處理沉鎳鈷后液的方法
【專利摘要】本發明公開了一種處理沉鎳鈷后液的方法，所述方法包括：(1)將一段沉鎳鈷后液與第一氫氧化鈉溶液進行混合，以便得到二段鎳鈷沉淀后礦漿；(2)將所述二段鎳鈷沉淀后礦漿進行濃密處理，以便得到二段沉鎳鈷溢流和二段沉鎳鈷濃密礦漿，并將所述二段沉鎳鈷濃密礦漿的一部分進行中和浸出處理；(3)將所述二段沉鎳鈷濃密礦漿的另一部分與第二氫氧化鈉溶液進行混合，以便得到混合礦漿，并將所述混合礦漿返回步驟(1)替代所述第一氫氧化鈉溶液與所述一段沉鎳鈷后液進行混合。該方法可以顯著提高所得二段沉鎳鈷濃密礦漿的沉降性能，并且將所得二段沉鎳鈷濃密礦漿返回中和浸出處理過程中最終所得中和后液中固體含量較低。
【專利說明】
處理沉鎳鈷后液的方法
技術領域
[0001]本發明屬于鎳鈷濕法冶金領域，具體而言，本發明涉及一種處理沉鎳鈷后液的方法。
【背景技術】
[0002]目前濕法紅土礦冶煉金屬鎳流程中二段沉鎳工序一般采用石灰乳作為沉淀劑，其原理簡單，操作簡便，沉淀劑原料容易購買，在業界沉鎳工序較為常用。然而由于其堿性強，工業實際操作過程中加料很容易形成局部過堿，從而導致沉淀粒度小，沉降能差，產生的石膏渣渣量大，容易使二段沉淀鎳鈷后礦漿濃密機扭矩增加，栗送困難。
[0003]因此，現有的處理丨幾銀鉆后液的技術有待進一步改進。
【發明內容】
[0004]本發明旨在至少在一定程度上解決相關技術中的技術問題之一。為此，本發明的一個目的在于提出一種處理沉鎳鈷后液的方法，該方法可以顯著提高所得二段沉鎳鈷濃密礦漿的沉降性能和濃度。
[0005]在本發明的一個方面，本發明提出了一種處理沉鎳鈷后液的方法。根據本發明的實施例，該方法包括:
[0006](I)將一段沉鎳鈷后液與第一氫氧化鈉溶液進行混合，以便得到二段鎳鈷沉淀后礦漿；
[0007](2)將所述二段鎳鈷沉淀后礦漿進行濃密處理，以便得到二段沉鎳鈷溢流和二段沉鎳鈷濃密礦漿，并將所述二段沉鎳鈷濃密礦漿的一部分進行中和浸出處理；
[0008](3)將所述二段沉鎳鈷濃密礦漿的另一部分與第二氫氧化鈉溶液進行混合，以便得到混合礦漿，并將所述混合礦漿返回步驟(I)替代所述第一氫氧化鈉溶液與所述一段沉鎳鈷后液進行混合。
[0009]由此，根據本發明實施例的處理沉鎳鈷后液的方法通過將二段沉鎳鈷濃密礦漿與氫氧化鈉溶液混合后的混合礦漿供給至步驟(I)中替代氫氧化鈉溶液作為一段沉鎳鈷后液的沉淀劑使用，在加料過程中可以有效避免局部過堿現象的產生，從而可以顯著提高二段鎳鈷沉淀后礦漿中沉淀的粒度，進而提高所得二段沉鎳鈷濃密礦漿的沉降性能，同時較現有技術中采用石灰乳作為沉淀劑相比，本申請在沉淀過程中不會產生大量的石膏渣，從而將所得二段沉鎳鈷濃密礦漿返回中和浸出處理過程中最終所得中和后液中固體含量較低。
[0010]另外，根據本發明上述實施例的處理鎳鈷后液的方法還可以具有如下附加的技術特征:
[0011 ]在本發明的一些實施例中，在步驟(I)中，所述一段沉鎳鈷后液來源于紅土鎳礦濕法冶煉過程。
[0012]在本發明的一些實施例中，在步驟(I)和步驟(3)中，所述第一氫氧化鈉溶液和所述第二氫氧化鈉溶液的濃度分別獨立地為3?40wt%。
[0013]在本發明的一些實施例中，在步驟(I)中，將所述一段沉鎳鈷后液與所述第一氫氧化鈉溶液按照質量比為(10?20): I進行混合。
[0014]在本發明的一些實施例中，在步驟(I)中，將所述一段沉鎳鈷后液與所述第一氫氧化鈉溶液混合I.0?5.0小時。由此，可以保證沉淀反應完全。
[0015]在本發明的一些實施例中，在步驟(I)中，將所述一段沉鎳鈷后液與所述第一氫氧化鈉溶液在40?70攝氏度下進行混合。由此，可以進一步保證沉淀反應完全。
[0016]在本發明的一些實施例中，在步驟(3)中，將所述二段沉鎳鈷濃密礦漿的另一部分與所述第二氫氧化鈉溶液混合I?1min。由此，可以進一步保證沉淀反應完全。
[0017]在本發明的一些實施例中，在步驟(3)中，將所述二段沉鎳鈷濃密礦漿的另一部分與所述第二氫氧化鈉溶液按照質量比為(3?5):1進行混合。
[0018]在本發明的一些實施例中，在步驟(3)中，在將所述混合礦漿返回步驟(I)替代所述第一氫氧化鈉溶液與所述一段沉鎳鈷后液進行混合過程中，所述混合礦漿中的固含量為所述二段鎳鈷沉淀后礦漿中沉淀生成量的2?7倍。由此，可以進一步保證沉淀反應完全。
[0019]本發明的附加方面和優點將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本發明的實踐了解到。
【附圖說明】
[0020]本發明的上述和/或附加的方面和優點從結合下面附圖對實施例的描述中將變得明顯和容易理解，其中:
[0021]圖1是根據本發明一個實施例的處理沉鎳鈷后液的方法流程示意圖。
【具體實施方式】
[0022]下面詳細描述本發明的實施例，所述實施例的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類似的標號表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實施例是示例性的，旨在用于解釋本發明，而不能理解為對本發明的限制。
[0023]在本發明的一個方面，本發明提出了一種處理沉鎳鈷后液的方法。根據本發明的實施例，該方法包括:(I)將一段沉鎳鈷后液與第一氫氧化鈉溶液進行混合，以便得到二段鎳鈷沉淀后礦漿；(2)將所述二段鎳鈷沉淀后礦漿進行濃密處理，以便得到二段沉鎳鈷溢流和二段沉鎳鈷濃密礦漿，并將所述二段沉鎳鈷濃密礦漿的一部分進行中和浸出處理；(3)將所述二段沉鎳鈷濃密礦漿的另一部分與第二氫氧化鈉溶液進行混合，以便得到混合礦漿，并將所述混合礦漿返回步驟(I)替代所述第一氫氧化鈉溶液與所述一段沉鎳鈷后液進行混合。發明人發現，通過將二段沉鎳鈷濃密礦漿與氫氧化鈉溶液混合后的混合礦漿供給至步驟(I)中替代氫氧化鈉溶液作為一段沉鎳鈷后液的沉淀劑使用，在加料過程中可以有效避免局部過堿現象的產生，從而可以顯著提高二段鎳鈷沉淀后礦漿中沉淀的粒度，進而提高所得二段沉鎳鈷濃密礦漿的沉降性能，同時較現有技術中采用石灰乳作為沉淀劑相比，本申請在沉淀過程中不會產生大量的石膏渣，從而將所得二段沉鎳鈷濃密礦漿返回中和浸出處理過程中最終所得中和后液中固體含量較低。
[0024]下面參考圖1對本發明實施例的處理沉鎳鈷后液的方法進行詳細描述。根據本發明的實施例，該方法包括:
[0025]SlOO:將一段沉鎳鈷后液與第一氫氧化鈉溶液進行混合
[0026]根據本發明的實施例，將一段沉鎳鈷后液與第一氫氧化鈉溶液進行混合，從而可以得到二段鎳鈷沉淀后礦漿。
[0027]根據本發明的一個實施例，一段沉鎳鈷后液可以來源于紅土鎳礦濕法冶煉過程。具體的，紅土鎳礦經過常壓/高壓浸出后，獲得含鎳鈷以及鐵鋁錳鎂的雜質的浸出液，經過兩段除鐵鋁工序，獲得鐵鋁含量較低的含鎳鈷溶液，再經過一段沉淀鎳鈷，90 %左右的鎳鈷以氫氧化物的形式沉淀下來作為中間產品出售，溶液剩余10%的鎳鈷，此溶液即為一段沉鎳鈷后液。
[0028]根據本發明的再一個實施例，該過程中第一氫氧化鈉溶液的濃度并不受特別限制，本領域技術人員可以根據實際需要進行選擇，根據本發明的一個具體實施例，第一氫氧化鈉的濃度可以為3?40wt%。發明人發現，若氫氧化鈉溶液濃度過低造成氫氧化鈉稀釋比太大，引入系統中水太多，而氫氧化鈉溶液濃度過高容易造成加入后局部過堿，使得氫氧化鎳鈷沉淀率降低，并且易導致雜質沉淀率高。
[0029]根據本發明的又一個實施例，一段沉鎳鈷后液與第一氫氧化鈉溶液的混合比例并不受特別限制，本領域技術人員可以根據實際需要進行選擇，根據本發明的一個具體實施例，一段沉鎳鈷后液與第一氫氧化鈉溶液可以按照質量比為(10?20):1進行混合。發明人發現，若氫氧化鈉溶液加入量過低造成鎳鈷沉淀率較低，而氫氧化鈉溶液加入量過高造成鎂錳雜質沉淀較多。由此，采用該混合配比可以在提高一段沉鎳鈷后液中鎳鈷沉淀效率的同時降低鎂錳雜質沉淀的生成量。
[0030]根據本發明的又一個實施例，一段沉鎳鈷后液與第一氫氧化鈉溶液的混合時間并不受特別限制，本領域技術人員可以根據實際需要進行選擇，根據本發明的一個具體實施例，將一段沉鎳鈷后液與第一氫氧化鈉溶液混合1.0?5.0小時。發明人發現，若混合時間過短容易造成鎳鈷沉淀率降低，且沉淀顆粒較細，造成生成的鎳鈷沉降困難，而混合時間過高造成設備體積龐大，能耗較高。由此，采用該混合時間可以在提高鎳鈷沉降效率的同時將處理能耗降到最低。
[0031]根據本發明的又一個實施例，一段沉鎳鈷后液與第一氫氧化鈉溶液的混合溫度并不受特別限制，本領域技術人員可以根據實際需要進行選擇，根據本發明的一個具體實施例，一段沉鎳鈷后液與第一氫氧化鈉溶液可以在40?70攝氏度下進行混合。發明人發現，該溫度可以明顯優于其他溫度條件提高一段沉鎳鈷后液中鎳鈷沉淀的沉降效率，并保證能耗最低。
[0032]S200:將二段鎳鈷沉淀后礦漿進行濃密處理，并將二段沉鎳鈷濃密礦漿的一部分進行中和浸出處理
[0033]根據本發明的實施例，將上述所得二段鎳鈷沉淀后礦漿進行濃密處理，從而可以得到二段沉鎳鈷溢流和二段沉鎳鈷濃密礦漿，并將所得二段沉鎳鈷濃密礦漿的一部分進行中和浸出處理。具體的，可以采用硫酸對二段沉鎳鈷濃密礦漿進行中和浸出:
[0034]Ni (OH) 2+H2SO4 = Ni S04+2H20
[0035]Co (OH) 2+H2SO4 = C0SO4+2H2O
[0036]Mn(0H)2+H2S04=MnS04+2H20
[0037]Mg(0H)2+H2S04=MgS04+2H20
[0038]由此，通過采用氫氧化鈉作為一段沉鎳鈷后液的沉淀劑，較現有技術中采用石灰乳作為沉淀劑相比，本申請在沉淀過程中不會產生大量的石膏渣，從而將所得二段沉鎳鈷濃密礦漿返回中和浸出處理過程中最終所得中和后液中固體含量較低。需要說明的是，本領域技術人員可以根據實際需要對硫酸的濃度以及中和浸出的條件進行選擇。
[0039]S300:將二段沉鎳鈷濃密礦漿的另一部分與第二氫氧化鈉溶液進行混合，并將混合礦漿返回步驟SlOO替代第一氫氧化鈉溶液與一段沉鎳鈷后液進行混合
[0040]根據本發明的實施例，將二段沉鎳鈷濃密礦漿的另一部分與第二氫氧化鈉溶液進行混合，從而可以得到混合礦漿，并將所得到的混合礦漿返回步驟SlOO替代第一氫氧化鈉溶液與一段沉鎳鈷后液進行混合。發明人發現，通過將二段沉鎳鈷濃密礦漿與氫氧化鈉溶液混合后的混合礦漿供給至步驟SlOO中替代氫氧化鈉作為一段沉鎳鈷后液的沉淀劑使用，在加料過程中可以有效避免局部過堿現象的產生，從而可以顯著提高二段鎳鈷沉淀后礦漿中沉淀的粒度，進而提高所得二段沉鎳鈷濃密礦漿的沉降性能，同時較現有技術中采用石灰乳作為沉淀劑相比，本申請在沉淀過程中不會產生大量的石膏渣，從而將所得二段沉鎳鈷濃密礦漿返回中和浸出處理過程中最終所得中和后液中固體含量較低。
[0041]根據本發明的一個實施例，該過程中第二氫氧化鈉溶液的濃度并不受特別限制，本領域技術人員可以根據實際需要進行選擇，根據本發明的一個具體實施例，第二氫氧化鈉的濃度可以為3?40wt%。發明人發現，若氫氧化鈉溶液濃度過低造成氫氧化鈉稀釋比太大，引入系統中水太多，而氫氧化鈉溶液濃度過高容易造成加入后局部過堿，使得氫氧化鎳鈷沉淀率降低，并且易導致雜質沉淀率高。
[0042]根據本發明的再一個實施例，二段沉鎳鈷濃密礦漿的另一部分與第二氫氧化鈉溶液混合時間并不受特別限制，本領域技術人員可以根據實際需要進行選擇，根據本發明的一個具體實施例，二段沉鎳鈷濃密礦漿的另一部分與第二氫氧化鈉溶液混合時間可以為I?lOmin。發明人發現，若二者混合時間過短造成后續礦漿沉降困難，而混合時間過長會導致鎳鈷沉淀率偏低。由此，采用該混合時間可以保證后續鎳鈷沉淀具有較高的沉降效率。
[0043]根據本發明的又一個實施例，二段沉鎳鈷濃密礦漿的另一部分與第二氫氧化鈉溶液的混合比例并不受特別限制，本領域技術人員可以根據實際需要進行選擇，根據本發明的一個具體實施例，二段沉鎳鈷濃密礦漿的另一部分與氫氧化鈉溶液可以按照質量比為(3?5):1進行混合。發明人發現，若氫氧化鈉加入量過高造成體積量龐大，系統循環量增加，從而導致系統負荷增加，而氫氧化鈉加入量過低會造成后續鎳鈷沉淀顆粒沉降效果變差。
[0044]根據本發明又一個實施例，混合礦漿與一段沉鎳鈷后液的混合比例并不受特別限制，本領域技術人員可以根據實際需要進行選擇，根據本發明的一個具體實施例，混合礦漿與一段沉鎳鈷后液的混合比例可以按照混合礦漿中的固含量為二段鎳鈷沉淀后礦漿中沉淀生成量的2?7倍的方式進行混合。發明人發現，按照該混合比例可以顯著優于其他比例提尚銀鉆沉淀的沉降效率。
[0045]根據本發明實施例的處理沉鎳鈷后液的方法通過將二段沉鎳鈷濃密礦漿與氫氧化鈉溶液混合后的混合礦漿供給至步驟(I)中替代氫氧化鈉作為一段沉鎳鈷后液的沉淀劑使用，在加料過程中可以有效避免局部過堿現象的產生，從而可以顯著提高二段鎳鈷沉淀后礦漿中沉淀的粒度，進而提高所得二段沉鎳鈷濃密礦漿的沉降性能，同時較現有技術中采用石灰乳作為沉淀劑相比，本申請在沉淀過程中不會產生大量的石膏渣，從而將所得二段沉鎳鈷濃密礦漿返回中和浸出處理過程中最終所得中和后液中固體含量較低。
[0046]下面參考具體實施例，對本發明進行描述，需要說明的是，這些實施例僅僅是描述性的，而不以任何方式限制本發明。
[0047]實施例1
[0048]將一段沉鎳鈷后液與第一氫氧化鈉溶液在65°C下混合2小時，得到二段鎳鈷沉淀后礦漿，其中，一段沉淀鎳鈷后液IL，含鎳0.3g/L，第一氫氧化鈉溶液濃度為1wt%，并且一段沉鎳鈷后液與第一氫氧化鈉溶液的質量比為20:1;然后將二段鎳鈷沉淀后礦漿進行濃密處理，得到二段沉鎳鈷溢流和二段沉鎳鈷濃密礦漿，并采用硫酸溶液對二段沉鎳鈷濃密礦漿的一部分進行中和浸出處理;將二段沉鎳鈷濃密礦漿的另一部分與第二氫氧化鈉溶液進行混合3min，得到混合礦漿，其中，二段沉鎳鈷濃密礦漿的另一部分與第二氫氧化鈉溶液的質量比為3:1，并將混合礦漿返回替代第一氫氧化鈉與一段沉鎳鈷后液進行混合，其中混合礦漿中的固含量為二段鎳鈷沉淀后礦漿中沉淀生成量的5倍。
[0049]實施例2
[0050]將一段沉鎳鈷后液與第一氫氧化鈉溶液在65°C下混合2小時，得到二段鎳鈷沉淀后礦漿，其中，一段沉淀鎳鈷后液IL，含鎳0.3g/L，第一氫氧化鈉溶液濃度為20wt%，并且一段沉鎳鈷后液與第一氫氧化鈉溶液的質量比為10:1;然后將二段鎳鈷沉淀后礦漿進行濃密處理，得到二段沉鎳鈷溢流和二段沉鎳鈷濃密礦漿，并采用硫酸溶液對二段沉鎳鈷濃密礦漿的一部分進行中和浸出處理;將二段沉鎳鈷濃密礦漿的另一部分與第二氫氧化鈉溶液進行混合3min，得到混合礦漿，其中，二段沉鎳鈷濃密礦漿的另一部分與第二氫氧化鈉溶液的質量比為3:1，并將混合礦漿返回替代第一氫氧化鈉與一段沉鎳鈷后液進行混合，其中混合礦漿中的固含量為二段鎳鈷沉淀后礦漿中沉淀生成量的5倍。
[0051]對比例I
[0052]將一段沉淀鎳鈷后液與石灰乳在65°C下混合2小時，得到二段鈷鎳沉淀后礦漿，其中，一段沉淀鎳鈷后液IL，含鎳0.3g/L，石灰乳濃度為1wt %，其中，晶種比為5:1，然后將二段鎳鈷沉淀后礦漿進行濃密處理，得到二段沉鎳鈷溢流和二段沉鎳鈷濃密礦漿，并采用硫酸溶液對二段沉鎳鈷濃密礦漿的一部分進行中和浸出處理。
[0053]對比例2
[0054]將一段沉淀鎳鈷后液與石灰乳在65°C下混合2小時，得到二段鈷鎳沉淀后礦漿，其中，一段沉淀鎳鈷后液IL，含鎳0.3g/L，石灰乳濃度為20wt %，其中，晶種比為5:1，然后將二段鎳鈷沉淀后礦漿進行濃密處理，得到二段沉鎳鈷溢流和二段沉鎳鈷濃密礦漿，并采用硫酸溶液對二段沉鎳鈷濃密礦漿的一部分進行中和浸出處理。
[0055]結論:對比實施例1和對比例I所得二段沉鎳鈷濃密礦漿的沉降性能，用兩個10mL量筒分別裝入二段沉鎳鈷濃密礦漿，搖勻后計時，實施例1中的濃密礦漿沉降速率為70mL/3min，而對比例I只有50mL/3min;且實施例1中所得濃密礦漿中固體量只有對比例I固體量的 1/3。
[0056]對比實施例2和對比例2所得二段沉鎳鈷濃密礦漿的沉降性能，用兩個10mL量筒分別裝入二段沉鎳鈷濃密礦漿，搖勻后計時，實施例2中的濃密礦漿沉降70mL/3min，而對比例2只有20mL/3min;且實施例1中所得濃密礦漿中固體量只有對比例I固體量的I/3。
[0057]在本說明書的描述中，參考術語“一個實施例”、“一些實施例”、“示例”、“具體示例”、或“一些示例”等的描述意指結合該實施例或示例描述的具體特征、結構、材料或者特點包含于本發明的至少一個實施例或示例中。在本說明書中，對上述術語的示意性表述不必須針對的是相同的實施例或示例。而且，描述的具體特征、結構、材料或者特點可以在任一個或多個實施例或示例中以合適的方式結合。此外，在不相互矛盾的情況下，本領域的技術人員可以將本說明書中描述的不同實施例或示例以及不同實施例或示例的特征進行結合和組合。
[0058]盡管上面已經示出和描述了本發明的實施例，可以理解的是，上述實施例是示例性的，不能理解為對本發明的限制，本領域的普通技術人員在本發明的范圍內可以對上述實施例進行變化、修改、替換和變型。
【主權項】
1.一種處理沉鎳鈷后液的方法，其特征在于，包括: (1)將一段沉鎳鈷后液與第一氫氧化鈉溶液進行混合，以便得到二段鎳鈷沉淀后礦漿； (2)將所述二段鎳鈷沉淀后礦漿進行濃密處理，以便得到二段沉鎳鈷溢流和二段沉鎳鈷濃密礦漿，并將所述二段沉鎳鈷濃密礦漿的一部分進行中和浸出處理； (3)將所述二段沉鎳鈷濃密礦漿的另一部分與第二氫氧化鈉溶液進行混合，以便得到混合礦漿，并將所述混合礦漿返回步驟(I)替代所述第一氫氧化鈉溶液與所述一段沉鎳鈷后液進行混合。2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，在步驟(I)中，所述一段沉鎳鈷后液來源于紅土鎳礦濕法冶煉過程。3.根據權利要求1或2所述的方法，其特征在于，在步驟(I)和步驟(3)中，所述第一氫氧化鈉溶液和所述第二氫氧化鈉溶液的濃度分別獨立地為3?40wt %。4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，在步驟(I)中，將所述一段沉鎳鈷后液與所述第一氫氧化鈉溶液按照質量比為(10?20): I進行混合。5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，在步驟(I)中，將所述一段沉鎳鈷后液與所述第一氫氧化鈉溶液混合1.0?5.0小時。6.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，在步驟(I)中，將所述一段沉鎳鈷后液與所述第一氫氧化鈉溶液在40?70攝氏度下進行混合。7.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，在步驟(3)中，將所述二段沉鎳鈷濃密礦漿的另一部分與所述第二氫氧化鈉溶液混合I?I Om i η。8.根據權利要求7所述的方法，其特征在于，在步驟(3)中，將所述二段沉鎳鈷濃密礦漿的另一部分與所述第二氫氧化鈉溶液按照質量比為(3?5):1進行混合。9.根據權利要求8所述的方法，其特征在于，在步驟(3)中，在將所述混合礦漿返回步驟(I)替代所述第一氫氧化鈉溶液與所述一段沉鎳鈷后液進行混合過程中，所述混合礦漿中的固含量為所述二段鎳鈷沉淀后礦漿中沉淀生成量的2?7倍。
【文檔編號】C22B3/44GK106086409SQ201610629620
【公開日】2016年11月9日
【申請日】2016年8月3日 公開號201610629620.0, CN 106086409 A, CN 106086409A, CN 201610629620, CN-A-106086409, CN106086409 A, CN106086409A, CN201610629620, CN201610629620.0
【發明人】孫寧磊, 劉誠, 李少龍, 傅建國, 姜海龍
【申請人】中國恩菲工程技術有限公司