一種水平往復式濺鍍設備的制造方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種濺鍍設備，特別涉及一種水平往復式濺鍍設備。
【背景技術】
[0002]真空鍍膜技術初現于20世紀30年代，四五十年代開始出現工業應用，工業化大規模生產開始于20世紀80年代，在電子、宇航、包裝、裝潢、燙金印刷等工業中取得廣泛的應用。真空鍍膜是指在真空環境下，將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面(通常是非金屬材料)，屬于物理氣相沉積工藝。在真空鍍膜技術中，真空濺鍍技術是常用的一種，其原理是在高真空環境中將氬、氖等惰性氣體散布于具高電位差的二金屬板之間，惰性氣體與電子撞擊形成等離子，等離子內的氬、氖等惰性離子受電場加速而撞擊到靶材的表面，靶材上的原子被撞擊后飛到基材的表面，基材表面經靶材原子沉積后即可形成薄膜。
[0003]目前，常用的真空濺鍍設備都為連續式非往復式濺鍍設備，如公開號為CN130147048的中國專利，該專利中就公開了一種連續式濺鍍設備，該設備為目前最為常用的真空濺鍍設備。但是，該典型的真空濺鍍設備有兩個缺點，第一，當需要濺鍍的材料要鍍多層膜時，真空濺鍍設備的濺鍍腔體就會增多，隨之會產生真空濺鍍設備過長的問題，有些真空濺鍍設備甚至會達到40-50米，制造成本過高，占用空間很大。第二個缺點在于，目前很多真空濺鍍設備的靶材會采用方形靶材，這種靶材的缺點是其表面積相對于圓形靶材來說會小一些，不僅釋放原子不均勻，且釋放原子的量也未有圓形靶材的多。
【發明內容】
[0004]本實用新型的目的，就是為了解決上述問題而提供了一種水平往復式濺鍍設備，這種濺鍍設備的靶材采用圓筒形，且一圓筒上有多個靶材，只需少量濺鍍腔體就可以連續完成多層不同膜的濺鍍工作，節約成本。
[0005]本實用新型的目的是這樣實現的:
[0006]—種水平往復式濺鍍設備，包括依次相連的進料腔體、預處理腔體、第一緩沖腔體、濺鍍室、第二緩沖腔體和出料腔體，所述濺鍍室由若干個濺鍍腔體組成；所述濺鍍腔體包括兩個平行設置于所述濺鍍腔體第一內側壁上的靶材組件、一設置在所述兩個靶材組件下方的遮蔽件和一與所述兩個靶材組件相對設置且靠近所述濺鍍腔體第二內側壁的均氣擋板，與所述第一內側壁相對的外側壁上設置有真空計，與所述第二內側壁相對的外側壁上設置有渦輪分子栗；所述靶材組件包括中間圓柱電極和與其相匹配的外圍圓筒靶材，所述圓筒靶材由至少兩種尺寸相同但材料不同的靶材組成。
[0007]上述的一種水平往復式濺鍍設備，其中，所述濺鍍室由兩個濺鍍腔體組成。
[0008]上述的一種水平往復式濺鍍設備，其中，所述圓筒靶材包括兩種材料不同的靶材，每種靶材均呈半圓筒狀。
[0009]上述的一種水平往復式濺鍍設備，其中，所述進料腔體、預處理腔體、第一緩沖腔體、第二緩沖腔體和出料腔體的外側壁上均設置有與所述五個腔體連通的真空計和渦輪分子栗。
[0010]本實用新型的有益效果如下:
[0011]與現有技術相比，本實用新型的最大特點是該濺鍍設備為往復式真空濺鍍設備。其濺鍍的靶材使用圓筒形靶材，且一個圓筒上可以有多種不同材料的靶材，這樣在濺鍍的過程中，如需鍍多層膜，只需轉動圓筒形靶材的位置就可以實現。這樣就不需要像現有技術那樣，采用多個濺鍍腔體的方法，完成多層膜的連續濺鍍，而是采用較少的濺鍍腔體和靶材對應旋轉，往復移動完成多重鍍膜的工作。減少了濺鍍腔體需求，整個濺鍍設備的造價會大大的降低，且濺鍍設備所占用的空間比現有的濺鍍設備小了很多，有利于生產。
【附圖說明】
[0012]圖1是本實用新型的濺鍍設備的結構示意圖；
[0013]圖2是濺鍍設備的靶材組件的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0014]下面將結合附圖，對本實用新型作進一步說明。
[0015]請參閱圖1，圖1示出了本實用新型的濺鍍設備，該濺鍍設備的主要作用是對基材I進行鍍膜處理。連續濺鍍設備依次包括進料腔體2、預處理腔體3、第一緩沖腔體4、兩個濺鍍腔體5、第二緩沖腔體6和出料腔體7，每一個腔體的外側面上均設置有與腔體連通的一個真空計8和一個渦輪分子栗9。
[0016]每個腔體都設置有基材通道，且每個腔體都有閘門可使其單獨密封，真空計8的作用是把控每個腔體內的真空程度，渦輪分子栗9用來控制每個腔體的真空程度。
[0017]待鍍膜的基材I首先進入進料腔體2，進料腔體2的主要作用是避免基材I直接進入高真空腔體區域，進料腔體2只需保持在低真空狀態即可。
[0018]隨后，基材I從進料腔體2進入到預處理腔體3中，預處理腔體主要的作用是對基材進行加熱、清潔等，預處理腔體3需要保持在高真空狀態。
[0019]經過預處理的基材I此時可以進入第一緩沖腔體4，由于本實用新型是水平往復式濺鍍設備，所以第一緩沖腔體4主要的作用是暫時存儲基材，等待基材的再次鍍不同材料的膜，第一緩沖腔體4的也是高真空腔體。
[0020]請參閱圖2，值得注意的是，本實用新型的靶材組件51呈圓筒型結構，且包括圓柱電極511、靶材六512和靶材B513，靶材A512和靶材B513尺寸相同且均呈半圓筒狀，且該靶材組件可以旋轉。
[0021]然后，基材I先后進入兩個濺鍍腔體5，兩個濺鍍腔體的結構和作用是相同的，之所以設置兩個濺鍍腔體5，是為了使濺鍍更加均勻和充分。濺鍍腔體5包括兩個靶材組件51，靶材組件51設置在濺鍍腔體的第一內側壁52上，這時，靶材組件51的靶材A512正對基材I。兩個個靶材組件51的下方設置有遮蔽件53，遮蔽件53與第一內側壁52平行，與第一內側壁相對的外側壁上設置有一個真空計8。濺鍍腔體5還包括與兩個靶材組件51相對設置且靠近濺鍍腔體的第二內側壁54的均氣擋板55，與第二內側壁54相對的外側壁上設置有一個渦輪分子栗9。均氣擋板55需要與渦輪分子栗9的連接口懸空設置，但需要覆蓋該連接口。兩個濺鍍腔體5都處于高真空狀態。
[0022]當基材1進入第二個濺鍍腔體5完成濺鍍后，基材1原路返回到第一緩沖腔體4中，這時，調整旋轉靶材組件51，將靶材B513正對基材1。隨后，在第一緩沖腔體4中的基材1再一次進入濺鍍腔體5之中，完成第二次濺鍍。濺鍍結束之后，基材1進入第二緩沖腔體6，隨后由第二緩沖腔體6進入到出料腔體7的出口處取出，這樣便完成了整個濺鍍過程。
[0023]以上的實施例是將基材鍍兩層不同的材料時的方法，如果要鍍更多的不同材料，只需增加靶材組件51之中靶材的數量和適當增加濺鍍腔體，但需要注意，靶材的尺寸大小是相同的，且所有靶材拼裝起來能夠組成一個與圓柱電極511相匹配的圓筒靶材。
[0024]本實用新型通過以上的設計，能夠使用較少的腔體與靶材對應旋轉，往復移動完成多層膜的真空濺鍍，大大的節約了成本，提高了加工場所的空間利用率。
[0025]以上實施例僅供說明本實用新型之用，而非對本實用新型的限制，有關技術領域的技術人員，在不脫離本實用新型的精神和范圍的情況下，還可以作出各種變換或變型，因此所有等同的技術方案也應該屬于本實用新型的范疇，應由各權利要求所限定。
【主權項】
1.一種水平往復式濺鍍設備，其特征在于，包括依次相連的進料腔體、預處理腔體、第一緩沖腔體、濺鍍室、第二緩沖腔體和出料腔體，所述濺鍍室由若干個濺鍍腔體組成；所述濺鍍腔體包括兩個平行設置于所述濺鍍腔體第一內側壁上的靶材組件、一設置在所述兩個靶材組件下方的遮蔽件和一與所述兩個靶材組件相對設置且靠近所述濺鍍腔體第二內側壁的均氣擋板，與所述第一內側壁相對的外側壁上設置有真空計，與所述第二內側壁相對的外側壁上設置有渦輪分子栗；所述靶材組件包括中間圓柱電極和與其相匹配的外圍圓筒靶材，所述圓筒靶材由至少兩種尺寸相同但材料不同的靶材組成。2.如權利要求1所述的一種水平往復式濺鍍設備，其特征在于，所述濺鍍室由兩個濺鍍腔體組成。3.如權利要求1所述的一種水平往復式濺鍍設備，其特征在于，所述圓筒靶材包括兩種材料不同的靶材，每種靶材均呈半圓筒狀。4.如權利要求1所述的一種水平往復式濺鍍設備，其特征在于，所述進料腔體、預處理腔體、第一緩沖腔體、第二緩沖腔體和出料腔體的外側壁上均設置有與所述五個腔體連通的真空計和渦輪分子栗。
【專利摘要】本實用新型公開了一種水平往復式濺鍍設備，包括依次相連的進料腔體、預處理腔體、第一緩沖腔體、濺鍍室、第二緩沖腔體和出料腔體，濺鍍室由若干個濺鍍腔體組成；濺鍍腔體包括兩個平行設置于濺鍍腔體第一內側壁上的靶材組件、一設置在兩個靶材組件下方的遮蔽件和一與兩個靶材組件相對設置且靠近濺鍍腔體第二內側壁的均氣擋板，與第一內側壁相對的外側壁上設置有真空計，與第二內側壁相對的外側壁上設置有渦輪分子泵；靶材組件包括中間圓柱電極和與其相匹配的外圍圓筒靶材，圓筒靶材至少包括兩種尺寸相同但材料不同的靶材。與現有技術相比，本實用新型能夠使用較少的腔體與靶材對應旋轉，往復移動完成多層膜的真空濺鍍，大大的節約了成本，提高了加工場所的空間利用率。
【IPC分類】C23C14/34, C23C14/56
【公開號】CN205024315
【申請號】CN201520811451
【發明人】吳允中, 高為彪
【申請人】上海光和光學制造大豐有限公司, 上海光和光學制造股份有限公司
【公開日】2016年2月10日
【申請日】2015年10月19日