光觸媒自潔玻璃及制備工藝的制作方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及自潔玻璃及其制備工藝，具體屬于一種新型摻雜Si02光觸媒自潔玻璃及制備工藝。
【背景技術】
[0002]隨著人民生活方式和生活意識的不斷改變，對具有自潔功能的產品需求量不斷增加，由此，市場上出現了批量的自潔玻璃。自潔玻璃大都采用在玻璃表面直接輥鍍自清潔層，此種方法加工較為簡單。但是在使用過程中發現自潔鍍膜層使用壽命短，在玻璃的切割過程中容易引起自潔鍍膜層的剝落、皺起、橘皮和皴裂等現象。自潔鍍膜層剝落后，玻璃表面極易出現發黃或泛白等被二次污染的表征，自潔鍍膜層皺起后，導致鍍膜層與玻璃基層的附著力降為零，極易剝落，自潔鍍膜層橘皮現象是指自潔鍍膜層與玻璃基層出現附著力下降但是未降到零，顏色表征為泛淺黃色，自潔鍍膜層皴裂是指自潔鍍膜層受到刮劃外力時，連續出現皺起的情況。為了延長自潔玻璃上自潔鍍膜層的使用壽命，必須增加自潔鍍膜層與玻璃基層的附著力，增強自潔玻璃的耐老化性能和耐加工性能。
【發明內容】
[0003]本發明提供了一種新型摻雜Si02光觸媒自潔玻璃及制備工藝，提高了自潔鍍膜層與玻璃基層的附著力，增強了自潔鍍膜面的耐老化性能，同時使自潔玻璃的后期切割加工性能得到顯著的提高。
[0004]為了達到上述目的，本發明采用以下技術方案:
[0005]一種新型摻雜Si02光觸媒自潔玻璃及制備工藝，由摻雜Si02光觸媒自清潔膜層和玻璃基層構成，摻雜Si02光觸媒自清潔膜層由摻雜納米Si02的光觸媒自清潔涂液通過滾涂機均勻涂布在玻璃表面，然后經過高溫燒結制成，玻璃基層為懸浮法制造的普通鈉鈣硅酸鹽玻璃，其可見光的透過率為85 %?89 %。
[0006]優選地，所述摻雜Si02光觸媒自清潔膜層的主要成分為Si02、Ti02，將含有Si02和Ti02的有機酸性溶劑按照一定比例混合制成溶膠涂液，采用溶膠凝膠工藝由滾涂機均勻滾涂鍍膜經高溫燒結制成。
[0007]優選地，所述摻雜Si02光觸媒自潔玻璃制備工藝為:玻璃原片一一切割一一磨邊--清洗--$昆涂鍍膜--烘干--尚溫燒結--退火--成品，其中烘干溫度為
150°C?300°C，時間為2min?3min，燒結溫度為450°C?650°C，時間為2min?lOmin，退火為隨爐退火，退火時的平均降溫速度為20°C?30°C /min。
[0008]優選地，所述摻雜納米Si02的光觸媒自清潔涂液由光伏增透減反射涂液與光觸媒自清潔基礎涂液混合而成，光伏增透減反射涂液為光觸媒自清潔基礎涂液體積的8 %?20%,固體份含量為4%?8%，比重為0.8?1.3g/cm3，黏稠度為5mPa.s?25mPa.S。
[0009]優選地，所述采用摻雜Si02光觸媒自潔玻璃的可見光透過率為80%?86%。
[0010]與已有技術相比，新型摻雜Si02光觸媒自潔玻璃及制備工藝，通過高溫燒結和優選的退火工藝及相匹配的自清潔涂液和滾涂機均勻滾涂鍍膜，延長光觸媒自潔鍍膜層的耐老化性能，增強光觸媒自潔鍍膜層與玻璃基層的附著力，提高光觸媒自潔鍍膜玻璃后期切割加工性能。
【附圖說明】
[0011]圖1為本發明的結構示意圖；
【具體實施方式】
[0012]參見附圖，一種新型摻雜Si02光觸媒自潔玻璃及制備工藝，準備好供加工生產使用的玻璃原片，切割成實際生產需要的玻璃尺寸，對切割邊或有明顯刮楞邊進行打磨，隨后使用無水乙醇對玻璃塊清洗，將制備完成的摻雜納米Si02的光觸媒自清潔涂液使用滾涂機均勻涂布在玻璃基層2表面，放置1min后再用滾涂機均勻涂布摻雜納米Si02的光觸媒自清潔涂液，如此循環3次，將其放入烘干爐爐溫為150°C?300°C，時間為2min?3min，取出后將其放入高溫燒結爐進行連續2min?1min的高溫燒結，燒結溫度為450°C?650°C，此時在玻璃基層2表面形成摻雜Si02光觸媒自清潔膜層1，隨后進行隨爐退火，使高溫燒結爐按照平均降溫速度為20°C?30°C /min,連續降溫直至室溫，制成新型摻雜Si02光觸媒自潔玻璃。
【主權項】
1.一種新型摻雜Si02光觸媒自潔玻璃及制備工藝，由摻雜Si02光觸媒自清潔膜層和玻璃基層構成，摻雜Si02光觸媒自清潔膜層由摻雜納米Si02的光觸媒自清潔涂液通過滾涂機均勻涂布在玻璃表面，然后經過高溫燒結制成，玻璃基層為懸浮法制造的普通鈉鈣硅酸鹽玻璃，其可見光的透過率為85 %?89 %。2.根據權利要求1所述的新型摻雜Si02光觸媒自潔玻璃及制備工藝，其特征在于:所述的摻雜Si02光觸媒自清潔膜層的主要成分為Si02、Ti02，將含有Si02和Ti02的有機酸性溶劑按照一定比例混合制成溶膠涂液，采用溶膠凝膠工藝由滾涂機均勻滾涂鍍膜經高溫燒結制成。3.根據權利要求1和2所述的新型摻雜Si02光觸媒自潔玻璃及制備工藝，其特征在于:所述的制備工藝為:玻璃原片一一切割一一磨邊一一清洗一一輥涂鍍膜一一烘干一一高溫燒結——退火——成品，其中烘干溫度為150°C?300°C，時間為2min?3min，燒結溫度為450°C?650°C，時間為2min?lOmin，退火為隨爐退火，退火時的平均降溫速度為20°C ?30 °C /min。4.根據權利要求1所述的新型摻雜Si02光觸媒自潔玻璃及制備工藝，其特征在于:所述的摻雜納米Si02的光觸媒自清潔涂液由光伏增透減反射涂液與光觸媒自清潔基礎涂液混合而成，光伏增透減反射涂液為光觸媒自清潔基礎涂液體積的8%?20%，固體份含量為4%?8%，比重為0.8?1.3g/cm3，黏稠度為5mPa.s?25mPa.S。5.根據權利要求1所述的新型摻雜Si02光觸媒自潔玻璃及制備工藝，其特征在于:所述的采用摻雜Si02光觸媒自潔玻璃的可見光透過率為80%?86%。
【專利摘要】本發明公開一種新型摻雜SiO2光觸媒自潔玻璃及制備工藝，由摻雜SiO2光觸媒自清潔膜層和玻璃基層構成。摻雜SiO2光觸媒自清潔膜層由摻雜納米SiO2的光觸媒自清潔涂液通過滾涂機均勻涂布在玻璃表面，然后經過高溫燒結制成。玻璃基層為懸浮法制造的普通鈉鈣硅酸鹽玻璃，其可見光的透過率為85％～89％。采用此工藝制作的玻璃表面具有自清潔功能，同時自清潔膜層的使用壽命長，透光率高。
【IPC分類】C03C17/23
【公開號】CN104926151
【申請號】CN201510275703
【發明人】孔德云, 王紅武, 馬義虎
【申請人】合肥潤嘉節能玻璃有限責任公司
【公開日】2015年9月23日
【申請日】2015年5月19日