Mocvd設備中的石墨盤的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及MOCVD設備中的部件，具體是涉及一種MOCVD設備中的石墨盤。
【背景技術】
[0002]MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor Deposit1n)設備，即金屬有機物化學氣相沉積設備，是一種集計算流體力學、熱力傳導、系統集成控制、化合物生長等各學科于一體的高科技、新技術高度集中的設備，是半導體產業中的關鍵性設備。石墨盤是MOCVD設備中十分重要的部件，石墨盤上排布有若干圓形凹槽，用于在MOCVD外延生長中裝載襯底片。石墨盤置于MOCVD反應室中的旋轉平臺上，通過柱狀旋轉軸與旋轉平臺固定連接。但是，現有技術中的圓形凹槽通常是開口徑向尺寸小于底部徑向尺寸，即開口處為尖銳角，在旋轉過程中，凹槽中的襯底與凹槽尖銳的邊緣口會發生碰撞，導致凹槽邊緣開裂現象。此外，通過柱狀旋轉軸實現石墨盤與旋轉平臺的連接結構精度較差，尤其是石墨盤在經過多次取放后，接觸部位很容易被磨損和碰傷。
【發明內容】
[0003]為了解決上述技術問題，本實用新型提出一種MOCVD設備中的石墨盤，能夠有效防止石墨盤在高速旋轉時，襯底與凹槽邊緣碰撞，解決凹槽邊緣開裂現象，且能夠使石墨盤與旋轉平臺連接的更精密，誤差更小。
[0004]本實用新型的技術方案是這樣實現的:
[0005]—種MOCVD設備中的石墨盤，包括盤體，所述盤體的上表面形成有若干用于裝載襯底的圓形凹槽，所述凹槽的側壁靠近底部的部分為錐面，且所述凹槽自開口向底部徑向尺寸逐漸變大，所述錐面與所述盤體的上表面之間通過外凸的弧面過渡連接。
[0006]作為本實用新型的進一步改進，所述盤體的下表面中心位置形成一用于連接石墨盤旋轉平臺的旋轉軸的槽孔，所述槽孔包括靠近開口處的圓柱孔和靠近底部的錐形凸臺孔。
[0007]作為本實用新型的進一步改進，所述盤體的上表面靠近邊緣處形成有用于標記若干所述凹槽的起始位的標記。
[0008]本實用新型的有益效果是:本實用新型提供一種MOCVD設備中的石墨盤，通過將圓形凹槽的開口處設計成外凸的弧面，即將開口處的尖銳角改為R角，在旋轉過程中，可有效避免襯底與凹槽的邊緣口發生碰撞，解決凹槽邊緣出現開裂現象的問題。通過將連接石墨盤旋轉平臺的旋轉軸的槽孔設計成錐形凸臺孔與圓柱孔的組合，即將垂直連接的圓柱孔修改為帶斜度的錐形凸臺孔，能夠使石墨盤與旋轉軸的連接更加精密，減少高速旋轉帶來了誤差。通過在盤體上表面的邊緣處設計標記，可以定義若干凹槽的起始位置，便于識別。
【附圖說明】
[0009]圖1為本實用新型一視角結構示意圖；
[0010]圖2為圖1中A-A向剖面圖；
[0011]圖3為圖2中B處局部放大示意圖；
[0012]圖4為圖2中C處放大示意圖。
[0013]結合附圖，作以下說明:
[0014]I——盤體11——盤體的上表面
[0015]12——盤體的下表面2——凹槽
[0016]21——錐面22——弧面
[0017]3——槽孔31——圓柱孔
[0018]32 維形凸臺孔4 標記
【具體實施方式】
[0019]為使本實用新型能夠更加明顯易懂，下面結合附圖對本發明的【具體實施方式】做詳細的說明。
[0020]如圖1、圖2、圖3和圖4所示，一種MOCVD設備中的石墨盤，包括盤體I，所述盤體的上表面11形成有若干用于裝載襯底的圓形凹槽2，所述凹槽的側壁靠近底部的部分為錐面21，且所述凹槽自開口向底部徑向尺寸逐漸變大，所述錐面與所述盤體的上表面之間通過外凸的弧面22過渡連接。這樣，通過將圓形凹槽的開口處設計成外凸的弧面，即將開口處的尖銳角改為R角，在旋轉過程中，可有效避免襯底與凹槽的邊緣口發生碰撞，解決凹槽邊緣出現開裂現象的問題。
[0021]優選的，所述盤體的下表面12中心位置形成一用于連接石墨盤旋轉平臺的旋轉軸的槽孔3，所述槽孔包括靠近開口處的圓柱孔31和靠近底部的錐形凸臺孔32。通過將連接石墨盤旋轉平臺的旋轉軸的槽孔設計成錐形凸臺孔與圓柱孔的組合，即將垂直連接的圓柱孔修改為帶斜度的錐形凸臺孔，能夠使石墨盤與旋轉軸的連接更加精密，減少高速旋轉帶來了誤差。
[0022]優選的，所述盤體的上表面靠近邊緣處形成有用于標記若干所述凹槽的起始位的標記4。通過在盤體上表面的邊緣處設計標記，可以定義若干凹槽的起始位置，便于識別。
[0023]以上實施例是參照附圖，對本實用新型的優選實施例進行詳細說明。本領域的技術人員通過對上述實施例進行各種形式上的修改或變更，但不背離本實用新型的實質的情況下，都落在本實用新型的保護之內。
【主權項】
1.一種MOCVD設備中的石墨盤，其特征在于:包括盤體(I)，所述盤體的上表面(11)形成有若干用于裝載襯底的圓形凹槽(2)，所述凹槽的側壁靠近底部的部分為錐面(21)，且所述凹槽自開口向底部徑向尺寸逐漸變大，所述錐面與所述盤體的上表面之間通過外凸的弧面(22)過渡連接。2.根據權利要求1所述的MOCVD設備中的石墨盤，其特征在于:所述盤體的下表面(12)中心位置形成一用于連接石墨盤旋轉平臺的旋轉軸的槽孔(3)，所述槽孔包括靠近開口處的圓柱孔(31)和靠近底部的錐形凸臺孔(32)。3.根據權利要求1所述的MOCVD設備中的石墨盤，其特征在于:所述盤體的上表面靠近邊緣處形成有用于標記若干所述凹槽的起始位的標記(4)。
【專利摘要】本實用新型公開了一種MOCVD設備中的石墨盤，包括盤體，所述盤體的上表面形成有若干用于裝載襯底的圓形凹槽，所述凹槽的側壁靠近底部的部分為錐面，且所述凹槽自開口向底部徑向尺寸逐漸變大，所述錐面與所述盤體的上表面之間通過外凸的弧面過渡連接。本實用新型能夠有效防止石墨盤在高速旋轉時，襯底與凹槽邊緣碰撞，解決凹槽邊緣開裂現象，且能夠使石墨盤與旋轉平臺連接的更精密，誤差更小。
【IPC分類】C23C16/458, C30B25/12
【公開號】CN204874729
【申請號】CN201520550332
【發明人】芮敏之
【申請人】美爾森先進石墨（昆山）有限公司
【公開日】2015年12月16日
【申請日】2015年7月27日