一種電加熱反應源儲存及供應裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種供溫裝置，尤其是一種電加熱反應源儲存及供應裝置，屬于半導體薄膜沉積應用及制備技術領域。
【背景技術】
[0002]為了滿足為滿足氣相沉積膜設備在沉積時的反應要求，在沉積過程中要向反應腔室內部通入各種反應源，其反應源形態包含氣態、液態及固態等。因此需要一種裝置來儲存及在沉積過程中向反應腔室內供應反應源，且需要此裝置對反應源加熱。尤其對于液態和固態的反應源，可使用此裝置對反應源進行加熱(氣化或升華)。
【實用新型內容】
[0003]針對上述現有技術的不足，本實用新型提供了一種電加熱反應源儲存及供應裝置。
[0004]為實現上述目的，本實用新型采用的技術方案是:一種電加熱反應源儲存及供應裝置，包括外殼，加熱管，反應源存儲器，高溫閥和接口。加熱管處于外殼的內壁上。反應源存儲器放入到外殼內。高溫閥設置在反應源存儲器的上端。接口設置在高溫閥上并與反應腔室連接。
[0005]本實用新型的有益效果及特點:通過采用此電加熱反應源儲存及供應裝置，在整個沉積應用過程中，可以很好的實現反應源的儲存及供應。
【附圖說明】
[0006]圖1是本實用新型的結構示意圖。
[0007]圖2是本實用新型的使用狀態圖。
【具體實施方式】
[0008]下面將結合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術方案進行清晰、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本實用新型中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。
[0009]如圖1和圖2所示:一種電加熱反應源儲存及供應裝置，包括外殼1，加熱管2，反應源存儲器3，高溫閥4和接口 5。加熱管2處于外殼I的內壁上。反應源存儲器3放入到外殼I內。高溫閥4設置在反應源存儲器3的上端。接口 5設置在高溫閥4上并與反應腔室連接。
[0010]使用時，在反應源儲存器內儲存反應源，通過接口與反應腔室相連接。將高溫閥打開后，可向反應腔室提供反應源，同時通過電加熱管，可以對裝置進行加熱。
【主權項】
1.一種電加熱反應源儲存及供應裝置，其特征在于:包括外殼，加熱管，反應源存儲器，高溫閥和接口 ；加熱管處于外殼的內壁上，反應源存儲器放入到外殼內，高溫閥設置在反應源存儲器的上端，接口設置在高溫閥上并與反應腔室連接。
【專利摘要】一種電加熱反應源儲存及供應裝置，包括外殼，加熱管，反應源存儲器，高溫閥和接口。加熱管處于外殼的內壁上。反應源存儲器放入到外殼內。高溫閥設置在反應源存儲器的上端。接口設置在高溫閥上并與反應腔室連接。通過采用此電加熱反應源儲存及供應裝置，在整個沉積應用過程中，可以很好的實現反應源的儲存及供應。
【IPC分類】C23C16/448
【公開號】CN204918759
【申請號】CN201520546543
【發明人】王燚, 劉億軍
【申請人】沈陽拓荊科技有限公司
【公開日】2015年12月30日
【申請日】2015年7月23日