一種掩膜板的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及真空蒸鍍技術領域，具體涉及一種掩膜板。
【背景技術】
[0002]有機電致發(fā)光二極管(Organic Light-Emitting D1des，簡稱0LED)是自發(fā)光器件，不需要背光源，外觀輕、薄，而傳統(tǒng)的液晶顯示器(LCD)需要背光源才能工作，外觀尺寸較厚。有機發(fā)光二極管顯示器的功耗低，視角寬，屏幕響應快，是最能符合人們未來對顯示器功能要求的技術。因此，有機發(fā)光二極管有望在不久的將來取代液晶顯示器，具有很高的市場潛力。
[0003]有機小分子發(fā)光二極管在制作過程中，目前較成熟的技術是采用真空蒸鍍技術，在器件制備過程中，有機材料會淀積在位于蒸發(fā)源上方的基板上，為形成特有的圖案，在基板下方緊貼有掩膜版，掩膜版上留有預先設計排版好的開口，最終有機材料會通過掩膜版上的開口區(qū)域，淀積到基板上面。
[0004]掩膜板在重力作用下有一定的下垂量，在重復使用過程中掩膜板液容易松弛變形，通常使用的方法是先對掩膜板進行拉伸張緊，用以控制其下垂量，然后再焊接固定到框架上，但是在張緊過程中，由于掩膜板受力產(chǎn)生變形是不可避免的趨勢，掩膜板的變形會導致鍍膜區(qū)域的邊界有誤差，有機材料在蒸鍍時超出預定的區(qū)域，影響顯示屏的分辨率及色彩均勻性。
【實用新型內(nèi)容】
[0005]本實用新型旨在一定程度上解決上述問題，至少提供一種商業(yè)上的應用。
[0006]為此，本實用新型的發(fā)明目的在于克服現(xiàn)有技術的缺陷，提供一種掩膜板，該掩膜板在使用過程中、或者拉伸時不易變形。
[0007]為實現(xiàn)上述發(fā)明目的，本實用新型采用如下技術方案:一種掩膜板，所述掩膜板包括鍍膜開口區(qū)和非鍍膜區(qū)，所述非鍍膜區(qū)分布于鍍膜開口區(qū)的四周，其特征在于，所述非鍍膜區(qū)上設置有相對鍍膜開口區(qū)對稱分布的減薄區(qū)。本實用新型通過在鍍膜開口區(qū)的外圍制作減薄的區(qū)域，用以吸收在張緊掩膜板過程中掩膜板的拉伸變形，保護鍍膜開口區(qū)的精度。
[0008]進一步的，所述減薄區(qū)由蝕刻方法制得，蝕刻技術為現(xiàn)有技術，技術成熟，成本低廉，可以很便捷的得到減薄區(qū)。
[0009]進一步的，所述減薄區(qū)由磨削方法制得。
[0010]進一步的，所述減薄區(qū)中位于拉伸方向上的減薄區(qū)的形狀為半弧形或矩形。
[0011]進一步的，所述減薄區(qū)中垂直于拉伸方向上的減薄區(qū)包含至少兩個矩形減薄區(qū)。
[0012]本實用新型的有益效果是，本實用新型通過在鍍膜開口區(qū)的外圍制作減薄的區(qū)域，有效的減小了掩膜板開口區(qū)域圖案變形，增加了張緊力的使用力度量，減小掩膜板在重力下引起的下垂量，增加了張緊工藝的可控性。
【附圖說明】
[0013]圖1為本實用新型的示意圖；
[0014]圖2為本實用新型的另一種結構不意圖；
[0015]圖3為本實用新型的又一種結構示意圖。
【具體實施方式】
[0016]下面結合附圖詳細說明本實用新型的機構和原理，為了更好的說明本實用新型，附圖某些部件會有省略、放大或縮小，并不代表實際產(chǎn)品的尺寸；對于本領域技術人員來說，附圖中某些公知結構及其說明可能省略是可以理解的。相同或相似的標號對應相同或相似的部件。
[0017]本實用新型所述掩膜板包括鍍膜開口區(qū)I和非鍍膜區(qū)2，鍍膜開口區(qū)I為掩膜板上預先設計排版好的開口，有機材料會通過掩膜版上的鍍膜開口區(qū)I淀積到基板上面；所述非鍍膜區(qū)2是指除鍍膜開口區(qū)I以外的其他區(qū)域，非鍍膜區(qū)2分布于鍍膜開口區(qū)I的四周，非鍍膜區(qū)2上設置有相對鍍膜開口區(qū)I對稱分布的減薄區(qū)，所述減薄區(qū)是指和其他非鍍膜區(qū)2厚度相比較相對薄的區(qū)域。如圖1所示，本實施例中，掩膜板整體成長方形，鍍膜開口區(qū)I設置在長方形正中間，鍍膜開口區(qū)I也成長方形，其具有長軸L和短軸LI，非鍍膜區(qū)2對稱設置在鍍膜開口區(qū)I的四周，非鍍膜區(qū)2內(nèi)以鍍膜開口區(qū)I的短軸LI為對稱軸橫向設置有兩塊減薄區(qū)3，非鍍膜區(qū)2內(nèi)以鍍膜開口區(qū)I的長軸L為對稱軸縱向設置有兩塊減薄區(qū)4，圖中箭頭方向表示拉伸方向，根據(jù)拉伸形變公式:Λ L=F/S ;其中F為一定的拉力，S為拉伸對象的橫截面積，Λ L為長度方向的拉伸變形量。F —定時，S越小則Λ L越大。本實用新型中減薄區(qū)由于厚度變薄，其橫截面積變小，因此吸收的長度方向的變形增加。
[0018]在另一些實施方式中，如圖2、圖3所示，掩膜板沿拉伸方向兩端的減薄區(qū)3的形狀可以是半弧形，也可以是矩形，具體根據(jù)拉伸變形情況選擇，如果變形曲線是弧形的，則選用半弧形減薄來吸收平衡變形。若變形曲線是接近直線，則選用矩形減薄來吸收平衡變形。垂直于拉伸方向兩端的減薄區(qū)3使用四邊形來吸收變形，四邊形的個數(shù)不限，四邊形的各邊尺寸不限，根據(jù)具體變形情況排布。
[0019]顯然，本實用新型的上述實施例僅僅是為了清楚地說明本實用新型所作的舉例，而并非對本實用新型的實施方式的限定。對于本領域的普通技術人員來說，在上述說明的基礎上還可以做出其他不同形式的變化和變動。凡在本實用新型的精神和原則范圍內(nèi)所做的任何修改、等同替換和改進等，均應包含在本實用新型權利要求的保護范圍內(nèi)。
【主權項】
1.一種掩膜板，所述掩膜板包括鍍膜開口區(qū)和非鍍膜區(qū)，所述非鍍膜區(qū)分布于鍍膜開口區(qū)的四周，其特征在于，所述非鍍膜區(qū)上設置有相對鍍膜開口區(qū)中心線對稱分布的減薄區(qū)。
2.根據(jù)權利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述減薄區(qū)由蝕刻方法制得。
3.根據(jù)權利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述減薄區(qū)由磨削方法制得。
4.根據(jù)權利要求1-3任一所述的掩膜板，其特征在于，所述減薄區(qū)中位于拉伸方向上的減薄區(qū)的形狀為半弧形或矩形。
5.根據(jù)權利要求1-3任一所述的掩膜板，其特征在于，所述減薄區(qū)中垂直于拉伸方向上的減薄區(qū)包含至少兩個矩形減薄區(qū)。
【專利摘要】本實用新型公開了一種掩膜板，所述掩膜板包括鍍膜開口區(qū)和非鍍膜區(qū)，所述非鍍膜區(qū)分布于鍍膜開口區(qū)的四周，其特征在于，所述非鍍膜區(qū)上設置有相對鍍膜開口區(qū)對稱分布的減薄區(qū)。本實用新型通過在鍍膜開口區(qū)的外圍制作減薄的區(qū)域，用以吸收在張緊掩膜板過程中掩膜板的拉伸變形，保護鍍膜開口區(qū)的精度。
【IPC分類】C23C14-24, C23C14-04
【公開號】CN204434717
【申請?zhí)枴緾N201420755671
【發(fā)明人】馬得貴, 吳俊雄, 冉應剛, 柯賢軍, 蘇君海
【申請人】信利（惠州）智能顯示有限公司
【公開日】2015年7月1日
【申請日】2014年12月5日