一種線性蒸發源、蒸發源系統及蒸鍍裝置的制造方法
【專利摘要】本實用新型公開一種線性蒸發源、蒸發源系統及蒸鍍裝置,涉及顯示技術領域,以在采用線性蒸發源蒸鍍工藝制作有機電致發光顯示器的發光層時,提高其在線源方向上的膜厚均一性。該線性蒸發源包括用于蒸發蒸鍍材料的加熱裝置,加熱裝置的噴嘴安裝面上設有線性噴嘴組,線性噴嘴組包括沿線源方向設在噴嘴安裝面的多個噴嘴;加熱裝置中設有能夠使加熱裝置的加熱溫度均一的溫度補償板。而蒸發源系統包括上述提到的線性蒸發源。本實用新型提供的線性蒸發源用于蒸鍍裝置中。
【專利說明】
一種線性蒸發源、蒸發源系統及蒸鍍裝置
技術領域
[0001]本實用新型涉及顯示技術領域,尤其涉及一種線性蒸發源、蒸發源系統及蒸鍍裝置。
【背景技術】
[0002]有機電致發光顯示器是一種基于有機電致發光材料的電流型半導體發光器件,其主要依靠金屬電極向發光層施加一定的電壓,使發光層中的有機電致發光材料發光,從而實現圖像響應;它以低功耗、高對比度、高色域、以及可以實現柔性顯示的優點受到人們的廣發關注。
[0003]目前,人們在制作有機電致發光顯示器時,一般利用線性蒸發源蒸鍍工藝將有機電致發光材料蒸鍍到目標基板上,以制作其中的發光層,但是制得的發光層的膜厚在線源方向上膜厚不均勻,使得制成的有機電致發光顯示器的顯示效果比較差。
【實用新型內容】
[0004]本實用新型的目的在于提供一種線性蒸發源、蒸發源系統及蒸鍍裝置,以在采用線性蒸發源蒸鍍工藝制作有機電致發光顯示器的發光層時,提高發光層在線源方向上的膜厚均一性。
[0005]為了實現上述目的,本實用新型提供如下技術方案:
[0006]—種線性蒸發源,包括用于蒸發蒸鍍材料的加熱裝置,所述加熱裝置的噴嘴安裝面上設有線性噴嘴組,所述線性噴嘴組包括沿線源方向設在噴嘴安裝面的多個噴嘴;所述加熱裝置中設有能夠使所述加熱裝置的加熱溫度均一的溫度補償板。
[0007]優選的,所述加熱裝置的加熱部位于溫度補償板內,所述加熱部具多個加熱位置,各所述加熱位置的加熱溫度不同,所述溫度補償板與加熱溫度高的加熱位置對應的部分厚度較薄,所述溫度補償板與加熱溫度低的加熱位置對應的部分厚度較厚。
[0008]優選的,所述溫度補償單元為分體式結構或一體式結構。
[0009]較佳的,所述溫度補償板包括多個溫度補償單元,多個溫度補償單元沿著線源方向排列。
[0010]優選的,從所述線性噴嘴組的中心向所述線性噴嘴組的兩側,所述線性噴嘴組中噴嘴的孔徑增大或減小。
[0011]本實用新型還提供了一種蒸發源系統,包括至少兩個上述技術方案所述線性蒸發源,各所述線性蒸發源沿線源方向。
[0012]優選的,每個所述線性蒸發源中,所述噴嘴安裝面上設有兩個能夠調整所述線性蒸發源的蒸鍍區域的角度板,所述線性噴嘴組位于兩個所述角度板之間。
[0013]較佳的,每個所述線性蒸發源中,兩個所述角度板具有能夠調節蒸鍍區域的高度差;所述角度板的高度是指所述角度板伸出所述噴嘴安裝面的長度。
[0014]較佳的,所述線性蒸發源的數目為兩個時,各所述線性蒸發源的蒸鍍角均為40°-55° 或70° -90。ο
[0015]本實用新型還提供了一種蒸鍍裝置,包括上述技術方案所述的線性蒸發源或上述技術方案所述的蒸發源系統。
[0016]與現有技術相比,本實用新型提供的線性蒸發源具有以下有益效果:
[0017]本實用新型提供的線性蒸發源中,由于加熱裝置中設有溫度補償板,且溫度補償板能夠使得加熱裝置的加熱溫度均一,這樣加熱裝置在加熱蒸鍍材料時,蒸鍍材料的蒸發速度就會一致,使得蒸鍍材料蒸發后形成的蒸鍍氣體從每個噴嘴噴出后,蒸鍍到目標底基板時,所形成的蒸鍍膜的膜厚就會趨向一致;而多個噴嘴沿著線源方向設在噴嘴安裝面上,且由于每個噴嘴噴出的蒸鍍氣體蒸鍍到目標基板時,所形成的蒸鍍膜的膜厚趨向一致,因此,當使用該線性蒸發源將蒸鍍材料蒸鍍到目標基板時,制得的蒸鍍膜在線源方向上的膜厚均一性比較好;而有機電致發光材料是一種具體的蒸鍍材料,所以,當蒸鍍材料為有機電致發光材料時,可以利用本實用新型提供的線性蒸發源蒸鍍有機電致發光材料,提高有機電致發光材料在目標基板上形成的發光層在線源方向上的膜厚均一性。
【附圖說明】
[0018]此處所說明的附圖用來提供對本實用新型的進一步理解,構成本實用新型的一部分,本實用新型的示意性實施例及其說明用于解釋本實用新型,并不構成對本實用新型的不當限定。在附圖中:
[0019]圖1為本實用新型實施例提供的線性蒸發源的結構示意圖;
[0020]圖2為本實用新型實施例中的加熱部在溫度補償前和溫度補償后的蒸鍍膜的膜厚均一性測試圖;
[0021]圖3為本實用新型實施例提供中的噴嘴孔徑改變前和噴嘴孔徑改變后,蒸鍍膜的膜厚均一性測試圖;
[0022]圖4為現有技術中雙主體線性蒸發源的結構示意圖;
[0023]圖5為本實用新型實施例提供的蒸發源系統的結構示意圖;
[0024]圖6為本實用新型實施例提供的蒸發源系統中,各線性蒸發源的蒸鍍角均為70°-90°時,雙主體蒸鍍膜的混合均一性測試圖;
[0025]圖7為本實用新型實施例提供的蒸發源系統中,各線性蒸發源的蒸鍍角均為40°-55°時,雙主體蒸鍍膜的混合均一性測試圖;
[0026]圖8為本實用新型實施例提供的蒸發源系統中,各線性蒸發源的噴嘴孔徑增大,噴嘴安裝角度減小后,蒸鍍膜的混合均一性測試圖;
[0027]附圖標記:
[0028]1-加熱裝置,10-加熱部;
[0029]2-線性噴嘴組,20-噴嘴;
[0030]3-溫度補償板,30-溫度補償單元;
[0031]4-雙主體蒸鍍膜,41-第一材料層;
[0032]42-第二材料層;
[0033]100-第一線性蒸發源,101-第一左側角度板;
[0034]102-第一右側角度板,200-第二線性蒸發源;
[0035]201-第二左側角度板,202-第二右側角度板。
【具體實施方式】
[0036]為了進一步說明本實用新型實施例提供的一種線性蒸發源、蒸發源系統及蒸鍍裝置,下面結合說明書附圖進行詳細描述。
[0037]請參閱圖1,本實用新型實施例提供的線性蒸發源,包括用于蒸發蒸鍍材料的加熱裝置I,加熱裝置I的噴嘴安裝面上設有線性噴嘴組2,線性噴嘴組2包括沿線源方向設在噴嘴安裝的多個噴嘴20;加熱裝置I中設有能夠使加熱裝置I的加熱溫度均一的溫度補償板3;其中,線源方向是指噴嘴線性排列后所形成的線性方向。
[0038]具體實施時,將蒸鍍材料加入加熱裝置中,控制溫度補償板3,以對加熱裝置I進行溫度補償,使得加熱裝置I的加熱溫度均一,從而加熱蒸鍍材料,使蒸鍍材料的蒸發速度一致,蒸鍍材料蒸發后形成的蒸鍍氣體從每個噴嘴噴出后,蒸鍍到目標基板時,提高了所形成的蒸鍍膜的膜厚均一性。
[0039]通過上述實施例提供的線性蒸發源的具體實施過程可知,由于加熱裝置I中設有溫度補償板3,且溫度補償板3能夠使得加熱裝置I的加熱溫度均一,這樣加熱裝置I在加熱蒸鍍材料時,蒸鍍材料的蒸發速度就會一致,使得蒸鍍材料蒸發后形成的蒸鍍氣體從每個噴嘴20噴出后,蒸鍍到目標底基板時,所形成的蒸鍍膜的膜厚就會趨向一致;而多個噴嘴20沿著線源方向設在噴嘴安裝面上,且由于每個噴嘴20噴出的蒸鍍氣體蒸鍍到目標基板時,所形成的蒸鍍膜的膜厚趨向一致,因此,當使用該線性蒸發源將蒸鍍材料蒸鍍到目標基板時,制得的蒸鍍膜的膜厚在線源方向上的膜厚均一性比較好;而有機電致發光材料是一種具體的蒸鍍材料,所以,當蒸鍍材料為有機電致發光材料時,可以利用本實用新型實施例提供的線性蒸發源蒸鍍有機電致發光材料,提高有機電致發光材料在目標基板上形成的發光層在線源方向上的膜厚均一性。
[0040]而考慮到加熱裝置I的加熱部10因為各種問題,使得加熱部10具多個加熱位置,各加熱位置的加熱溫度不同,這些加熱位置按照溫度高低,使得加熱部出現溫度逐漸降低的溫度梯度,導致加熱部10在加熱蒸鍍材料時,加熱部10出現溫度梯度的位置對應加熱的蒸鍍材料的蒸發速度不一樣,從而使蒸鍍到目標基板上的蒸鍍材料所形成的蒸鍍膜的膜厚不一致。請繼續參閱圖1,為了防止這樣的問題發生,通過限定加熱裝置I的加熱部10位于溫度補償板3內,且根據加熱溫度的高低,溫度補償板3與加熱位置對應的部分的薄厚不一,即溫度補償板3與加熱溫度高的加熱位置對應的部分厚度較薄,溫度補償板3與加熱溫度低的加熱位置對應的部分厚度較厚,這樣加熱裝置I的加熱部10在溫度較低的部位通過較厚的溫度補償板3保溫,減少加熱部熱量的流失,從而使加熱部10出現溫度梯度部位的溫度一致,保證了加熱裝置I中蒸鍍材料的蒸發速度一致。
[0041]需要說明的是,上述實施例中的加熱裝置I可以常見的坩禍,也可以為其他可實現的裝置,而加熱部10—般為加熱絲,但不排除其他可實現的方式。
[0042]值得注意的是,當蒸鍍材料被蒸鍍到目標基板上形成蒸鍍膜時,加熱部10—般是沿著線源方向的溫度呈梯度變化,導致蒸鍍膜沿著線源方向的厚度呈梯度變化;因此,為改善加熱部沿著線源方向溫度呈梯度變化,可以將溫度補償板3沿著加熱部10的線源方向布置,使得加熱部I在線源方向加熱溫度一致;請參閱圖2,經試驗證明,加熱部10在線源方向出現溫度梯度時,通過溫度補償板3進行溫度補償后,所形成的蒸鍍膜在線源方向上的膜厚比較均一。
[0043]需要說明的是,上述實施例中的溫度補償板3包括若干溫度補償單元30,其按照線源方向排列,而溫度補償板3可以為一體式,也可以為分體式;當溫度補償板3為一體式時,溫度補償板3的若干溫度補償單元30為整體結構,而當溫度補償板3為分體式時,若干溫度補償單元30組合在一起,且每個溫度補償單元30能夠獨立的對加熱部10不同的加熱位置進行溫度補償,這樣就能夠精確的對加熱部10的各個位置進行溫度補償,提高溫度補償效率。
[0044]另外,不管是一體式還是分體式的溫度補償板3,其均可通過調節自身薄厚對加熱部I進行溫度補償,但是,由于一體式的溫度補償板3是對整個加熱部10進行溫度補償的,這種溫度補償板3是采用一體成型的技術加工得到的,且在加工過程中需要根據加熱部I不同加熱位置的溫度,來加工溫度補償板3與各加熱位置對應的部分的厚度,這樣使得溫度補償板3的加工比較復雜。而分體式的溫度補償板由若干溫度補償單元組合而成,其在加工時,先加工每個溫度補償單元,然后將各個溫度補償單元組合在一起,且由于每個溫度補償單元30能夠獨立的對加熱部10不同的加熱位置進行溫度補償,而每個加熱位置面積比較小,即使出現溫度梯度,也在可接受的范圍內,因此,在加工一個溫度補償單元時,并不需要對溫度補償單元各個部分的薄厚進行控制,只需要根據不同加熱位置的加熱溫度,調整與之對應的溫度補償單元的整體薄厚即可。
[0045]通過上述分析可知,相對于一體式的溫度補償板,分體式補償板不僅能夠提高對加熱部的溫度補償效率,而且還可以降低溫度補償板3中各個溫度補償單元的加工難度。
[0046]另外,考慮到加熱裝置I的內部氣壓在不平衡時,蒸鍍材料蒸發后形成的蒸鍍氣體從各個噴嘴噴出的噴出壓力不同,導致蒸鍍膜的膜厚分布呈U型結構。為了解決這個問題,可以通過調整各個噴嘴的孔徑,使蒸鍍氣體的噴出壓力相同,換句話說,通過調整噴嘴20的孔徑可以改變加熱裝置I內部氣壓,使得加熱裝置I中氣壓過高的地方通過較大孔徑的噴嘴20得以釋放,氣壓過小的地方通過較小孔徑的噴嘴20提升此處壓力。
[0047]例如,蒸鍍膜的膜厚分布呈倒U型結構,即蒸鍍膜在線源方向的中部厚度比較厚,兩側厚度比較薄;此時,可以限定從線性噴嘴組2的中心向線性噴嘴組2的兩側,線性噴嘴組2中噴嘴20的孔徑增大。請參閱圖3,經試驗證明,線性噴嘴組2中噴嘴20的孔徑越大,蒸鍍膜與其對應的部分的膜厚越厚;所以,從線性噴嘴組2的中心向線性噴嘴組2的兩側,線性噴嘴組2中噴嘴20的孔徑增大時,蒸鍍膜兩側的厚度上升,中部的厚度下降,達到了改善蒸鍍膜的膜厚均一性的目的。
[0048]反之,如果膜厚分布呈正U型結構,即蒸鍍膜在線源方向的中部厚度比較薄,兩側厚度比較厚;則限定從線性噴嘴組2的中心向線性噴嘴組2的兩側,線性噴嘴組2中噴嘴20的孔徑減小,以使蒸鍍膜兩側的厚度下降,中部的厚度上升,達到改善蒸鍍膜的膜厚均一性的目的。
[0049]本實用新型實施例還提供了一種蒸發源系統,包括至少兩個上述技術方案提供的線性蒸發源,各線性蒸發源沿線源方向排列。
[0050]與現有技術相比,本實施例提供的蒸發源系統的有益效果與上述技術方案提供的線性蒸發源的有益效果相同,在此不做贅述。
[0051]而且,由于上述實施例提供的蒸發源系統中包括至少兩個線性蒸發源,如果蒸鍍膜中含有多種蒸鍍材料時,可以在各線性蒸發源中加入不同的蒸鍍材料,將這些蒸鍍材料蒸鍍到同一目標基板上即可。但是,由于每個線性蒸發源加入的蒸鍍材料不同,此時就必須考慮每個線性蒸發源的蒸鍍角,否則形成的蒸鍍膜容易出現分層現象,導致蒸鍍膜的混合均一性差。
[0052]例如:圖4公開了一種的蒸發源系統,包括第一線性蒸發源100和第二線性蒸發源200,但是由于第一線性蒸發源100和第二線性蒸發源200沒有考慮到蒸鍍角的問題,直接利用第一線性蒸發源100和第二線性蒸發源200對各自的蒸鍍材料進行蒸鍍后,在目標基板形成了雙主體蒸鍍膜4,該雙主體蒸鍍膜4出現分層線性,形成第一材料層41和第二材料層42交替出現的雙主體蒸鍍膜,使得雙主體蒸鍍膜4的混合均一性差。
[0053]為了克服上述問題,請參閱圖5,上述實施例中,各線性蒸發源的蒸鍍區域重合;因此,各線性蒸發源中的蒸鍍材料即使不同,每個線性蒸發源蒸鍍的蒸鍍材料在目標基板上的區域也是重合的,這樣不同的線性蒸發源蒸鍍對應的蒸鍍材料時,各蒸鍍材料能夠在同一區域充分混合,而如果這些蒸鍍材料為不同種類的有機電致發光材料時,在制作發光層的過程中,能夠保證發光層中各個有機電致發光材料的混合均勻性。
[0054]請參閱圖5,具體的,可以在噴嘴安裝面上設置兩個能夠調整線性蒸發源的蒸鍍區域的角度板,線性噴嘴組位于兩個角度板之間;而兩個角度板調整線性蒸發源的蒸鍍區域是通過兩個角度板具有能夠調節蒸鍍區域的高度之差來實現的,其中,角度板的高度可以定義為角度板伸出噴嘴安裝面的長度。由于兩個角度板的高度之差可以調整對應的線性蒸發源的蒸鍍角,使得該線性蒸發源的蒸鍍角足以覆蓋目標基板,即蒸鍍區域,因此,通過調整各線性蒸發源中兩個角度板的高度之差,即可調整各蒸發源的蒸鍍角,使各線性蒸發源的蒸鍍角覆蓋到同一蒸鍍區域,而當目標基板位于這一蒸鍍區域時,就能保證了各線性蒸發源蒸鍍出的蒸鍍氣體在目標基板上充分混合,形成混合均一的蒸鍍膜;至于線性蒸發源的蒸鍍角選擇,可以根據實際情況進行,只要能夠使得各線性蒸發源的蒸鍍區域重合即可。另外,此處的角度板與噴嘴安裝面的夾角為90°,這是本領域技術人員公知的。
[0055]值得注意的是,上述實施例提供的蒸發源系統中線性蒸發源的數量無論多少,其具體的操作過程相同,下面結合圖5給出一種具體的蒸發源系統。
[0056]請參閱圖5,該蒸發源系統包括第一線性蒸發源100和第二線性蒸發源200;其中,
[0057]第一線性蒸發源100的線性蒸鍍面上設有第一左側角度板101和第一右側角度板102,且第一左側角度板101的高度大于第一右側角度板102。
[0058]第二線性蒸發源200的線性蒸鍍面上設有第二左側角度板201和第二右側角度板202,且第二右側角度板202的高度大于第二左側角度板201。
[0059]具體實施時,向第一線性蒸發源100中加入第一種蒸鍍材料,向第二線性蒸發源200中加入第二種蒸鍍材料;
[0060]調節第一線性蒸發源100的第一左側角度板101和第一右側角度板102的高度差,使得第一線性蒸發源100的蒸鍍區域覆蓋目標基板,調節第二線性蒸發源200的第二右側角度板202和第二左側角度板201的高度,使得第二線性蒸發源200的蒸鍍區域覆蓋目標基板;[0061 ]當第一線性蒸發源100的蒸鍍區域和第一線性蒸發源100的蒸鍍區域覆蓋目標基板時,通過第一線性蒸發源100蒸鍍第一種蒸鍍材料,第二線性蒸發源200蒸鍍第二種材料,使得第一種蒸鍍材料和第二種蒸鍍材料在目標基板上混合,形成雙主體蒸鍍膜4。
[0062]請參閱圖6,當第一線性蒸發源100和第二線性蒸發源200的蒸鍍角均為70°-90°時,可以看出第一線性蒸發源100的蒸鍍區域和第二線性蒸發源200的蒸鍍區域的重合性并不好,所形成的雙主體蒸鍍膜的混合均一性最差可以達到O;
[0063]請參閱圖7,而當第一線性蒸發源100和第二線性蒸發源200的蒸鍍角均為40°-55°時,可以看出雙主體蒸鍍膜4的混合均一性有了進一步的提升,所形成的雙主體蒸鍍膜4的混合均一性約為70 %左右。
[0064]需要說明的是,雖然上述實施例中第一線性蒸發源100可以利用第一左側角度板101和第一右側角度板102的高度差,調整第一線性蒸發源100的蒸鍍角,第二線性蒸發源200可以利用第二右側角度板102和第一左側角度板101的高度差,調整第二線性蒸發源200的蒸鍍角;但是,仍然不可能將雙主體蒸鍍膜4的混合均一性提升至100%,這是因為蒸鍍材料沿著噴嘴方向各個位置的速率不同,而噴嘴有導向氣流的作用,因此,沿著噴嘴軸向方向的蒸鍍速率Vc最高,向兩側的蒸鍍速率Vs逐漸降低,這就使得蒸鍍材料在不同方向上蒸鍍到目標基板時,蒸鍍量以噴嘴軸向方向為中心向兩側依次減少,因此,可以通過降低各個噴嘴的軸線與對應的線性安裝面所形成的噴嘴安裝角度,并增加各個噴嘴孔徑,提升雙主體蒸鍍膜4的混合均一性;請參閱圖8,經試驗證明,通過這樣的調整,雙主體蒸鍍膜4的混合均一性提升到85%以上。
[0065]需要說明的是,上述實施例中第一線性蒸發源100的噴嘴安裝角度與第二線性蒸發源200的噴嘴安裝角度互補,這樣第一線性蒸發源100的線性噴嘴組噴出的蒸鍍氣體在目標基板上形成的蒸鍍膜中,膜厚比較薄的地方可以由第一線性蒸發源100的線性噴嘴組噴出的蒸鍍氣體在目標基板上形成的蒸鍍膜中,膜厚比較厚的地方進行彌補。
[0066]本實用新型實施例還提供了一種蒸鍍裝置,包括上述技術方案提供的線性蒸發源或上述技術方案提供的蒸發源系統。
[0067]與現有技術相比,本實施例提供的蒸鍍裝置與上述技術方案提供的線性蒸發源或上述技術方案提供的蒸發源系統的有益效果相同,在此不做贅述。
[0068]在上述實施方式的描述中,具體特征、結構、材料或者特點可以在任何的一個或多個實施例或示例中以合適的方式結合。
[0069]以上所述,僅為本實用新型的【具體實施方式】,但本實用新型的保護范圍并不局限于此,任何熟悉本技術領域的技術人員在本實用新型揭露的技術范圍內,可輕易想到變化或替換,都應涵蓋在本實用新型的保護范圍之內。因此,本實用新型的保護范圍應以所述權利要求的保護范圍為準。
【主權項】
1.一種線性蒸發源,其特征在于,包括用于蒸發蒸鍍材料的加熱裝置,所述加熱裝置的噴嘴安裝面上設有線性噴嘴組,所述線性噴嘴組包括沿線源方向設在噴嘴安裝面的多個噴嘴;所述加熱裝置中設有能夠使所述加熱裝置的加熱溫度均一的溫度補償板。2.根據權利要求1所述的線性蒸發源,其特征在于,所述加熱裝置的加熱部位于溫度補償板內,所述加熱部具多個加熱位置,各所述加熱位置的加熱溫度不同,所述溫度補償板與加熱溫度高的加熱位置對應的部分厚度較薄,所述溫度補償板與加熱溫度低的加熱位置對應的部分厚度較厚。3.根據權利要求1或2所述的線性蒸發源,其特征在于,所述溫度補償單元為分體式結構或一體式結構。4.根據權利要求3所述的線性蒸發源,其特征在于,所述溫度補償板包括多個溫度補償單元,多個溫度補償單元沿著線源方向排列。5.根據權利要求1或2所述的線性蒸發源,其特征在于,從所述線性噴嘴組的中心向所述線性噴嘴組的兩側,所述線性噴嘴組中噴嘴的孔徑增大或減小。6.—種蒸發源系統,其特征在于,包括至少兩個權利要求1?5中任一項所述線性蒸發源,各所述線性蒸發源沿線源方向排列。7.根據權利要求6所述的蒸發源系統,其特征在于,每個所述線性蒸發源中,所述噴嘴安裝面上設有兩個能夠調整所述線性蒸發源的蒸鍍區域的角度板,所述線性噴嘴組位于兩個所述角度板之間。8.根據權利要求7所述的蒸發源系統,其特征在于,每個所述線性蒸發源中,兩個所述角度板具有能夠調節蒸鍍區域的高度差;所述角度板的高度是指所述角度板伸出所述噴嘴安裝面的長度。9.根據權利要求7或8所述的蒸發源系統,其特征在于,所述線性蒸發源的數目為兩個時,各所述線性蒸發源的蒸鍍角均為40° -55°或70° -90°。10.—種蒸鍍裝置,其特征在于,包括權利要求1?5中任一項所述的線性蒸發源或權利要求6?9中任一項所述的蒸發源系統。
【文檔編號】C23C14/24GK205443432SQ201620286974
【公開日】2016年8月10日
【申請日】2016年4月7日
【發明人】張金中
【申請人】鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司, 京東方科技集團股份有限公司