雙極濺射鍍膜真空室的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及鍍膜設備，具體涉及一種真空鍍膜的雙極濺射鍍膜真空室。
【背景技術】
[0002]在雙極濺射鍍膜過程中，極靶的作用是在極靶周圍建立環繞的磁場，為后續的電離和濺射鍍膜提供條件。極靶形式多種多樣，極靶的材料根據不同的工藝要求而有所差別。實踐證明，極靶所建立的磁場的均衡穩定性能夠影響濺射效率。
【發明內容】
[0003]本實用新型為了提高濺射效率，發明了一種雙極濺射鍍膜真空室，該真空室的極靶結構得到了改進和優化，能建立比現有極靶更均衡穩定的圓周封閉磁場，增加刻蝕面積，從而提高濺射效率，縮短鍍膜周期。
[0004]本實用新型的上述技術問題是通過以下技術方案得以實施的:一種雙極濺射鍍膜真空室，包括腔體，腔體內設置有豎直的極靶以及用于放置工件的工件架，腔體外設置有用于驅動極靶旋轉的電機，其特征在于，所述極靶包括豎直的空心柱狀金屬管體，金屬管體內設置有豎直的空心柱狀內管，在內管的外側，有若干豎直條狀的磁鐵沿著內管側壁圓周均勻排列。
[0005]作為優選，所述磁鐵包括N極磁鐵和S極磁鐵，并且，N極磁鐵和S極磁鐵相間排列。這樣排布可以形成圓周封閉磁場，增加刻蝕面積，濺射效率提高一倍以上，縮短了鍍膜周期，提尚生廣效率。
[0006]作為優選，所述金屬管體為不銹鋼管。
[0007]綜上所述，本實用新型與現有技術相比具有如下優點:
[0008]本實用新型對極靶結構進行了改進和優化，將N極、S極磁鐵沿著圓周相間排列以形成圓周封閉磁場，增加刻蝕面積，濺射效率提高一倍以上，縮短鍍膜周期。
【附圖說明】
[0009]圖1是本實用新型的結構示意圖；
[0010]圖2是本實用新型極靶的剖視圖；
[0011]圖3是本實用新型極靶的橫截面圖。
[0012]圖中標號為:1、腔體;2、極革巴;21、金屬管體；22、內管；23、磁鐵;3、工件架;4、電機。
[0013]
【具體實施方式】
[0014]下面結合附圖和實施例對本實用新型進一步說明。
[0015]實施例1:
[0016]如圖1所示，一種雙極濺射鍍膜真空室，包括腔體1，腔體I的中心為豎直的極靶2，極靶2的周圍均勻設置工件架3，腔體I的上方設置有電機4，電機4驅動極靶2自轉。
[0017]如圖2所示，所述極靶2的最外層是豎直的空心柱狀金屬管體21，金屬管體21的中心有另一豎直的空心柱狀內管22，在實際鍍膜過程中，內管中通入冷水，起到降溫作用；在內管22的外側，三根豎直條狀的N極磁鐵23和三根豎直條狀的S極磁鐵23沿著側壁圓周均勻分布、相間排列，如圖3所示。
[0018]所述金屬管體2為不銹鋼管。
[0019]文中所描述的具體實施例僅僅是對本實用新型精神作舉例說明。本實用新型所屬技術領域的技術人員可以對所描述的具體實施例做各種各樣的修改或補充或采用類似的方式替代，但并不會偏離本實用新型的精神或者超越所附權利要求書所定義的范圍。
【主權項】
1.一種雙極濺射鍍膜真空室，包括腔體(1)，腔體內設置有豎直的極靶(2)以及用于放置工件的工件架(3)，腔體外設置有用于驅動極靶旋轉的電機(4)，其特征在于，所述極靶包括豎直的空心柱狀金屬管體(21)，金屬管體內設置有豎直的空心柱狀內管(22)，在內管的外側，有若干豎直條狀的磁鐵(23)沿著內管側壁圓周均勻排列。2.根據權利要求1所述的雙極濺射鍍膜真空室，其特征在于，所述磁鐵包括N極磁鐵和S極磁鐵，并且，N極磁鐵和S極磁鐵相間排列。3.根據權利要求1或2所述的雙極濺射鍍膜真空室，其特征在于，所述金屬管體為不銹鋼管。
【專利摘要】本實用新型涉及鍍膜設備，具體是一種真空鍍膜的雙極濺射鍍膜真空室，包括腔體，腔體內設置有豎直的極靶以及用于放置工件的工件架，腔體外設置有用于驅動極靶旋轉的電機，其特征在于，所述極靶包括豎直的空心柱狀金屬管體，金屬管體內設置有豎直的空心柱狀內管，在內管的外側，有若干豎直條狀的磁鐵沿著內管側壁圓周均勻排列。本實用新型對極靶結構進行和優化，能建立比現有極靶更均衡穩定的圓周封閉磁場，增加刻蝕面積，從而提高濺射效率，縮短鍍膜周期。
【IPC分類】C23C14/35
【公開號】CN204714887
【申請號】CN201520196983
【發明人】張一為, 徐世杰
【申請人】金華萬得福日用品有限公司
【公開日】2015年10月21日
【申請日】2015年4月3日