一種電弧蒸發源的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種用于機械零件的耐磨耗性的提高的、氮化物和氧化物的陶瓷膜、非晶質碳膜的薄膜的成膜裝置的電弧蒸發源。
【背景技術】
[0002]歷來，出于提高機械零件、切削工具、滑動零件等的耐磨耗性、滑動特性和保護機能的目的，廣泛使用在該零件和工具的基材的表面涂覆薄膜的物理蒸鍍法。作為該物理蒸鍍法，從所周知的有電弧離子鍍法和濺射法。電弧離子鍍法是使用陰極放電型電弧式蒸發源的技術。
[0003]陰極放電型電弧式蒸發源(以下，稱為電弧式蒸發源)，是在作為陰極的靶的表面使電弧放電發生，瞬間使構成靶的物質熔解和蒸發并使之離子化。電弧式蒸發源，將通過電弧放電而被離子化的該物質引入作為被處理物的基材側，從而在基材表面形成薄膜。根據該電弧式蒸發源，靶的蒸發速度快，并且蒸發的物質的離子化率高，因此在成膜時通過對基材外加偏壓，能夠形成致密的皮膜。因此，電弧式蒸發源出于在切削工具等的表面形成耐磨耗性皮膜的目的而在工業上使用。
[0004]目前所用的電弧式蒸發源利用由磁鐵或線圈形成的磁場，以電弧放電的電弧點靠近陰極前方的蒸發面的方式進行控制。然而，存在電弧點偶發性地向偏離陰極蒸發面的部位轉移的情況。
【實用新型內容】
[0005]本實用新型目的之一在于為克服現有技術的不足，提供一種能夠抑制電弧點向陰極蒸發面以外的部分轉移的電弧蒸發源。
[0006]本實用新型提供的一種電弧蒸發源，包括觸發式引弧結構、運動永磁體、引弧針、陰極表面和靶材；所述引弧針位于所述觸發式引弧結構的末端，所述觸發式引弧結構和所述運動永磁體連接，所述靶材的外表面為所述陰極表面。
[0007]本實用新型的有益效果在于，本實用新型能夠有效抑制電弧點向陰極表面以外的部分轉移，靶面刻蝕均勻。
【附圖說明】
[0008]圖1所示為本實用新型電弧蒸發源的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0009]下文將結合具體實施例詳細描述本實用新型。應當注意的是，下述實施例中描述的技術特征或者技術特征的組合不應當被認為是孤立的，它們可以被相互組合從而達到更好的技術效果。
[0010]如圖1所示，本實用新型提供的一種電弧蒸發源，包括觸發式引弧結構1、運動永磁體2、引弧針3、陰極表面4和靶材5 ;引弧針3位于觸發式引弧結構I的末端，觸發式引弧結構I和運動永磁體2連接，靶材5的外表面為陰極表面4。
[0011 ] 當觸發式引弧結構I的引弧針3與陰極表面4接觸時，由于引弧針3與陰極表面4構成一個大電流回路，在兩個電極迅速通嘶的瞬間，引起大電流脈沖放電，因放電局部高溫而引燃電弧放電。
[0012]本實用新型采用的革E材5直徑為100mm，厚度為30mm。
[0013]本實用新型采用的運動永磁體2形成的磁場強弱與分布的方向容易進行調節，并可以控制弧斑運動的軌跡。在10_3Pa高真空條件下可以正常穩弧，靶面弧斑線細膩，弧斑線向靶心收縮且向靶邊擴展均勻運動，從而有效抑制電弧點向陰極表面4以外的部分轉移，靶面刻蝕均勻。
[0014]由于電弧工作的穩定性與陰極表面4的溫度有關，溫度越低越穩定，而且還會減小靶材5的消耗。因此應對陰極采取強制冷卻措施，通常采用水冷。水冷形式分直接水冷和間接水冷兩種。
[0015]本實用新型能夠有效抑制電弧點向陰極表面4以外的部分轉移，靶面刻蝕均勻。
[0016]本文雖然已經給出了本實用新型的一些實施例，但是本領域的技術人員應當理解，在不脫離本實用新型精神的情況下，可以對本文的實施例進行改變。上述實施例只是示例性的，不應以本文的實施例作為本實用新型權利范圍的限定。
【主權項】
1.一種電弧蒸發源，其特征在于，包括觸發式引弧結構、運動永磁體、引弧針、陰極表面和靶材；所述引弧針位于所述觸發式引弧結構的末端，所述觸發式引弧結構和所述運動永磁體連接，所述靶材的外表面為所述陰極表面。
【專利摘要】本實用新型提供了一種電弧蒸發源，包括觸發式引弧結構、運動永磁體、引弧針、陰極表面和靶材；所述引弧針位于所述觸發式引弧結構的末端，所述觸發式引弧結構和所述運動永磁體連接，靶材的外表面為陰極表面。本實用新型能夠有效抑制電弧點向陰極表面以外的部分轉移，靶面刻蝕均勻。
【IPC分類】C23C14/32
【公開號】CN204874720
【申請號】CN201520499219
【發明人】宋永賓
【申請人】青島優百宇真空設備股份有限公司
【公開日】2015年12月16日
【申請日】2015年7月10日