一種基板處理裝置的制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種基板處理裝置，屬于平板顯示技術領域。本實用新型包括一種基板處理裝置至少包括一負極機構，負極機構至少包括一第一靶位以及對應第一靶位的第一驅動機構，第一靶位具有第一靶材以及至少一第一磁鋼；第一靶材固定于第一靶位，第一磁鋼設置于第一靶材相背基板的一側；第一驅動機構驅動第一磁鋼在第一靶材范圍內沿第一方向及第二方向往復運動形成第一磁場，第一方向與第二方向相反；第一磁鋼在平行于第一方向上的第一跨度不大于第一靶材在第一方向上的第二跨度的八分之一。本實用新型通過設定磁鋼的第一跨度、移動路徑及移動速度，使移動磁鋼充分轟擊靶材。
【專利說明】
一種基板處理裝置
技術領域
[0001]本實用新型涉及平板顯示技術領域，尤其涉及一種基板處理裝置。
【背景技術】
[0002]磁控濺射鍍膜過程中，由于移動磁場布局限定了濺射范圍，而作為移動磁的磁鋼結構具有一定寬度使得磁鋼移動空間受到限制，因而相應的，靶材部分區域未被充分轟擊致使移動磁場覆蓋范圍受限，造成材料成本浪費。處于磁場中心覆蓋區域的靶材表面離子轟擊充分，靶材表面光潔。而磁場邊緣區域因離子轟擊不充分，生成不規則黑化節瘤。由于黑化節瘤的沉積使磁控濺射的磁場速率降低，膜層質量劣化，須停機開腔清理靶材表面后才能繼續正常濺射。此外，移動磁場的目的是使磁場中心區域覆蓋到整個靶面，但由于原磁場移動速度較慢，形成磁場的中心區域范圍較小，因而使靶材表面局部長時間處于磁場邊緣狀態，離子轟擊不充分，仍易生成黑化節瘤。
【實用新型內容】
[0003]有鑒于此，本實用新型提供一種節約材料成本，靶材轟擊充分，防止生成黑化節瘤的一種基板處理裝置。
[0004]為實現上述目的，本實用新型的技術方案如下:
[0005]根據本實用新型的一個方面，提供的一種基板處理裝置，其至少包括:一負極機構，負極機構至少包括一第一靶位以及對應第一靶位的第一驅動機構，第一靶位具有第一靶材以及至少一第一磁鋼;第一靶材固定于第一靶位，第一磁鋼設置于第一靶材相背基板的一側;第一驅動機構驅動第一磁鋼在第一靶材范圍內沿第一方向及第二方向往復運動形成第一磁場，第一方向與第二方向相反;第一磁鋼在平行于第一方向上的第一跨度不大于第一靶材在第一方向上的第二跨度的八分之一。
[0006]優選地，本實用新型提供的該基板處理裝置中的第一磁鋼在一次往返運動中，其沿第一方向上運動的距離為第一距離，其沿第二方向上運動的距離為第二距離，第一距離與第二距離之和等于兩倍的第二跨度。
[0007]優選地，本實用新型提供的該基板處理裝置中的第一靶位還至少設置一第二磁鋼，第一磁鋼及第二磁鋼平行且間隔設置于靶材相背基板的一側，第二磁鋼平行于第一方向上的第三跨度與第一跨度相等，第一磁鋼與第二磁鋼的間隔距離為第二跨度的二分之一，第一磁鋼及第二磁鋼在一次往返運動中，第一磁鋼及第二磁鋼沿第一方向上運動的距離之和為第三距離，第一磁鋼及第二磁鋼沿第二方向上運動的距離之和為第四距離，第三距離與第四距離之和等于兩倍的第二跨度。
[0008]進一步的，本實用新型提供的該基板處理裝置中的第一驅動機構驅動第一磁鋼及第二磁鋼勻速運動，第一磁鋼、第二磁鋼勻速運動的速度為第一速度。
[0009]進一步的，本實用新型提供的該基板處理裝置中還包括至少一個正極機構，正極機構包括至少一個傳送單元，基板放置于傳送單元上相對負極機構的一側，傳送單元勾速輸送基板經過第一磁場。
[0010]進一步的，本實用新型提供的該基板處理裝置中的第一速度設置于29mm/min至41mm/min之間；傳送單元輸送基板勾速經過第一磁場的速度為第二速度，第二速度不大于第一速度的0.1倍。
[0011]本實用新型提供的基板處理裝置中，由于收窄磁鋼的跨度，相對增加了其在靶材范圍內的移動空間；設置磁鋼相對靶材的移動路徑使其在往復運動中也能夠充分轟擊該靶材的邊緣區域；同時提升磁鋼的移動速度，減少磁鋼在靶材邊緣區域的停留時間，從而充分轟擊利用靶材，節約材料成本，防止生成黑化瘤。
【附圖說明】
[0012]下面將結合附圖及實施例對本實用新型作進一步說明，附圖中:
[0013]圖1為本實用新型提供的一較佳實施例的基板處理裝置的示意圖；
[0014]圖2為圖1實施例的負極機構的示意圖；
[0015]圖3為本實用新型提供的另一較佳實施例的負極機構的示意圖。
【具體實施方式】
[0016]為說明本實用新型提供的基板處理裝置所要解決的技術問題、技術方案及有益效果更加清楚、明白，以下結合附圖和實施例，對本實用新型進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本實用新型，并不用于限定本實用新型。
[0017]參考圖1和圖2，圖1為本實用新型提供的一較佳實施例的基板處理裝置的示意圖；圖2為圖1實施例的負極機構10的示意圖。本實用新型提供的基板處理裝置至少包括一負極機構10，負極機構10至少包括一第一靶位100以及對應第一靶位100的第一驅動機構，第一靶位100具有第一靶材110以及至少一第一磁鋼120;第一靶材110固定于第一靶位100，第一磁鋼120設置于第一靶材110相背基板的一側;第一驅動機構驅動第一磁鋼120在第一靶材110范圍內沿第一方向及第二方向往復運動形成第一磁場，第一方向與第二方向相反;第一磁鋼120在平行于第一方向上的第一跨度121不大于第一靶材110在第一方向上的第二跨度111的八分之一。該基板處理裝置中還包括至少一個正極機構20，正極機構20包括至少一個傳送單元200，基板放置于傳送單元200上相對負極機構10的一側，傳送單元200勾速輸送基板經過第一磁場。
[0018]作為一種優選的實施例，第一磁鋼120在單次往返運動中，其沿第一方向上運動的距離為第一距離dl，其沿第二方向上運動的距離為第二距離d2，第一距離dl與第二距離d2之和等于或接近于兩倍的第二跨度111。
[0019]參照圖2，假定第一磁鋼120的起始位置設置于第一靶材110相背基板的一側的中央位置，當該基板處理裝置開始運行，第一磁鋼120沿第一方向朝向第一靶材110的邊緣A移動，當第一磁鋼120勻速運動至或接近邊緣A時，由第一驅動機構驅動第一磁鋼120沿第二方向運行，即朝向第一革G材110的邊緣B勻速運動，當第一磁鋼120運動至或接近邊緣B時，第一驅動機構再將第一磁鋼120沿第一方向驅動，使第一磁鋼120移動至相對第一靶材110的中央位置，單次往復移動完成。第一距離dl與第二距離d2方向相反但距離長度相等，均等于或接近于第一靶材110邊緣A至邊緣B的距離長度。因第一磁鋼120的在平行于第一方向上的第一跨度121不大于第一靶材110在第一方向上的第二跨度111的八分之一，該第一磁鋼120自身所具有的第一跨度121占用第一靶材110可移動距離的空間大大減小，因此轟擊靶材更為充分。第一驅動機構驅動第一磁鋼120以第一速度勻速運動，該第一速度不小于29mm/min，更佳的，可將第一速度設置于29mm/min至41mm/min之間；傳送單元200輸送基板勾速經過第一磁場的速度為第二速度，第二速度不大于第一速度的0.1倍。因此設定的第一速度較快，而第二速度不大于0.1倍的第一速度，第二速度相對第一速度的方向相同或相反時，影響均較小。當第一速度較快，其停留于第一靶材110邊緣區域的時間越短，單位時間內對靶材的轟擊越充分，抑制黑化節瘤生長，延長高效濺射時間，提高靶材利用率。第一磁鋼120可由不同厚度的小磁塊拼裝而成。
[0020]參考圖3，圖3為本實用新型提供的另一較佳實施例的負極機構10的示意圖。作為本實用新型提供的優選實施例，該基板處理裝置的負極機構10至少包括第一靶位100以及對應第一靶位100的第一驅動機構。第一靶位100具有第一靶材110以及至少一第一磁鋼120以及一第二磁鋼130;第一靶材110固定于第一靶位100，第一磁鋼120以及第二磁鋼130設置于第一靶材110相背基板的一側;第一驅動機構驅動第一磁鋼120以及第二磁鋼130同向同速運動，且第一驅動機構驅動第一磁鋼120及第二磁鋼130在第一靶材110范圍內沿第一方向及第二方向往復運動形成第一磁場，第一方向與第二方向相反;第一磁鋼120在平行于第一方向上的第一跨度121不大于第一靶材110在第一方向上的第二跨度111的八分之一，第一磁鋼120及第二磁鋼130平行且間隔設置于靶材相背基板的一側，第二磁鋼130平行于第一方向上的第三跨度131與第一跨度121相等，第一磁鋼120與第二磁鋼130的間隔距離為第二跨度111的二分之一，第一磁鋼120及第二磁鋼130在一次往返運動中，第一磁鋼120及第二磁鋼130沿第一方向上運動的距離之和為第三距離d3，第一磁鋼120及第二磁鋼130沿第二方向上運動的距離之和為第四距離d4，第三距離d3與第四距離d4之和接近或等于兩倍的第二跨度111。第一驅動機構驅動第一磁鋼120及第二磁鋼130勻速運動，第一磁鋼120及第二磁鋼130勻速運動的速度為第一速度，第一速度不小于29mm/min，更佳的，可將第一速度設置于29mm/min至41mm/min之間。
[0021]在本實施例中，基板處理裝置中還包括至少一個正極機構20，正極機構20包括至少一個傳送單元200，基板放置于傳送單元200上相對負極機構10的一側，傳送單元200勾速輸送基板經過第一磁場。傳送單元200輸送基板勻速經過第一磁場的速度為第二速度，第二速度不大于第一速度的0.1倍。
[0022]在本實施例中，第一磁鋼120與第二磁鋼130設置于同一靶位，第一磁鋼120及第二磁鋼130對應固定于該靶位的第一靶材110設置。因第一磁鋼120與第二磁鋼130的間隔距離為第二跨度111的二分之一，假定第一磁鋼120設置于第一靶材110在第一方向上的四分之一處，第二磁鋼130設置于第一靶材110在第一方向上的四分之三處，當該基板處理裝置開始運行，第一磁鋼120與第二磁鋼130同步沿第一方向運動，第一磁鋼120移動至第一靶材110的邊緣A，第二磁鋼130移動至第一靶材110中央位置，二者以第一速度在同一期間移動了接近或等于四分之一第二跨度111的距離，由第一驅動機構驅動第一磁鋼120與第二磁鋼130同步沿第二方向運行，第一磁鋼120移動至起始位置，第二磁鋼130移動至或接近第一靶材110的邊緣B，第一驅動機構再將第一磁鋼120與第二磁鋼130沿第一方向驅動，使第一磁鋼120移動至相對第一靶材110的中央位置，第一驅動機構驅動第一磁鋼120與第二磁鋼130同步沿第一方向運行，第一磁鋼120及第二磁鋼130都移動至起始位置，一個往復移動完成。因此，第一磁鋼120及第二磁鋼130沿第一方向上運動的距離之和為第三距離d3，第一磁鋼120及第二磁鋼130沿第二方向上運動的距離之和為第四距離d4，第三距離d3與第四距離d4之和等于或接近兩倍的第二跨度111。第一磁鋼120、第二磁鋼130可由不同厚度的小磁塊拼裝而成。
[0023]本實用新型提供的基板處理裝置中，由于收窄磁鋼的跨度，相對增加了其在靶材范圍內的移動空間，設置磁鋼相對靶材的移動路徑使其在往復運動中也能夠充分轟擊該靶材的邊緣區域；同時提升磁鋼的移動速度，減少磁鋼在靶材邊緣區域的停留時間，從而充分轟擊利用靶材，節約材料成本，防止生成黑化瘤。
[0024]以上為本實用新型提供的基板處理裝置的較佳實施方式，并不能理解為對本實用新型權利保護范圍的限制，本領域的技術人員應該知曉，在不脫離本實用新型構思的前提下，還可做多種改進或替換，所有的該等改進或替換都應該在本實用新型的權利保護范圍內，即本實用新型的權利保護范圍應以權利要求為準。
【主權項】
1.一種基板處理裝置，其至少包括: 一負極機構，所述負極機構至少包括一第一靶位以及對應所述第一靶位的第一驅動機構，所述第一靶位具有第一靶材以及至少一第一磁鋼； 所述第一靶材固定于所述第一靶位，所述第一磁鋼設置于所述第一靶材相背基板的一側； 所述第一驅動機構驅動所述第一磁鋼在所述第一靶材范圍內沿第一方向及第二方向往復運動形成第一磁場，所述第一方向與所述第二方向相反； 所述第一磁鋼在平行于所述第一方向上的第一跨度不大于所述第一靶材在所述第一方向上的第二跨度的八分之一。2.如權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，所述第一磁鋼在一次往返運動中，其沿所述第一方向上運動的距離為第一距離，其沿所述第二方向上運動的距離為第二距離，所述第一距離與所述第二距離之和等于兩倍的所述第二跨度。3.如權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，所述第一靶位還至少設置一第二磁鋼，所述第一磁鋼及所述第二磁鋼平行且間隔設置于所述靶材相背所述基板的一側，所述第二磁鋼平行于所述第一方向上的第三跨度與所述第一跨度相等，所述第一磁鋼與所述第二磁鋼的間隔距離為所述第二跨度的二分之一，所述第一磁鋼及所述第二磁鋼在一次往返運動中，所述第一磁鋼及所述第二磁鋼沿所述第一方向上運動的距離之和為第三距離，所述第一磁鋼及所述第二磁鋼沿所述第二方向上運動的距離之和為第四距離，所述第三距離與所述第四距離之和等于兩倍的所述第二跨度。4.如權利要求2至3任一項所述的基板處理裝置，其特征在于，所述第一驅動機構驅動所述第一磁鋼、所述第二磁鋼勻速運動，所述第一磁鋼及所述第二磁鋼勻速運動的速度為第一速度。5.如權利要求4所述的基板處理裝置，其特征在于，其包括至少一個正極機構，所述正極機構包括至少一個傳送單元，所述基板放置于所述傳送單元上相對所述負極機構的一側，所述傳送單元勻速輸送所述基板經過所述第一磁場。6.如權利要求5所述的基板處理裝置，其特征在于，所述第一速度設置于29mm/min至41mm/min之間；所述傳送單元輸送所述基板勾速經過所述第一磁場的速度為第二速度，所述第二速度不大于所述第一速度的0.1倍。
【文檔編號】C23C14/35GK205473963SQ201521145185
【公開日】2016年8月17日
【申請日】2015年12月30日
【發明人】申屠江民, 樂衛文, 張平, 祝宇
【申請人】浙江金徠鍍膜有限公司