一種研磨拋光托盤的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及研磨拋光設備，尤其是涉及一種研磨拋光托盤。
【背景技術】
[0002]游星式研磨/拋光機在研磨/拋光過程中會出現托盤積砂的問題，長期使用砂石很有可能會流進托盤軸與太陽輪軸中間，造成托盤軸與太陽輪軸中的兩個軸承損壞，進而造成整機損壞。
[0003]現有的托盤為防止積砂損壞機器而設有坡度在30°以上的斜面，以便于排砂，但仍存在以下缺陷:(1)坡度在30°以上的斜面，托盤本身質量、厚度以及體積都有偏大趨勢；托盤的厚度體積影響了研磨/拋光機高度，研磨/拋光機高度增加，不便于操作；研磨/拋光機的剛性和穩定性相對降低；(2)加工成本高，坡度在30°以上的斜面，相應的軸等機加工件需要加長，加工成本提高。
【發明內容】
[0004]本實用新型所要解決的技術問題，克服現有技術存在的上述缺陷，提供一種一種質量厚度體積更小、便于操作、穩定性高且加工成本低的研磨拋光托盤。
[0005]本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是，一種研磨拋光托盤，包括底座，底座為圓盤結構，上表面為自中心處的徑向斜坡面；底座的中心處設有連接孔；底座的外圓周上設有突起支承面，支承面的支撐點高于圓盤平面。
[0006]進一步，支承面與連接孔之間徑向設有加強筋。
[0007]進一步，突起支承面的為圓柱體的上表面，圓柱體的底端面為斜面；所述圓柱體的中心處開有圓形通孔。
[0008]進一步，連接孔為圓形階梯孔。
[0009]進一步，支承面的數量優選5個，支承面的排列方式為沿底座外周環形陣列，加強筋的數量優選10根。
[0010]與現有技術相比，本實用新型結構簡單，制造成本低，減小了托盤的質量、厚度以及體積；設有五個支承面突出結構，即有較強的穩定性又可較大的提高斜坡面的角度，減少軸的長度，節約成本；同時五個支承面的支撐點高于圓盤平面，降低了加工成本和難度；采用筋結構，增加了強度，使托盤做離心運動減少積砂。
【附圖說明】
[0011]圖1為本實用新型一實施例的仰視圖；
[0012]圖2為圖1所示托盤的俯視圖；
[0013]圖3為圖1所示托盤的主視圖；
[0014]圖4為圖1所示托盤的軸側視圖。
【具體實施方式】
[0015]實施例
[0016]以下結合附圖及實施例對本實用新型做進一步說明。
[0017]參照附圖1、附圖2、附圖3、附圖4，本實施例包括底座1，底座1為圓盤結構，上表面為自中心處的徑向斜坡面；底座1的中心處設有連接孔3 ;底座1的外圓周上設有5個突起的支承面2，支承面2的支撐點高于圓盤平面。
[0018]支承面2與連接孔3之間徑向設有10根加強筋4。
[0019]突起的支承面2為圓柱體的上表面，圓柱體的底端面為斜面；圓柱體的中心處開有圓形通孔。
[0020]連接孔3為圓形階梯孔。
[0021]支承面的排列方式為沿底座外周環形陣列。
[0022]本實用新型設有五個突起的支承面2，即有較強的穩定性又可較大的提高斜坡面的角度，減少軸的長度，節約成本，同時突起的支承面2的支撐點高于圓盤平面，降低了加工成本和難度，同時采用筋結構，增加了強度，使托盤做離心運動減少積砂。
【主權項】
1.一種研磨拋光托盤，其特征在于，包括底座，所述底座為圓盤結構，上表面為自中心處的徑向斜坡面；所述底座的中心處設有連接孔；所述底座的外圓周上設有突起支承面，所述支承面的支撐點高于圓盤平面。2.根據權利要求1所述的研磨拋光托盤，其特征在于，所述支承面與連接孔之間徑向設有加強筋。3.根據權利要求1或2所述的研磨拋光托盤，其特征在于，所述突起支承面的為圓柱體的上表面，圓柱體的底端面為斜面；所述圓柱體的中心處開有圓形通孔。4.根據權利要求3所述的研磨拋光托盤，其特征在于，所述連接孔為圓形階梯孔。5.根據權利要求1或2所述的研磨拋光托盤，其特征在于，所述支承面的數量為5個。6.根據權利要求5所述的研磨拋光托盤，其特征在于，所述支承面的排列方式為沿底座外周環形陣列。7.根據權利要求2所述的研磨拋光托盤，其特征在于，所述加強筋的數量為10根。
【專利摘要】一種研磨拋光托盤，包括底座，所述底座為圓盤結構，上表面為自中心處的徑向斜坡面；所述底座的中心處設有連接孔；所述底座的外圓周上設有突起支承面，所述支承面的支撐點高于圓盤平面。本實用新型結構簡單，制造成本低，減小了托盤的質量、厚度以及體積；有較強的穩定性又可較大的提高斜坡面的角度，減少軸的長度，節約成本；采用筋結構，增加了強度，形成類扇葉狀，使托盤做離心運動減少積砂。
【IPC分類】B24B55/00
【公開號】CN205057800
【申請號】CN201520746577
【發明人】楊佳葳, 龔濤, 謝俊
【申請人】湖南宇晶機器股份有限公司
【公開日】2016年3月2日
【申請日】2015年9月24日