材料。在其它實例中，可w在涂層中的其它位置中 提供其它介電層。
[0092] 在圖13中，阻擋層6、7和/或8可W是或包括對于圖1-2的包含含ΜΞ元合金的層7、 是或包括Μ、化、Mo和/或Ti的"阻擋層Γ層8和/或10、和/或是或包括師、Zr、Ti、吐和/或Nb 的"阻擋層2"層6和/或12所討論的材料。在一些實例中，在圖13的實施方式中存在層6、7和8 中的僅一個。然而，在其它實施方式中，可W存在所述層中的多個。
[0093] 在圖13中，阻擋層10'、10"和24可W是或包括本文中對于圖12的實施方式中的層 10'、10"和24所討論的材料。
[0094] 在其它示例性實施方式中，基于銀的層上方的阻擋層材料可W與提供在基于銀的 層下方的阻擋層材料不同。本文中提到的用于阻擋層的所有可能的組合可用于圖中所示并 在本文中描述的任何層堆。
[00M]在一些示例性實施方式中，本文中描述的所有二元、Ξ元、四元等合金可W由單一 的金屬和/或陶瓷祀瓣射，或者在不同實施方式中，它們可W由兩種或更多種不同的祀(金 屬的和/或陶瓷的)共同瓣射。
[0096] 圖14是根據本發明的示例性實施方式的涂覆制品的橫截面圖。在一些示例性實施 方式中，圖14中示出的涂覆制品可W用作具有單一功能層的整體窗。涂覆制品包括玻璃基 材1(例如約1.0至10.0mm厚、更優選地約1.0mm至6.0mm厚的透明、綠色、青銅色或藍綠色玻 璃基材）、W及直接或間接提供在基材上的多層涂層1〇〇(或層體系）。圖14包括玻璃基材1、 任選的介電層3和/或5、包含基于NiCrMo的合金(例如C22、BC1或B3)的功能層9'、任選的介 電層13和任選的外覆層16。在該涂層中可W包括其它層。層13可W是或包括娃的氧化物、氮 化物和/或氧氮化物，和/或鐵、錫等的氧化物。在一些示例性實施方式中，層16可W是基于 錯的，并且可W是或包括錯的氧化物和/或其合金，任選地進一步包括Al、Ti和/或Mo。
[0097] 圖15示出了基于圖14的實施方式的示例性實施方式。圖15包括涂層100'。在圖15 中，介電層3包含氮化娃，并且排除介電層5。注意，根據不同的示例性實施方式，可W排除本 文描述的任何介電層。此外，根據其它示例性實施方式，運些層可W被分開，或者可W插入 額外的層。層9'是涂層的功能層，并且在圖15的實施方式中層9'包含C22。如上指出的可W 包含超過一個分離的層的介電層13包含氮化娃，并且層13'包含氧化錯。在本發明的不同實 施方式(包括在上面圖示和描述的實施方式）中，包含Zr化的層可W被提供作為保護性外覆 層。然而，在一些示例性實施方式中，包含SixNy的層可W被提供為外覆層，例如上面提到 的。
[0098] 圖16示出了基于圖14的實施方式的另外的示例性實施方式。圖16類似于圖15,但 是圖16還包括阻擋層6'。阻擋層6'可W包含在圖6-9的實施方式中對于"阻擋層2"的層所討 論的材料。因此，層6'可W起到功能層9'的阻擋層的作用，并且如圖16中所示可W是或包括 NbZr。在其它示例性實施方式中，層6'可W是或包括Nb、Zr、Ti和/或化中的一種或多種。
[0099] 根據不同的示例性實施方式，本文中討論的阻擋層可W被氧化和/或氮化。根據不 同的示例性實施方式，運些層可W在氧氣和/或氮氣的存在下沉積，和/或可W在進一步的 處理步驟例如隨后層的沉積和/或熱處理期間變得氧化和/或氮化。
[0100] 此外，根據不同的示例性實施方式，本文中討論的基于Μ的Ξ元合金可W是四元 合金或具有甚至超過4種材料。換句話說，盡管一些示例性實施方式被描述為"Ξ元合金"， 但將認識到，運樣的合金可包括Ξ種或更多種材料。
[0101] 在另外的實施方式中，是或包括NiCr的層和/或用于瓣射所述層的祀可W包含比 例為20:80、40:60、60:40或80:20(^重量計）的化化。是或包括化1〇的層和/或用于瓣射所 述層的祀可W包含比例為20:80、40:60、60:40或80:20 (W重量計）的NiMo。是或包括NbCr的 層和/或用于瓣射所述層的祀可W包含比例為20:80、40:60、60:40或80:20(^重量計）的 Nb化。是或包括Nb化的層和/或用于瓣射所述層的祀可W包含比例為20:80、40:60、60:40或 80:20 (W重量計）的NbZr。本文中描述的阻擋層還可W是或包括化ynes 214。
[0102] 在一些示例性實施方式中，圖1-16中示出的涂覆制品可W用作在表面1和/或2上 具有低-E涂層的整體窗，其中所述低-E涂層包括僅單一的紅外反射層。然而，在其它示例性 實施方式中，圖1中的涂覆制品可包含進一步的層。此外，按照本文描述的示例性實施方式 制造的涂覆制品，根據不同的示例性實施方式和應用，可用于如下中：在表面1、2、3和/或4 上具有涂層的絕緣玻璃裝置（IGU);具有嵌入在表面2和/或3上的界層中、或設置在所述界 層上、或緊靠所述界層設置、或暴露于表面4上的涂層的層壓整體;具有擁有緊靠表面2和/ 或3上的界層嵌入、或暴露于表面4上的涂層的層壓外側的層壓IGU;具有擁有暴露于表面3 和/或6上、或嵌入在表面4和/或5上的涂層的層壓內側的層壓IGU。換句話說，在不同的示例 性實施方式中，該涂層可W整體地使用，或用于包含兩個或更多個基材的絕緣玻璃裝置中， 或不止一次用于玻璃裝置中，并且可W提供在所述裝置的任何表面上。然而，在其它示例性 實施方式中，本文中描述的涂覆制品可W與任何數量的紅外反射層一起使用，并且可W與 任何數量的其它玻璃基材組合，W產生層壓和/或絕緣玻璃裝置。根據不同的示例性實施方 式，涂層也可W與IGU、VIG、汽車玻璃和任何其它應用結合使用。
[0103] 此外，對于其中涂層直接暴露于外部大氣的應用，如本文中描述的圖1-16中的涂 層可W在表面1上使用。在一些示例性實施方式中，運可W包括抗凝結涂層。在其它示例性 實施方式，運可W包括天窗、車窗和/或擋風玻璃、絕緣玻璃裝置、V絕緣玻璃裝置、冰箱和/ 或冷凍庫口等。如本文中描述的圖1-16中的涂層還可W應用于雙絕緣玻璃裝置的表面4或 Ξ絕緣玻璃裝置的表面6, W改善窗戶的U值。運些涂層也可W整體地用在諸如擋風口的應 用中。在一些示例性實施方式中，如本文中所描述的涂層有利地表現出優異的耐久性和穩 定性、低霧度、W及在一些示例性實施方式中光滑、易于清潔的性質。
[0104] 本文描述的涂層的其它示例性實施方式，特別是用于整體涂層應用的涂層，包括 抗凝結涂層。如本文所描述的涂層可用于表面1抗凝結應用。運可W使涂層在戶外環境中長 存。在一些示例性實施方式中，涂層可W具有低的半球福射率，使得玻璃表面更可能保留來 自于內部區域的熱量。運可W有利地減少在其上的凝結的存在。
[0105] 本文描述的涂層的另一種示例性應用包括將本文中公開的示例性涂層或材料應 用于絕緣玻璃裝置的暴露于建筑物內部的表面4(例如離太陽最遠的表面）。在運些情形中， 涂層將暴露于大氣。在一些情形中，運可能損壞堆中的Ag層。然而，通過使用如本文所描述 的涂層，包含改善的阻擋材料和/或Ag合金的涂層可具有改善的耐腐蝕性、W及更好的機械 和/或化學耐久性。
[0106] 盡管一些示例性實施方式已被描述為與低-E涂層有關，但本文中描述的各種阻擋 層可W與不同類型的涂層結合使用。
[0107] 在一些示例性實施方式中，如本文所描述的涂覆制品（例如參見圖1-14)可W進行 或者可w不進行熱處理(例如回火）。如本文中使用的術語"熱處理"是指將制品加熱至足w 實現包含玻璃的制品的熱回火和/或熱強化的溫度。該定義包括，例如，將涂覆制品在烘箱 或爐中在至少約550°C、更優選地至少約580°C、更優選地至少約600°C、更優選地至少約620 °C、最優選地至少約650°C的溫度下加熱一段足W允許回火和/或熱強化的時間。在一些示 例性實施方式中，運可W是至少約2分鐘，或者最長達約10分鐘。
[010引如上所述，一些示例性實施方式可W包括由玻璃基材承載的低-E涂層。運種涂覆 制品可W整體地使用或層壓到另一個玻璃或其它基材。涂覆制品還可W構建到絕緣玻璃 (IG)裝置內。絕緣玻璃裝置一般包含基本上平行的間隔開的第一和第二玻璃基材。在基材 的周邊周圍提供密封，并且在基材之間維持間隙（其可W至少部分地填充有惰性氣體例如 A;r、Xe、K;r等）。
[0109] 如上面提到的，本文公開的示例性材料可W與低-E和/或抗凝結應用結合使用。示 例性的低-E和/或抗凝結涂層描述在例如申請序列號12/926,714、12/923,082、12/662， 894、12/659,196、12/385,234、12/385,802、12/461,792、12/591,611 和 12/654,594中，其全 部內容在此引入作為參考。因此，例如在一些示例性實施方式中，本文描述的一種或多種阻 擋層材料可W代替或補充一個或多個包含Ni和/或化的層。在一些示例性實施方式中，本文 公開的材料中的一種或多種可W代替或補充一個或多個功能性IR反射(典型地為基于Ag 的)層。
[0110] 本文描述的層中的一些或全部可W通過瓣射沉積或任何其它適合的技術例如 CVD、燃燒沉積等來設置。
[0111] 如本文中使用的術語"在……上"、"由……承載"等，除非明確指出，否則不應被解 釋為意指兩個元件彼此直接相鄰。換句話說，即使在第一層與第二層之間存在一個或多個 層，第一層也可W被稱為"狂'第二層"上"或"肚'第二層"承載"。
[0112] 盡管已經結合目前被認為是最實用和優選的實施方式的內容對本發明進行了描 述，但將理解，本發明不限于所公開的實施方式，而是相反，意圖覆蓋包含在所附權利要求 書的精神和范圍內的各種修改和等同布置。
【主權項】
1. 一種包括由玻璃基材支撐的涂層的涂敷制品，所述涂層包括： 第一介電層； 至少在所述第一介電層上方的包含銀的紅外反射層； 在所述紅外反射層上方并與其直接接觸的包含金屬百分比為54-58wt. %Ni、20-22.5wt. %Cr、和 12.5-14.5wt. %Mo的氧化阻擋層。2. 根據權利要求1所述的涂覆制品，其特征在于，所述涂層為低-E涂層。3. 根據權利要求1所述的涂覆制品，其特征在于，還包括位于所述包含銀的紅外反射層 下方并與其直接接觸的包含54-58wt. %Ni、20-22.5wt. %Cr、和12.5-14.5wt. %Mo的另一 個氧化阻擋層。4. 根據權利要求1所述的涂覆制品，其特征在于，還包括與所述阻擋層接觸的包含NbZr 的子阻擋層。5. -種包含由玻璃基材支撐的涂層的涂覆制品，所述涂層包括： 第一介電層； 至少在所述第一介電層上方的包含銀的紅外反射層； 在所述紅外反射層下方并與其直接接觸的包含金屬百分比為63-67wt. %Ni、l-2wt. % Cr、和25-30wt. %Mo的接觸層。6. 根據權利要求5所述的涂覆制品，其特征在于，所述涂層為低-E涂層。7. 根據權利要求5所述的涂覆制品，其特征在于，還包括位于所述接觸層下方并與其直 接接觸的包含NbZr的層。8. 根據權利要求5所述的涂覆制品，其特征在于，所述介電層包括氮化硅。
【文檔編號】C03C17/36GK105948534SQ201610257540
【公開日】2016年9月21日
【申請日】2011年10月12日
【發明人】穆罕默德·伊姆蘭, 貝恩德·迪斯特爾多爾夫, 馬庫斯·弗蘭克, 理查德·布萊克
【申請人】葛迪恩實業公司