一種沉鍺投料裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種沉鍺投料裝置。
【背景技術】
[0002]冶金工業在我國發展迅速，且在經濟發展中占有重要的比例，鋅礦的發展在其中也有著不可或缺的作用。鋅主要從硫酸鋅礦中提煉出來，硫酸鋅精礦中的鍺以GeSjP GeS形態存在，在氧化焙燒過程中，由于處于強氧化氣氛中，所以鍺以Ge02的形式大部分進入焙砂，少量進入煙塵。在中性浸出時，又大部分隨鐵酸鋅等難溶礦物進入中浸渣。在中浸渣低酸浸出時，鍺被浸出進入溶液，讓那個也凈化除鐵時，控制大部分鐵沉淀而鍺不沉淀，鍺留在溶液總，隨后添加輔料進行中和沉鍺，回收鍺。
[0003]目前在沉鍺中，直接加入輔料反應沉淀，但是在投料的過程中，容易造成輔料與母液接觸不充分，降低鍺的沉淀，同時也浪費輔料，增加了成本。
【實用新型內容】
[0004]本實用新型提出了一種沉鍺投料裝置，該裝置結構簡單，能夠充分增大輔料與母料的接觸面積，加快鍺的沉淀。
[0005]為了實現上述目的，本實用新型是通過以下技術方案來實現的:
[0006]—種沉鍺投料裝置，主要包括沉鍺反應釜和投料裝置，所述投料裝置為圓管，投料裝置分為投料口和接觸部，所述投料口設置于沉鍺反應釜外頂部，所述接觸部豎直設置于沉鍺反應釜內，所述接觸部上設有至少一列沿著接觸部豎直方向均勻延伸的投料圓孔，所述投料圓孔的直徑為10-20mm。
[0007]進一步的，所述投料圓孔的直徑為10mm ；
[0008]進一步的，所述沉鍺反應釜頂部設有進料口 ；
[0009]進一步的，所述沉鍺反應釜底部設有出料口 ；
[0010]進一步的，所述沉鍺反應釜內部設有攪拌裝置；可攪拌母液，使其與輔料混合充分，增大接觸面積，促進反應；
[0011]本實用新型一種沉鍺投料裝置，其有益效果在于:在沉鍺過程中加入液體輔料，輔料進入投料裝置的接觸部，接觸部上的投料圓孔開孔方向與溶液轉動方向呈90°角，依靠溶液的轉動流動，與輔料混合反應。該裝置能夠增加溶液與輔料軸向的接觸反應面積，加快反應時間，節約輔料，投入最少的輔料達到最好的沉鍺效果，節約了成本。
【附圖說明】
[0012]為了更清楚地說明本實用新型實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動性的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
[0013]圖1是本實用新型一種沉鍺投料裝置的結構示意圖；
[0014]圖2是圖1中投料裝置的側視圖；
[0015]1-沉鍺反應釜，2-投料口，3-接觸部，4-投料圓孔，5-進料口，6-出料口，7-攪拌
目.ο
【具體實施方式】
[0016]下面結合具體實施例及附圖來進一步詳細說明本實用新型。
[0017]—種沉鍺投料裝置如圖1和圖2所示，主要包括沉鍺反應釜1和投料裝置，投料裝置為圓管，分為投料口 2和接觸部3，投料口 2置于沉鍺反應釜1外頂部，接觸部3豎直置于沉鍺反應釜1內，接觸部3上設有至少一列沿著接觸部3豎直方向均勻延伸的投料圓孔4，投料圓孔4的直徑為10 ;沉鍺反應釜1頂部設有進料口 5 ;沉鍺反應釜1底部設有出料口6 ;沉鍺反應釜1內部設有攪拌裝置7，可攪拌母液，使其與輔料混合充分，增大接觸面積，促進反應。在沉鍺過程中加入液體輔料，輔料進入投料裝置的接觸部3，接觸部3上的投料圓孔4開孔方向與溶液轉動方向呈90°角，依靠溶液的轉動流動，與輔料混合反應。
[0018]以上對本實用新型實施例所提供的技術方案進行了詳細介紹，本文中應用了具體個例對本實用新型實施例的原理以及實施方式進行了闡述，以上實施例的說明只適用于幫助理解本實用新型實施例的原理；同時，對于本領域的一般技術人員，依據本實用新型實施例，在【具體實施方式】以及應用范圍上均會有改變之處，綜上所述，本說明書內容不應理解為對本實用新型的限制。
【主權項】
1.一種沉鍺投料裝置，其特征在于:包括沉鍺反應釜(1)和投料裝置，所述投料裝置為圓管，投料裝置分為投料口(2)和接觸部(3)，所述投料口(2)設置于沉鍺反應釜(1)外頂部，所述接觸部(3)豎直設置于沉鍺反應釜(1)內，所述接觸部(3)上設有至少一列沿著接觸部⑶豎直方向均勻延伸的投料圓孔(4)，所述投料圓孔(4)的直徑為10-20_。2.根據權利要求1所述的沉鍺投料裝置，其特征在于:所述投料圓孔(4)的直徑為10mmo3.根據權利要求1所述的沉鍺投料裝置，其特征在于:所述沉鍺反應釜(1)頂部設有進料口(5);沉鍺反應釜⑴底部設有出料口(6)。4.根據權利要求1所述的沉鍺投料裝置，其特征在于:所述沉鍺反應釜(1)內部設有攪拌裝置(7)。
【專利摘要】本實用新型一種沉鍺投料裝置，包括沉鍺反應釜和投料裝置，投料裝置為圓管，分為投料口和接觸部，投料口置于沉鍺反應釜外頂部，接觸部豎直置于沉鍺反應釜內，接觸部上設有至少一列沿著接觸部豎直方向均勻延生的投料圓孔，投料圓孔的直徑為10-20mm。在沉鍺過程中加入液體輔料，輔料進入投料裝置的接觸部，接觸部上的投料圓孔開孔方向與溶液轉動方向呈90°角，依靠溶液的轉動流動，與輔料混合反應。該裝置能夠增加溶液與輔料軸向的接觸反應面積，加快反應時間，節約輔料，投入最少的輔料達到最好的沉鍺效果，節約了成本。
【IPC分類】C22B41/00, C22B3/46
【公開號】CN205115567
【申請號】CN201520856598
【發明人】周建泉, 包世興, 羅應平, 魯宗乾, 張武昌, 羅吉海, 王美春, 張麗華, 畢春麗
【申請人】南華茂森再生科技有限公司
【公開日】2016年3月30日
【申請日】2015年10月30日