新型鍍膜容器的制造方法
【專利摘要】本實用新型公開一種新型鍍膜容器，包括坩堝和襯鍋；所述襯鍋內盛放蒸鍍源并放置在所述坩堝內，其特征在于：所述襯鍋的上開口具有向內延伸的突起部。通過調整襯鍋的上開口的突起部，在保證鍍膜的均勻性和厚度的情況下，使得蒸鍍源在鍍膜過程中降低其蒸發角度，從而降低其材料耗用。
【專利說明】
新型鍍膜容器
技術領域
[0001]本實用新型涉及一種真空蒸發設置，具體為一種新型鍍膜容器。
【背景技術】
[0002]蒸鍍法是屬于一種物理氣相沉積的真空鍍膜技術。通常是將蒸鍍源的材料直接放在坩禍里或者放置于襯鍋之中，再將襯鍋放在坩禍之中(如圖1所示)，通過對材料進行施加熱能，使材料從固態轉化為氣態的原子、原子團或分子，然后凝聚在到待鍍膜的基片表面形成薄膜，該技術廣泛應用于太陽能薄膜、半導體晶片、平板顯示、光學晶片等多個領域。襯鍋是蒸鍍設備所使用的重要元件之一。
[0003]現有的真空鍍膜機主要是利用電子槍將蒸鍍材料進行加熱，并將蒸鍍材料蒸發到光學元件表面形成薄膜。現有的蒸鍍材料一般直接放在坩禍內，也有用襯鍋裝載再放在坩禍里。其蒸發薄膜的厚度主要決定于蒸鍍源的蒸發速率和時間，并與源與基片的距離有關。對于大面積或較大量的鍍膜，常采用旋轉基片或多蒸鍍源的方式以保證膜厚厚度的均勻性。從蒸鍍源到基片的距離應小于蒸汽分子在殘余氣體中的平均自由程。因此在保證均勻性的情況下，基片與源的距離固定不變。鍍膜機臺在鍍膜時會有一蒸發角度，蒸發角度對于不同的蒸鍍源、不同鍍膜參數會存在一定的差異。黃金在LED制作中消耗非常大，而在鍍膜過程中黃金會變成液體其蒸發面積大于其余金屬源，所以其蒸發角度也會大于其余金屬蒸發角度。
[0004]目前LED蒸鍍的成本主要在于貴重金屬如黃金的耗量部分，通過設計新的襯鍋可以使黃金的蒸發角度降低，從而降低消耗的黃金。
【實用新型內容】
[0005]針對上述技術問題，本實用新型公開一種新型鍍膜容器，包括坩禍和襯鍋;所述襯鍋內盛放蒸鍍源并放置在所述坩禍內，其特征在于:所述襯鍋的上開口具有向內延伸的突起部。
[0006]優選地，所述向內延伸的突起部呈環形狀。
[0007]優選地，所述向內延伸的突起部寬度為Imm?10_。
[0008]優選地，所述襯鍋的上開口外徑為40?60mm。
[0009]優選地，所述襯鍋的上開口內徑為15?30mm。
[0010]優選地，所述襯鍋的高度為20mm?30mm。
[0011]優選地，所述襯鍋的材料為石英玻璃或鉬或媽或無氧銅高恪點金屬。
[0012]優選地，所述蒸鍍源的材料為鉻或鉑或鈦或銀或鋁或金或前述組合
[0013]與現有技術相比，本實用新型具有以下有益效果:通過在襯鍋的上開口設置向內延伸的突起部，在保證鍍膜的均勻性和厚度的情況下，降低蒸發材料的蒸發角度，使得單位時間內蒸發出來的材料下降，從而降低材料的使用耗量。此外，通過設計不同的寬度的突起部，還可以用以調整蒸發角度。本實用新型部分極易設計，生產過程管控簡單，便于產業化生產。
【附圖說明】
[0014]圖1為現有的光學鍍膜容器的結構剖視圖。
[0015]圖2為本實用新型所述新型光學鍍膜容器的結構剖視圖。
[0016]圖不說明:1:1甘禍;2:襯鍋;3:關起部。
【具體實施方式】
[0017]以下結合實施例來進一步解釋本發明，但實施例并不對本發明做任何限定。
[0018]下面結合附圖對本實用新型做進一步的詳細說明，以令本領域技術人員參照說明書文字能夠據以實施。
[0019]如圖2所示，本實用新型公開一種新型鍍膜容器，包括坩禍I和襯鍋2;襯鍋2內盛放蒸鍍源(圖中未示出)并放置在所述坩禍3內襯鍋2的上開口具有向內延伸的突起部3。
[0020]具體地，蒸鍍源的材料可以選用鉻或鉑或鈦或銀或鋁或金，本實施例優選金;襯鍋的上開口外徑Rl為40?60mm，優選49mm，上開口內徑R2為15?30mm，優選25mm，高度H為20mm?30mm，優選27mm。襯鍋選用導熱系數較高、耐高溫并且不與鍍膜材料發生化學反應的材料，可以諸如石英玻璃或鉬或鎢或無氧銅高熔點金屬。突起部3從襯鍋2的內側壁，沿上開口向內延伸形成，為了保證鍍膜的厚度均勻性，優選規則周期分布，本實施例優選突起部3呈環形狀，寬度0為1111111~10111111，優選51111]1。
[0021]通過在襯鍋上開口設置突起部，可以在保證鍍膜的均勻性和厚度前提下，使得貴重金屬如黃金的鍍膜角度變小，減少了在鍍膜過程中源的耗量，從而降低鍍膜成本。經試驗比對，采用本實用新型的鍍膜容器，其相同厚度的膜層，蒸鍍源的材料耗量下降了 10%左右，蒸發角度縮小6°左右。通過設計不同寬度的突起部，用以調整蒸發角度。
[0022]本實用新型部分極易設計，生產過程管控簡單，便于產業化生產。
[0023]盡管本實用新型的實施方案已公開如上，但其并不僅僅限于說明書和實施方式中所列運用，它完全可以被適用于各種適合本實用新型的領域，對于熟悉本領域的人員而言，可容易地實現另外的修改，因此在不背離權利要求及等同范圍所限定的一般概念下，本實用新型并不限于特定的細節和這里示出與描述的圖例。
【主權項】
1.新型鍍膜容器，包括坩禍和襯鍋;所述襯鍋內盛放蒸鍍源并放置在所述坩禍內，其特征在于:所述襯鍋的上開口具有向內延伸的突起部。2.根據權利要求1所述的新型鍍膜容器，其特征在于:所述向內延伸的突起部呈環形狀。3.根據權利要求1所述的新型鍍膜容器，其特征在于:所述向內延伸的突起部寬度為Imm?1mmο4.根據權利要求1所述的新型鍍膜容器，其特征在于:所述襯鍋的上開口外徑為40?60mm ο5.根據權利要求1所述的新型鍍膜容器，其特征在于:所述襯鍋的上開口內徑為15?30mm ο6.根據權利要求1所述的新型鍍膜容器，其特征在于:所述襯鍋的高度為20~30_。7.根據權利要求1所述的新型鍍膜容器，其特征在于:所述襯鍋的材料為石英玻璃或鉬或媽或無氧銅高恪點金屬。8.根據權利要求1所述的新型鍍膜容器，其特征在于:所述蒸鍍源的材料為鉻或鉑或鈦或銀或招或金。
【文檔編號】C23C14/24GK205501401SQ201620113307
【公開日】2016年8月24日
【申請日】2016年2月4日
【發明人】廖齊華, 郭明興, 鄧有財, 馮巖, 許亞紅, 張家豪
【申請人】廈門三安光電有限公司