蝕刻裝置的制造方法
【專利摘要】本發明提供一種蝕刻裝置。所述蝕刻裝置包括蝕刻槽及用于清洗所述蝕刻槽的清洗裝置，所述蝕刻槽包括底壁及自所述底壁延伸的側壁，所述底壁與所述側壁圍設形成收容空間，所述清洗裝置包括盤管、間隔設置于所述盤管上的多個噴嘴、與所述盤管連通的進液管及固定于所述側壁的卡座，所述盤管收容于所述收容空間內且環繞所述側壁設置，外部清洗液通過所述盤管導入經所述噴嘴噴出以噴淋所述蝕刻槽，且所述噴嘴朝向所述側壁噴淋以在所述側壁上形成噴淋區域，所述盤管通過所述卡座固定于所述側壁。與相關技術相比，本發明的蝕刻裝置具有結構簡單、稼動率高、清洗效果好且不會產生二次污染的優點。
【專利說明】
蝕刻裝置
技術領域
[0001]本發明涉及一種印刷電路板生產設備領域，尤其涉及一種用于生產印刷電路板的蝕刻裝置。
【背景技術】
[0002]隨著電子產品高速發展，作為電子元器件基礎的印刷電路板制造市場競爭壓力越來越大，印刷電路板質量標準越來越嚴。作為印刷電路板制造的重要環節之一的顯影-蝕亥IJ-退膜，因其在生產過程中含有大量的干膜、濕膜等有機物，隨著生產時間的累積，導致蝕刻印刷電的蝕刻裝置的蝕刻槽內會積聚大量的黑色油性污垢，嚴重影響蝕刻槽內蝕刻液的特性，從而導致印刷電路板的生產質量降低。
[0003]相關技術中，印刷電路板生產廠家為了穩定印刷電路板的生產質量，需要對蝕刻槽內的黑色油性污垢進行清洗。而對于黑色油性污垢的清洗通常是采用停機保養的方式，即先將蝕刻裝置進行停機，再通過人工對蝕刻槽進行清洗。這種方式在清洗過程中降低了蝕刻裝置的稼動率，清洗工作量大、效率低；同時，對于積累時間長的污垢需采用借助清洗工具和有機溶劑，導致蝕刻槽容易損壞且容易產生二次污染。
【發明內容】
[0004]本發明需要解決的技術問題是提供一種結構簡單、稼動率高、清洗能力強且不會產生二次污染的蝕刻裝置。
[0005]本發明提供一種蝕刻裝置，包括蝕刻槽及用于清洗所述蝕刻槽的清洗裝置，所述蝕刻槽包括底壁及自所述底壁延伸的側壁，所述底壁與所述側壁圍設形成收容空間所述清洗裝置包括盤管、間隔設置于所述盤管上的多個噴嘴、與所述盤管連通的進液管及固定于所述側壁的卡座，所述盤管收容于所述收容空間內且環繞所述側壁設置，外部清洗液通過所述盤管導入經所述噴嘴噴出以噴淋所述蝕刻槽，且所述噴嘴朝向所述側壁噴淋以在所述側壁上形成噴淋區域，所述盤管通過所述卡座固定于所述側壁。
[0006]優選的，相鄰兩個所述噴嘴在所述側壁上噴淋形成的所述噴淋區域部分疊加。
[0007]優選的，相鄰兩個所述噴嘴在所述側壁上噴淋形成的疊加的所述噴淋區域的寬度為單個所述噴嘴的所述噴淋區域的寬度的10%。
[0008]優選的，所述噴嘴的噴淋方向與水平面呈15?30°的夾角。
[0009]優選的，所述卡座數量為多個，多個所述卡座環繞所述側壁等間距設置。
[0010]優選的，所述卡座具有開口，所述盤管通過所述開口卡設固定于所述卡座。
[0011 ]優選的，所述開口的直徑等于所述盤管的直徑。
[0012]優選的，所述噴嘴為扇形噴嘴。
[0013]優選的，所述進液管由聚丙烯材料制成。
[0014]優選的，所述蝕刻槽還包括多個支撐部，多個所述支撐部分別安裝于所述底壁遠離所述側壁的一側。
[0015]與相關技術相比，本發明提供的所述蝕刻裝置包括蝕刻槽和用于清洗所述蝕刻槽的清洗裝置，通過清洗裝置的盤管將外部清洗液導入至噴嘴以噴淋側壁，從而有效避免黑色油性污垢積聚在蝕刻槽內且持續對蝕刻槽進行清洗，具有結構簡單、稼動率高、清洗效果好且不會產生二次污染的優點。
【附圖說明】
[0016]圖1為本發明蝕刻裝置的立體結構示意圖；
[0017]圖2為圖1中沿A-A線的剖面結構示意圖。
【具體實施方式】
[0018]下面將結合附圖和實施方式對本發明作進一步說明。
[0019]請同時參閱圖1和圖2，圖1為本發明蝕刻裝置的立體結構示意圖；圖2為圖1中沿A-A線的剖面結構示意圖。所述蝕刻裝置100包括蝕刻槽I及清洗裝置2。所述清洗裝置2用于向所述蝕刻槽I噴淋清洗液以持續清洗所述蝕刻槽I，從而實現對所述蝕刻槽I的清洗。其中，所述清洗液可以為與所述蝕刻槽I內盛載的蝕刻液相同，避免所述清洗液對蝕刻槽I進行二次污染。
[0020]所述蝕刻槽I包括底壁11、自所述底壁11延伸的側壁12及安裝于所述底壁11遠離所述側壁12—側的支撐部13。側壁12與所述底壁11共同圍設形成收容空間10。所述支撐部13用于支撐所述蝕刻槽I，使所述蝕刻裝置100穩固性好。
[0021]所述清洗裝置2包括盤管21、間隔設置于所述盤管21上的多個噴嘴22、與所述盤管21連通的進液管23及固定于各所述側壁12的卡座24。
[0022]所述盤管21收容于所述收容空間10內且環繞所述側壁12設置。為了保證所述清洗裝置2能夠將所述蝕刻槽I清洗干凈，在本實施方式中，所述盤管21與水平面平行設置，且高于所述蝕刻槽I內盛載的蝕刻液的液面。所述盤管21為一體成型的管道，結構簡單且使用壽命長。
[0023]多個所述噴嘴22通過所述盤管21與所述進液管23連通，所述清洗液由所述進液管23流經所述盤管21，再通過所述噴嘴22噴淋，避免黑色油性污垢積聚于所述側壁12上，從而實現對所述蝕刻槽I的清洗。所述噴嘴22朝向所述側壁12噴淋且其噴淋方向與水平面呈15?30°的夾角，且相鄰兩個所述噴嘴22在所述側壁12上噴淋形成的噴淋區域部分疊加，且疊加的所述噴淋區域的寬度為單個所述噴嘴的所述噴淋區域的寬度的10%，從而保證對所述蝕刻槽I的各區域全部進行清洗，提高所述蝕刻裝置100的清洗能力且降低能耗。
[0024]所述進液管23包括管體231及設置于所述管體231的過濾網(未圖示)、調節閥232和壓力表233。所述管體231與所述盤管21和外部的液栗(未圖示)連通，外部的所述液栗將清洗液注入所述管體231，流經所述盤管21并由所述噴嘴22噴淋出。所述調節閥232和233用于調節和顯示流經所述管體231的清洗液的液壓，從而使所述蝕刻裝置100的清洗能力可控制。其中，外部的所述液栗可以抽取與所述蝕刻槽I內的蝕刻液相同的蝕刻液，從而避免對所述蝕刻槽I進行清洗時導致二次污染。在本實施方式中，所述進液管23由聚丙烯材料制成，耐蝕性能好，使用壽命長。
[0025]所述卡座24的數量具有多個，多個所述卡座24環繞所述側壁12等間距設置。所述卡座24均具有開口 240，所述盤管21通過所述開口 240卡設固定于所述卡座24。在本實施方式中，所述開口240的直徑等于所述盤管21的直徑，從而將所述盤管21穩固的固定于所述收容空間10內，提高所述蝕刻裝置100的穩固性。
[0026]與相關技術相比，本發明提供的所述蝕刻裝置包括所述蝕刻槽和用于清洗所述蝕刻槽的所述清洗裝置，通過所述清洗裝置的所述盤管將外部清洗液導入至所述噴嘴以噴淋所述側壁，從而有效避免黑色油性污垢積聚在所述蝕刻槽內且持續對所述蝕刻槽進行清洗，具有結構簡單、稼動率高、清洗能力強且不會產生二次污染的優點。
[0027]以上所述僅為本發明的實施例，并非因此限制本發明的專利范圍，凡是利用本發明說明書及附圖內容所作的等效結構或等效流程變換，或直接或間接運用在其它相關的技術領域，均同理包括在本發明的專利保護范圍內。
【主權項】
1.一種蝕刻裝置，其特征在于，包括蝕刻槽及用于清洗所述蝕刻槽的清洗裝置，所述蝕刻槽包括底壁及自所述底壁延伸的側壁，所述底壁與所述側壁圍設形成收容空間，所述清洗裝置包括盤管、間隔設置于所述盤管上的多個噴嘴、與所述盤管連通的進液管及固定于所述側壁的卡座，所述盤管收容于所述收容空間內且環繞所述側壁設置，外部清洗液通過所述盤管導入經所述噴嘴噴出以噴淋所述蝕刻槽，且所述噴嘴朝向所述側壁噴淋以在所述側壁上形成噴淋區域，所述盤管通過所述卡座固定于所述側壁。2.根據權利要求1所述的蝕刻裝置，其特征在于，相鄰兩個所述噴嘴在所述側壁上噴淋形成的所述噴淋區域部分疊加。3.根據權利要求2所述的蝕刻裝置，其特征在于，相鄰兩個所述噴嘴在所述側壁上噴淋形成的疊加的所述噴淋區域的寬度為單個所述噴嘴的所述噴淋區域的寬度的10%。4.根據權利要求1所述的蝕刻裝置，其特征在于，所述噴嘴的噴淋方向與水平面呈15?30°的夾角。5.根據權利要求1所述的蝕刻裝置，其特征在于，所述卡座數量為多個，多個所述卡座環繞所述側壁等間距設置。6.根據權利要求5所述的蝕刻裝置，其特征在于，所述卡座具有開口，所述盤管通過所述開口卡設固定于所述卡座。7.根據權利要求6所述的蝕刻裝置，其特征在于，所述開口的直徑等于所述盤管的直徑。8.根據權利要求1所述的蝕刻裝置，其特征在于，所述噴嘴為扇形噴嘴。9.根據權利要求1所述的蝕刻裝置，其特征在于，所述進液管由聚丙烯材料制成。10.根據權利要求1所述的蝕刻裝置，其特征在于，所述蝕刻槽還包括多個支撐部，多個所述支撐部分別安裝于所述底壁遠離所述側壁的一側。
【文檔編號】C23F1/08GK105970222SQ201610380494
【公開日】2016年9月28日
【申請日】2016年5月31日
【發明人】孟昭光, 周強, 劉福會
【申請人】東莞市五株電子科技有限公司