多室卷繞鍍膜系統用的真空鎖裝置的制造方法
【專利摘要】本實用新型公開一種多室卷繞鍍膜系統用的真空鎖裝置，包括閥座、閥蓋和閥蓋驅動機構，閥蓋設于閥座上方，閥蓋頂部與閥蓋驅動機構連接；真空鎖裝置設于相鄰兩個真空室的連接處，閥座上設有供卷繞基材通過用的傾斜通孔，傾斜通孔與真空室側壁上的進料孔連通。本真空鎖裝置結構簡單，使用靈活而方便，所占體積較小，可直接在各真空室上加裝即可，不影響真空室的現有結構，其制造成本也低。將其應用于多室卷繞鍍膜系統，可將各個處理區域設置成相互獨立的真空室，可方便換卷或對某一真空室進行維護，有效避免串氣或鍍膜區域會吸附水蒸氣及空氣中粉塵而造成污染的現象，防止交叉污染，從而提高產品質量。
【專利說明】
多室卷繞鍍膜系統用的真空鎖裝置
技術領域
[0001]本實用新型涉及卷材表面鍍膜技術領域，特別涉及一種多室卷繞鍍膜系統用的真空鎖裝置。
【背景技術】
[0002]柔性智能電致變色膜是一種的新型電致變色材料，它在電場作用下具有光吸收透過的可調節性，可選擇地吸收或反射外界的熱輻射和內部的熱擴散，減少夏季保持涼爽和冬季保持溫暖而必須消耗的大量能源，同時起到改善自然光照程度、防窺的目的。目前常用于智能窗、防炫目后視鏡、高檔轎車和飛機上的調光玻璃燈等變色用途，是一種市場需求量較大的產品。
[0003]目前，撓性線路板的加工設備都是采用一體式真空室的結構，即將水冷鼓、收卷輥和放卷輥設于同一真空室內，在同一腔體內完成整個鍍膜工藝。但在實踐中，每加工完一卷材料，進行換卷時，真空室內的所有機構都處于大氣狀態下，這樣鍍膜區域會吸附水蒸氣及空氣中粉塵，造成污染，從而難以得到高品質膜層。同時，每次進行鍍膜前都需重新抽真空，鍍膜周期加長，生產效率低。另外，每次進行鍍膜前都需重新充入反應或保護氣體，成本高。
【實用新型內容】
[0004]本實用新型的目的在于克服現有技術的不足，針對包含多個真空室的卷繞鍍膜系統，提供一種結構簡單、可有效保持各真空室的潔凈度和真空度的真空鎖裝置。
[0005]本實用新型的技術方案為:一種多室卷繞鍍膜系統用的真空鎖裝置，包括閥座、閥蓋和閥蓋驅動機構，閥蓋設于閥座上方，閥蓋頂部與閥蓋驅動機構連接;真空鎖裝置設于相鄰兩個真空室的連接處，閥座上設有供卷繞基材通過用的傾斜通孔，傾斜通孔與真空室側壁上的進料孔連通。
[0006]所述閥座上，傾斜通孔的進口端位于閥座的頂面上，傾斜通孔的出口端位于閥座的側壁上，出口端與真空室側壁上的進料孔相連接。
[0007]所述閥蓋的底面為平面，閥座的頂面也為平面，保證閥蓋關閉時，閥蓋與閥座之間貼緊處于密封狀態，閥座的側壁與真空室側壁固定連接。
[0008]所述真空鎖裝置處于關閉狀態時，閥蓋的底面與閥座的頂面緊密相接，且閥蓋底面覆蓋于傾斜通孔的進口端上。
[0009]所述閥座的截面形狀為三角形，傾斜通孔的進口端位于閥座的頂面中部，傾斜通孔的出口端位于閥座的側壁中部。
[0010]所述傾斜通孔的截面形狀為長條狀的矩形或跑道形，其形狀主要是配合卷繞基材的截面形狀即可。
[0011]所述閥蓋的截面形狀為倒置的T形，便于利用氣缸的動力，使閥蓋底面貼緊于閥座頂面上，從而實現密封的目的。
[0012]所述閥蓋驅動機構包括氣動件和密封座，閥蓋和閥座設于相鄰兩個真空室中的一個真空室內，氣動件通過密封座固定于該真空室的外壁上，氣動件的末端伸入真空室內，并與閥蓋的頂面固定連接；閥蓋驅動機構帶動閥蓋上升或下降，閥蓋上升時，真空鎖裝置處于開啟狀態，閥蓋下降時，真空鎖裝置處于關閉狀態。
[0013]所述氣動件為氣缸。
[0014]上述真空鎖裝置應用于多室卷繞鍍膜系統時，其工作原理是:在鍍膜系統正常進行鍍膜工藝時，真空鎖裝置處于開啟狀態；當需要進行換卷或對某個真空室進行維護時，關閉真空鎖裝置，開啟相應的真空室即可。關閉真空鎖裝置時，啟動氣動件，氣動件推動閥蓋下降，直至閥蓋底面貼緊于閥座頂面上，使閥蓋底面覆蓋于傾斜通孔的進口端，從而將相鄰的兩個真空室隔離，各自形成獨立的腔體，以保證不需要開啟的真空室內的潔凈度和真空度。
[0015]本實用新型相對于現有技術，具有以下有益效果:
[0016]本真空鎖裝置結構簡單，使用靈活而方便，所占體積較小，可直接在各真空室上加裝即可，不影響真空室的現有結構，其制造成本也低。
[0017]將本真空鎖裝置應用于多室卷繞鍍膜系統，可將各個處理區域設置成相互獨立的真空室，可方便換卷或對某一真空室進行維護，有效避免串氣或鍍膜區域會吸附水蒸氣及空氣中粉塵而造成污染的現象，防止交叉污染，從而提高產品質量。同時，無需在每次進行鍍膜前都重新抽真空，縮短鍍膜周期，提高生產效率，也減少反應氣體或保護氣體的使用，有效降低加工成本。
【附圖說明】
[0018]圖1為本真空鎖裝置的結構示意圖。
[0019]圖2為圖1中A方向上本真空鎖裝置的結構示意圖。
[0020]圖3為本真空鎖裝置在多室卷繞鍍膜系統中的安裝位置示意圖(圖中未示出閥蓋驅動機構)。
【具體實施方式】
[0021]下面結合實施例，對本實用新型作進一步的詳細說明，但本實用新型的實施方式不限于此。
[0022]實施例
[0023]本實施例一種多室卷繞鍍膜系統用的真空鎖裝置，如圖1或圖2所示，包括閥座1、閥蓋2和閥蓋驅動機構，閥蓋設于閥座上方，閥蓋頂部與閥蓋驅動機構連接;真空鎖裝置設于相鄰兩個真空室3的連接處，閥座上設有供卷繞基材通過用的傾斜通孔4，傾斜通孔與真空室側壁上的進料孔5連通。
[0024]閥座上，傾斜通孔的進口端位于閥座的頂面上，傾斜通孔的出口端位于閥座的側壁上，出口端與真空室側壁上的進料孔相連接。閥蓋的底面為平面，閥座的頂面也為平面，保證閥蓋關閉時，閥蓋與閥座之間貼緊處于密封狀態，閥座的側壁與真空室側壁固定連接。真空鎖裝置處于關閉狀態時，閥蓋的底面與閥座的頂面緊密相接，且閥蓋底面覆蓋于傾斜通孔的進口端上。
[0025]如圖1所示，閥座的截面形狀為三角形，傾斜通孔的進口端位于閥座的頂面中部，傾斜通孔的出口端位于閥座的側壁中部。閥蓋的截面形狀為倒置的T形，便于利用氣缸的動力，使閥蓋底面貼緊于閥座頂面上，從而實現密封的目的。
[0026]如圖2所示，傾斜通孔的截面形狀為長條狀的矩形或跑道形，其形狀主要是配合卷繞基材的截面形狀即可。
[0027]閥蓋驅動機構包括氣缸6和密封座7，閥蓋和閥座設于相鄰兩個真空室中的一個真空室內，氣缸通過密封座固定于該真空室的外壁上，氣缸的末端伸入真空室內，并與閥蓋的頂面固定連接；閥蓋驅動機構帶動閥蓋上升或下降，閥蓋上升時，真空鎖裝置處于開啟狀態，閥蓋下降時，真空鎖裝置處于關閉狀態。
[0028]上述真空鎖裝置應用于多室卷繞鍍膜系統時，其安裝位置如圖3中的標號8所示，其工作原理是:在鍍膜系統正常進行鍍膜工藝時，真空鎖裝置處于開啟狀態；當需要進行換卷或對某個真空室進行維護時，關閉真空鎖裝置，開啟相應的真空室即可。關閉真空鎖裝置時，啟動氣動件，氣動件推動閥蓋下降，直至閥蓋底面貼緊于閥座頂面上，使閥蓋底面覆蓋于傾斜通孔的進口端，從而將相鄰的兩個真空室隔離，各自形成獨立的腔體，以保證不需要開啟的真空室內的潔凈度和真空度。
[0029]如上所述，便可較好地實現本實用新型，上述實施例僅為本實用新型的較佳實施例，并非用來限定本實用新型的實施范圍；即凡依本【實用新型內容】所作的均等變化與修飾，都為本實用新型權利要求所要求保護的范圍所涵蓋。
【主權項】
1.多室卷繞鍍膜系統用的真空鎖裝置，其特征在于，包括閥座、閥蓋和閥蓋驅動機構，閥蓋設于閥座上方，閥蓋頂部與閥蓋驅動機構連接;真空鎖裝置設于相鄰兩個真空室的連接處，閥座上設有供卷繞基材通過用的傾斜通孔，傾斜通孔與真空室側壁上的進料孔連通。2.根據權利要求1所述多室卷繞鍍膜系統用的真空鎖裝置，其特征在于，所述閥座上，傾斜通孔的進口端位于閥座的頂面上，傾斜通孔的出口端位于閥座的側壁上，出口端與真空室側壁上的進料孔相連接。3.根據權利要求2所述多室卷繞鍍膜系統用的真空鎖裝置，其特征在于，所述閥蓋的底面為平面，閥座的頂面也為平面，閥座的側壁與真空室側壁固定連接。4.根據權利要求2所述多室卷繞鍍膜系統用的真空鎖裝置，其特征在于，所述真空鎖裝置處于關閉狀態時，閥蓋的底面與閥座的頂面緊密相接，且閥蓋底面覆蓋于傾斜通孔的進口端上。5.根據權利要求2所述多室卷繞鍍膜系統用的真空鎖裝置，其特征在于，所述閥座的截面形狀為三角形，傾斜通孔的進口端位于閥座的頂面中部，傾斜通孔的出口端位于閥座的側壁中部。6.根據權利要求1所述多室卷繞鍍膜系統用的真空鎖裝置，其特征在于，所述傾斜通孔的截面形狀為長條狀的矩形或跑道形。7.根據權利要求1所述多室卷繞鍍膜系統用的真空鎖裝置，其特征在于，所述閥蓋的截面形狀為倒置的T形。8.根據權利要求1所述多室卷繞鍍膜系統用的真空鎖裝置，其特征在于，所述閥蓋驅動機構包括氣動件和密封座，閥蓋和閥座設于相鄰兩個真空室中的一個真空室內，氣動件通過密封座固定于該真空室的外壁上，氣動件的末端伸入真空室內，并與閥蓋的頂面固定連接;閥蓋驅動機構帶動閥蓋上升或下降。9.根據權利要求8所述多室卷繞鍍膜系統用的真空鎖裝置，其特征在于，所述氣動件為氣缸。
【文檔編號】C23C14/56GK205420539SQ201520978941
【公開日】2016年8月3日
【申請日】2015年11月30日
【發明人】朱文廓, 朱剛勁, 朱剛毅
【申請人】廣東騰勝真空技術工程有限公司