一種帶品質智能檢測系統的真空鍍膜設備的制造方法
【專利摘要】本發明涉及一種帶品質智能檢測系統的真空鍍膜設備，包括真空室和均設置在真空室的隔板、多個磁控靶、基材、離子處理器、運行線路組件；運行線路組件包括沿著基材運行路徑依次設置的放卷輥、第一導輥、第二導輥、第一檢測輥、第三導輥、水冷鼓、第四導輥、第二檢測輥、第五導輥、第六導輥、收卷輥；多個磁控靶沿著水冷鼓圓周表面的圓周方向布置，水冷鼓的兩側均設置一塊隔板，用于對基材進行處理的離子處理器設置在真空室上；品質智能檢測系統包括打標靶和測厚儀，測厚儀和打標靶沿著基材的運行方向依次設置在第四導輥和第六導輥之間。本發明能自動標記有缺陷的鍍膜基材，提高生產效率，降低生產成本，屬于真空鍍膜的技術領域。
【專利說明】
一種帶品質智能檢測系統的真空鍍膜設備
技術領域
[0001]本發明涉及真空鍍膜的技術領域，尤其涉及一種帶品質智能檢測系統的真空鍍膜設備。
【背景技術】
[0002]現有技術的柔性基材連續真空鍍膜設備，在真空鍍膜的過程中，因各種原因出現缺陷(如:基材膜層厚度出現波動等等)時，都只能是整卷基材鍍膜完后，利用后續工序完成成品檢測，再來篩選出合格與不合格成品。這樣檢驗工作難度大，工作量多，耗時長，生產效率低，另外鍍膜出現缺陷的基材，一起參與后續的工序，大大增加生產成本，造成浪費。
【發明內容】
[0003]針對現有技術中存在的技術問題，本發明的目的是:提供一種帶品質智能檢測系統的真空鍍膜設備，能自動標記有缺陷的鍍膜基材，提高生產效率，降低生產成本。
[0004]為了達到上述目的，本發明采用如下技術方案:
[0005]—種帶品質智能檢測系統的真空鍍膜設備，包括真空室和均設置在真空室的隔板、品質智能檢測系統、多個磁控靶、基材、離子處理器、用于控制基材運行的運行線路組件;運行線路組件包括沿著基材運行路徑依次設置的放卷輥、第一導輥、第二導輥、第一檢測輥、第三導輥、水冷鼓、第四導輥、第二檢測輥、第五導輥、第六導輥、收卷輥;多個磁控靶沿著水冷鼓圓周表面的圓周方向布置，水冷鼓的兩側均設置一塊隔板，用于對基材進行處理的離子處理器設置在真空室上；品質智能檢測系統包括打標靶和測厚儀，測厚儀和打標靶沿著基材的運行方向依次設置在第四導輥和第六導輥之間；放卷輥、第一導輥、第二導輥、第一檢測輥、第三導輥、第四導輥、第二檢測輥、第五導輥、第六導輥、收卷輥、離子處理器、品質智能檢測系統均位于隔板的上方，磁控靶位于隔板的下方。
[0006]進一步的是:所述的離子處理器朝向第一導輥和第二導輥之間的基材。可對基材表面進行清洗，去除基材表面的污染層。
[0007]進一步的是:所述的基材穿過測厚儀。可測量基材膜層的厚度。
[0008]進一步的是:所述的磁控靶為平面磁控靶或圓柱磁控靶。
[0009]進一步的是:放卷輥和收卷輥對稱設置在真空室內，第一導輥和第六導輥對稱設置在真空室內，第二導輥和第五導輥對稱設置在真空室內，第一檢測輥和第二檢測輥對稱設置在真空室內，第三導輥和第四導輥對稱設置在真空室內。
[0010]進一步的是:所述的基材為聚酰亞胺薄膜。
[0011 ]進一步的是:所述的真空室呈圓形或方形。
[0012]進一步的是:真空鍍膜設備還包括抽真空機組。
[0013]進一步的是:測厚儀和打標靶沿著基材的運行方向依次設置在第五導輥和第六導輥之間。
[0014]總的說來，本發明具有如下優點:
[0015]1.本發明的真空鍍膜設備，因能自動標記有缺陷的鍍膜基材，節約了檢驗的人力物力，提高生產效率，增強產品的市場競爭力。
[0016]2.本發明可將鍍膜過程中基材膜層的缺陷標記出來，在后續工序中，將具有缺陷的基材去掉，這樣確保后續工序基材的質量，提高成品合格率。
[0017]3.本發明將具有缺陷的基材去掉后，在后續工序中省去了缺陷基材的相關工作，減少加工成本，提高產品性價比。
【附圖說明】
[0018]圖1是本發明的結構示意圖。
[0019]其中，I為真空室，2為離子處理器，3為磁控靶，4為隔板，5為放卷輥，6為第一導輥，7為第二導棍，8為第一檢測棍，9為第三導棍，10為水冷鼓，11為第四導棍，12為第二檢測棍，13為第五導輥，14為第六導輥，15為收卷輥，16為測厚儀，17為打標靶。
【具體實施方式】
[0020]下面將結合附圖和【具體實施方式】來對本發明做進一步詳細的說明。
[0021]為敘述方便，下文所說的上下左右方向與圖1本身的上下左右方向一致。
[0022]結合圖1所示，一種帶品質智能檢測系統的真空鍍膜設備，包括真空室和均設置在真空室內的隔板、品質智能檢測系統、多個磁控靶、基材、離子處理器、用于控制基材運行的運行線路組件。運行線路組件包括沿著基材運行路徑依次設置的放卷輥、第一導輥、第二導輥、第一檢測輥、第三導輥、水冷鼓、第四導輥、第二檢測輥、第五導輥、第六導輥、收卷輥。多個磁控靶沿著水冷鼓的圓周表面布置，即每個磁控靶沿著水冷鼓圓周表面的圓周方向均勻布置，即磁控靶均勻布置在水冷鼓圓周表面的外側的圓弧上，每個磁控靶距離水冷鼓的圓周表面有合適的距離，每個磁控靶均勻布置。水冷鼓的兩側(即圖1中水冷鼓上部的左右兩偵D均設置一塊隔板。用于對基材進行處理的離子處理器設置在真空室上。品質智能檢測系統包括打標靶和測厚儀，測厚儀和打標靶沿著基材的運行方向依次設置在第四導輥和第六導輥之間；測厚儀和打標靶的位置可以合理設置，本發明中，測厚儀和打標靶依次設置在第五導輥和第六導輥之間，即測厚儀和打標靶設置在第四導輥和第六導輥之間的區域內，基材先穿過測厚儀，打標靶再對基材起作用，測厚儀先對基材進行測厚，打標靶再對基材進行打標，基材穿過測厚儀時，測厚儀可測出基材的的透光率和電阻率，再通過透光率和電阻率算出基材膜層的厚度。放卷輥、第一導輥、第二導輥、第一檢測輥、第三導輥、第四導輥、第二檢測輥、第五導輥、第六導輥、收卷輥、離子處理器、品質智能檢測系統均位于隔板的上方，磁控靶位于隔板的下方。放卷輥和收卷輥對稱設置在真空室內，第一導輥和第六導輥對稱設置在真空室內，第二導輥和第五導輥對稱設置在真空室內，第一檢測輥和第二檢測輥對稱設置在真空室內，第三導輥和第四導輥對稱設置在真空室內。
[0023]運行路線組件的一種布置方式是:放卷輥布置在真空室的左上部，第一導輥靠近布置在放卷輥的左側，第二導輥布置在第一導輥的左下方，第一檢測輥布置在第二導輥的右上方，第三導輥布置在第一檢測輥的右下方，且第三導輥靠近水冷鼓的上部;運行路線組件中剩余的其他部件采用對稱方式布置在真空室內。放卷輥先放出基材，基材繞過第一導輥，再繞過第二導輥，再繞過第一檢測輥，再繞過第三導輥，再穿過隔板和水冷鼓之間的縫隙從而繞入水冷鼓，再穿過隔板和水冷鼓之間的縫隙從而繞出水冷鼓，再繞過第四導輥，再繞過第二檢測輥，再繞過第五導輥，再繞過第六導輥，最后由收卷輥收卷。基材貼著運行線路組件中每個部件的表面運行。運行線路組件起到了引導和控制基材運行的作用。第一檢測輥和第二檢測輥起到張力檢測的作用，使得基材既不會過緊也不會過松;基材在隔板上面運行的時候，會產生一定量的氣體，隔板可起到隔離作用，使得隔板下面的區域為真空區域。
[0024]所述的離子處理器朝向第一導輥和第二導輥之間的基材。離子處理器可對基材進行清洗，去除基材表面的粉塵等污染層。
[0025]所述的基材穿過測厚儀。所述的磁控靶為平面磁控靶或圓柱磁控靶，磁控靶可對基材進行鍍膜。所述的基材為聚酰亞胺薄膜，即PI膜，基材也可以為其他膜，如PE膜(聚乙烯膜)、PET膜(耐高溫聚酯薄膜)、0ΡΡ膜、CPP膜(流延聚丙烯膜)、PMMA膜、PVC膜、PI (聚酰亞胺膜)。所述的真空室呈圓形或方形。如圖1所示的平面圖，所述的真空室呈圓形、方形或者其他形狀。該設備還設有抽真空機組，離子處理器對基材進行清洗時，基材產生的漂浮污染物可通過抽真空機組排出真空室外。該設備還可以放置在多個真空室組成的空間內，該設備包括一個或者多個水冷鼓。打標靶可以是磁控靶、多弧靶等。磁控靶的磁控電源可以為直流電源、中頻電源、射頻電源等。
[0026]使用該設備可智能篩選出具有缺陷的卷繞鍍膜，基材在鍍膜前，首先根據工藝要求在設備的控制系統內輸入透光率或電阻率等參數，當基材經過鍍膜區域后，測厚儀自動檢測出基材膜層的厚度是否合格，如果發現不合格后，即通過設備的工控系統向打標靶發出信號，打標靶馬上在對應的基材位置上鍍上膜，作為標記；當經過測厚儀的基材膜層檢測合格后，工控系統再發出信號給打標靶，打標靶停止工作。通過此方法，可在有缺陷的基材膜層上鍍上一道不同顏色的膜層作為標記，從而實現在線品質智能檢測的目的。
[0027]本發明的真空鍍膜設備，因能自動標記有缺陷的鍍膜基材，節約了檢驗的人力物力，提高生產效率。將鍍膜過程中基材膜層的缺陷標記出來，在后續工序中，將具有缺陷的基材去掉，這樣確保后續工序基材的質量，提高成品合格率。將具有缺陷的基材去掉后，在后續工序中省去了缺陷基材的相關工作，減少加工成本，提尚廣品性價比。
[0028]上述實施例為本發明較佳的實施方式，但本發明的實施方式并不受上述實施例的限制，其他的任何未背離本發明的精神實質與原理下所作的改變、修飾、替代、組合、簡化，均應為等效的置換方式，都包含在本發明的保護范圍之內。
【主權項】
1.一種帶品質智能檢測系統的真空鍍膜設備，其特征在于:包括真空室和均設置在真空室的隔板、品質智能檢測系統、多個磁控靶、基材、離子處理器、用于控制基材運行的運行線路組件;運行線路組件包括沿著基材運行路徑依次設置的放卷輥、第一導輥、第二導輥、第一檢測輥、第三導輥、水冷鼓、第四導輥、第二檢測輥、第五導輥、第六導輥、收卷輥;多個磁控靶沿著水冷鼓圓周表面的圓周方向布置，水冷鼓的兩側均設置一塊隔板，用于對基材進行處理的離子處理器設置在真空室上；品質智能檢測系統包括打標靶和測厚儀，測厚儀和打標靶沿著基材的運行方向依次設置在第四導輥和第六導輥之間;放卷輥、第一導輥、第二導輥、第一檢測輥、第三導輥、第四導輥、第二檢測輥、第五導輥、第六導輥、收卷輥、離子處理器、品質智能檢測系統均位于隔板的上方，磁控靶位于隔板的下方。2.按照權利要求1所述的一種帶品質智能檢測系統的真空鍍膜設備，其特征在于:所述的離子處理器朝向第一導輥和第二導輥之間的基材。3.按照權利要求1所述的一種帶品質智能檢測系統的真空鍍膜設備，其特征在于:所述的基材穿過測厚儀。4.按照權利要求1所述的一種帶品質智能檢測系統的真空鍍膜設備，其特征在于:所述的磁控靶為平面磁控靶或圓柱磁控靶。5.按照權利要求1所述的一種帶品質智能檢測系統的真空鍍膜設備，其特征在于:放卷輥和收卷輥對稱設置在真空室內，第一導輥和第六導輥對稱設置在真空室內，第二導輥和第五導輥對稱設置在真空室內，第一檢測輥和第二檢測輥對稱設置在真空室內，第三導輥和第四導輥對稱設置在真空室內。6.按照權利要求1所述的一種帶品質智能檢測系統的真空鍍膜設備，其特征在于:所述的基材為聚酰亞胺薄膜。7.按照權利要求1所述的一種帶品質智能檢測系統的真空鍍膜設備，其特征在于:所述的真空室呈圓形或方形。8.按照權利要求2所述的一種帶品質智能檢測系統的真空鍍膜設備，其特征在于:真空鍍膜設備還包括抽真空機組。9.按照權利要求1所述的一種帶品質智能檢測系統的真空鍍膜設備，其特征在于:測厚儀和打標靶沿著基材的運行方向依次設置在第五導輥和第六導輥之間。
【文檔編號】C23C14/35GK105986237SQ201610495742
【公開日】2016年10月5日
【申請日】2016年6月27日
【發明人】朱文廓, 朱剛勁, 朱剛毅
【申請人】廣東騰勝真空技術工程有限公司