一種便于基片翻轉的真空鍍膜機的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及了一種便于基片翻轉的真空鍍膜機，屬于真空鍍膜設備技術領域。
【背景技術】
[0002]在真空鍍膜的過程中，需要對產品進行翻面，實現對其上下表面均完成鍍膜，因此需要在鍍膜的過程中完成對用于固定產品的基片的翻轉。而現有的真空鍍膜機在完成了正面的鍍膜后有的是采用人工手動翻轉的方式，這種方式不僅效率低下，而且會影響到鍍膜質量;另一種是通過采用在基片上下兩端中間位置安裝支桿，上支桿放在工件盤上凹槽內，下支桿插在基片旋轉軸承內，工作盤在轉動的過程中兩根拔叉桿先后接觸到拔叉并推動拔叉，在軸承的作用下使基片旋轉至另一面，而這種翻轉方式在翻轉過程中由于速度較快，對基片上產品的震動較大，會造成產品偏移位置，導致鍍膜不良。
【實用新型內容】
[0003]本實用新型所要解決的技術問題是提供一種便于基片翻轉的真空鍍膜機，通過一個氣缸氣動一個拔叉的方式實現對基片的翻轉，同時采用設置有月牙形開口的拔叉，避免基片翻轉過程中的震動，減小產品的移位，提高鍍膜質量。
[0004]為了解決上述技術問題，本實用新型所采用的技術方案是:
[0005]—種便于基片翻轉的真空鍍膜機，包括箱體，所述箱體內設置有轉軸和與所述轉軸連接的工作盤，所述工作盤被等分成多個用于放置基片的收容槽，所述工作盤的邊緣對應設置有與所述收容槽數量相同的可相對其轉動的拔叉，且拔叉上設置有伸入對應收容槽內的承載軸承，且承載軸承位于所述收容槽外側邊緣的中心位置處，所述轉軸的邊緣設置有與所述收容槽數量相同的圓銷，且所述圓銷位于對應收容槽的內側邊緣中心位置處;所述基片的外側邊緣的中心位置設置有可插入所述承載軸承的第一凹槽，所述基片的外側邊緣的中心位置設置有可插入所述圓銷的第二凹槽，且所述箱體內設置有用于驅動拔叉轉動的氣缸。
[0006]前述的一種便于基片翻轉的真空鍍膜機，其特征在于:所述每個收容槽內設置有兩片相對疊加固定的基片，產品固定在兩片基片之間，且所述承載軸承為長方體結構，所述基片下表面的外側中心位置設置高度為承載軸承高度一半的方形凹槽，所述基片下表面的內側中心位置設置有與所述圓銷直徑一致的半圓形凹槽。
[0007]前述的一種便于基片翻轉的真空鍍膜機，其特征在于:每個所述拔叉通過固定工作盤邊緣的支板連接在所述工作盤上，且所述拔叉上設置有月牙形開口。
[0008]前述的一種便于基片翻轉的真空鍍膜機，其特征在于:所述基片上表面的外側設置兩端設置有對重塊。
[0009]前述的一種便于基片翻轉的真空鍍膜機，其特征在于:所述兩片相對疊加固定的基片通過多個螺栓鎖緊固定。
[0010]本實用新型的有益效果是:
[0011]1、通過一個氣缸氣動一個拔叉的方式實現對基片的翻轉，同時采用設置有月牙形開口的拔叉，避免基片翻轉過程中的震動，減小產品的移位，提高鍍膜質量。
[0012]2、通過在基片的外側表面兩端設置對重塊，在沒有外力作用時，在基片稍有轉動時，其中便會發生變化，在對重塊的作用下會迅速恢復水平，保證了鍍膜效果。
【附圖說明】
[0013]圖1是本實用新型一種便于基片翻轉的真空鍍膜機安裝了一組基片時的俯視圖；
[0014]圖2是本實用新型一種便于基片翻轉的真空鍍膜機的拔叉的結構示意圖；
[0015]圖3是本實用新型一種便于基片翻轉的基片的后視圖；
[0016]圖4是本實用新型一種便于基片翻轉的基片的前視圖。
【具體實施方式】
[0017]下面將結合說明書附圖，對本實用新型作進一步的說明。
[0018]如圖1-圖4所示，一種便于基片翻轉的真空鍍膜機，包括箱體I，所述箱體I內設置有轉軸2和與所述轉軸2連接的工作盤3，所述工作盤3被等分成多個用于放置基片4的收容槽31，所述工作盤3的邊緣對應設置有與所述收容槽31數量相同的可相對其轉動的拔叉7，且拔叉7上設置有伸入對應收容槽31內的承載軸承8，且承載軸承8位于所述收容槽31外側邊緣的中心位置處，所述轉軸2的邊緣設置有與所述收容槽31數量相同的圓銷21，且所述圓銷21位于對應收容槽31的內側邊緣中心位置處;所述基片4的外側邊緣的中心位置設置有可插入所述承載軸承8的第一凹槽，所述基片4的外側邊緣的中心位置設置有可插入所述圓銷21的第二凹槽，且所述箱體I內設置有用于驅動拔叉7轉動的氣缸9。
[0019]本實施例中，所述每個收容槽31內設置有兩片相對疊加固定的基片4，產品固定在兩片基片之間，兩片基片4之間通過多個螺栓5鎖緊固定，且基片表面設置有多個圓形孔44，便于鍍膜機對圓形孔44處的產品進行鍍膜。
[0020]且所述承載軸承8為長方體結構，所述基片4下表面的外側中心位置設置高度為承載軸承8高度一半的方形凹槽41，如圖3所示，兩片基片4相對疊加固定后，形成一個可插入承載軸承8的槽;所述基片4下表面的內側中心位置設置有與所述圓銷21直徑一致的半圓形凹槽42，如圖4所示，兩片基片4相對疊加固定后，形成一個可插入圓銷21的槽。
[0021]當需要將基片翻轉時，氣缸9推出，工作盤3帶動每一個拔叉7作圓周運動，在拔叉通過氣缸9時由于受到阻力作用使其發生轉動，從而帶動長方體結構的承載軸承8轉動，從而帶動兩片基片4作翻轉運動。
[0022]本實施例中，每個拔叉7通過固定工作盤3邊緣的支板6連接在所述工作盤3上，且所述拔叉7上設置有月牙形開口 71，如圖2所示，在月牙形開口 71接觸到氣缸9的推桿時，推桿沿月牙形開口 71的上弧線進入，當基片翻轉90°時，推桿沿沿月牙形開口 71的下弧線出來，整個過程隨工作盤3的轉動而完成緩慢的翻轉，不會在基片轉過90°時因重力影響而發生快速的翻轉，避免了基片翻轉過程中的震動，減小產品的移位，提高鍍膜質量。
[0023]所述基片4上表面的外側設置兩端設置有對重塊43，在沒有外力作用時，在基片稍有轉動時，其中便會發生變化，在對重塊的作用下會迅速恢復水平，保證了鍍膜效果。
[0024]綜上所述，本實用新型提供一種便于基片翻轉的真空鍍膜機，通過一個氣缸氣動一個拔叉的方式實現對基片的翻轉，同時采用設置有月牙形開口的拔叉，避免基片翻轉過程中的震動，減小產品的移位，提高鍍膜質量。
[0025]以上顯示和描述了本實用新型的基本原理、主要特征及優點。本行業的技術人員應該了解，本實用新型不受上述實施例的限制，上述實施例和說明書中描述的只是說明本實用新型的原理，在不脫離本實用新型精神和范圍的前提下，本實用新型還會有各種變化和改進，這些變化和改進都落入要求保護的本實用新型范圍內。本實用新型要求保護范圍由所附的權利要求書及其等效物界。
【主權項】
1.一種便于基片翻轉的真空鍍膜機，包括箱體(I)，所述箱體(I)內設置有轉軸(2)和與所述轉軸(2)連接的工作盤(3)，所述工作盤(3)被等分成多個用于放置基片(4)的收容槽(31)，其特征在于:所述工作盤(3)的邊緣對應設置有與所述收容槽(31)數量相同的可相對其轉動的拔叉(7)，且拔叉(7)上設置有伸入對應收容槽(31)內的承載軸承(8)，且承載軸承(8)位于所述收容槽(31)外側邊緣的中心位置處，所述轉軸(2)的邊緣設置有與所述收容槽(31)數量相同的圓銷(21)，且所述圓銷(21)位于對應收容槽(31)的內側邊緣中心位置處;所述基片(4)的外側邊緣的中心位置設置有可插入所述承載軸承(8)的第一凹槽，所述基片(4)的外側邊緣的中心位置設置有可插入所述圓銷(21)的第二凹槽，且所述箱體(I)內設置有用于驅動拔叉(7)轉動的氣缸(9)。2.根據權利要求1所述的一種便于基片翻轉的真空鍍膜機，其特征在于:所述每個收容槽(31)內設置有兩片相對疊加固定的基片(4)，產品固定在兩片基片之間，且所述承載軸承(8)為長方體結構，所述基片(4)下表面的外側中心位置設置高度為承載軸承(8)高度一半的方形凹槽(41)，所述基片(4)下表面的內側中心位置設置有與所述圓銷(21)直徑一致的半圓形凹槽(42)。3.根據權利要求1所述的一種便于基片翻轉的真空鍍膜機，其特征在于:每個所述拔叉(7)通過固定工作盤(3)邊緣的支板(6)連接在所述工作盤(3)上，且所述拔叉(7)上設置有月牙形開口(71)。4.根據權利要求1所述的一種便于基片翻轉的真空鍍膜機，其特征在于:所述基片(4)上表面的外側設置兩端設置有對重塊(43)。5.根據權利要求2所述的一種便于基片翻轉的真空鍍膜機，其特征在于:所述兩片相對疊加固定的基片(4)通過多個螺栓(5)鎖緊固定。
【專利摘要】本實用新型公開了一種便于基片翻轉的真空鍍膜機，包括箱體，所述箱體內設置有轉軸和與所述轉軸連接的工作盤，所述工作盤被等分成多個用于放置基片的收容槽，所述工作盤的邊緣對應設置有與所述收容槽數量相同的可相對其轉動的拔叉，且拔叉上設置有伸入對應收容槽內的承載軸承，且承載軸承位于所述收容槽外側邊緣的中心位置處，所述轉軸的邊緣設置有與所述收容槽數量相同的圓銷，且所述圓銷位于對應收容槽的內側邊緣中心位置處；所述基片的外側邊緣的中心位置設置有可插入所述承載軸承的第一凹槽，所述基片的外側邊緣的中心位置設置有可插入所述圓銷的第二凹槽，且所述箱體內設置有用于驅動拔叉轉動的氣缸。通過一個氣缸氣動一個拔叉的方式實現對基片的翻轉，同時采用設置有月牙形開口的拔叉，避免基片翻轉過程中的震動，減小產品的移位，提高鍍膜質量。
【IPC分類】C23C16/458, C23C14/50
【公開號】CN205258596
【申請號】CN201521108830
【發明人】黃強, 劉同坤, 薛軍輝
【申請人】蘇州金研光電科技有限公司
【公開日】2016年5月25日
【申請日】2015年12月29日