設置有散熱裝置的磨光機的制作方法
【技術領域】
[0001 ]本發明涉及設置有散熱裝置的磨光機。
【背景技術】
[0002]磨光機是對物體表面進行打磨處理的一種手動電動工具，其通過各種驅動機構使得磨盤持續快速的旋轉，從而打磨物體表面。正是由于磨盤持續快速的旋轉，其與物體表面摩擦后會產生較大的熱量，使得磨盤發燙，發燙的磨盤長時間工作一方面會對磨盤的壽命產生影響，另一方面其摩擦溫度過高會對正在進行打磨的物體表面造成損傷，造成不必要的損失。
【發明內容】
[0003]本發明針對現有技術中的不足，提供了設置有散熱裝置的磨光機，其在使用時自動對磨盤進行散熱，延長磨盤使用壽命，保護被打磨物體免受磨盤溫度過高所造成的損傷。
[0004]為解決上述技術問題，本發明通過下述技術方案得以解決:設置有散熱裝置的磨光機，包括磨盤以及與所述磨盤連接的轉軸，所述轉軸外壁上設置有若干個支撐塊，每個所述支撐塊上均設置有儲水容器，所述儲水容器下側面設置有弧形片，所述弧形片轉動連接在所述支撐塊端部上，所述儲水容器與所述轉軸外壁之間設置有彈簧，所述儲水容器外側面開設有若干個出水小孔，所述儲水容器通過一橡膠軟管與開設在所述轉軸內的冷卻水通道相連，所述冷卻水通道與設置在所述轉軸外壁上的進水漏斗相連，所述進水漏斗側面上設置有支撐桿，所述支撐桿上設置有橡膠棒，在所述儲水容器上方還設置有進水管，所述進水管上設置有出水開關和出水部，所述出水部位于所述進水漏斗上方，所述出水開關位于所述橡膠棒做圓周運動的運動軌跡上，當所述橡膠棒推動所述出水開關后，冷卻水通過所述出水部流入到所述進水漏斗內，所述出水部內開設有梯形空腔，所述梯形空腔內壁上設置有若干檔桿，所述出水部內設置有橫桿，所述橫桿下側面設置有二號彈簧，所述二號彈簧連接有球形氣囊，所述球形氣囊外側壁上設置有與所述檔桿配合的連接桿，所述球形氣囊下側面設置有拉桿。
[0005]使用時，隨著轉軸的旋轉，儲水容器受到離心力的影響，上端往外側偏移，下端沿著支撐塊的端部轉動，彈簧對儲水容器提供拉力，轉軸旋轉的速度越快，儲水容器傾斜的幅度越大，最大時出水方向垂直于磨盤，同時，由于水的重力的影響，儲水容器傾斜幅度越大，其出水速度也就越快，而轉軸旋轉速度越快，磨盤的摩擦溫度也就越高，越需要更多的水來進行散熱，因此，儲水容器隨著磨盤摩擦溫度的升高而自動增加出水量，對其進行冷卻散熱。
[0006]上述技術方案中，優選的，所述出水小孔內設置有與其相匹配的固定塊，所述固定塊外壁上開設有若干弧形凹槽。冷卻水在從出水小孔流出的時候，受弧形凹槽的影響，形成螺旋形水流，使得冷卻水灑的更加均勻，均勻的冷卻磨盤，提升冷卻效果。
[0007]上述技術方案中，優選的，所述弧形凹槽的上開口寬度大于其下開口寬度。冷卻水通過固定塊時，進的量大于出的量，使得冷卻水從下開口流出時，水流更加細膩均勻，便于冷卻水的分散。
[0008]本發明的有益效果是:本發明在使用時自動對磨盤進行散熱，延長磨盤使用壽命，保護被打磨物體免受磨盤溫度過高所造成的損傷。
【附圖說明】
[0009]圖1為本發明截面示意圖。
[0010]圖2為圖1中D處放大示意圖。
[0011 ]圖3為本發明轉軸旋轉時的截面示意圖。
[0012]圖4為本發明儲水容器示意圖。
[0013]圖5為本發明固定塊示意圖。
[0014]圖6為本發明出水部的截面示意圖。
【具體實施方式】
[0015]下面結合附圖與【具體實施方式】對本發明作進一步詳細描述:參見圖1-圖6，設置有散熱裝置的磨光機，包括磨盤I以及與所述磨盤I連接的轉軸2，所述轉軸2外壁上設置有若干個支撐塊3，每個所述支撐塊3上均設置有儲水容器4，所述儲水容器4下側面設置有弧形片41，所述弧形片41轉動連接在所述支撐塊3端部上，所述儲水容器4與所述轉軸2外壁之間設置有彈簧5，所述儲水容器4外側面開設有若干個出水小孔42。
[0016]所述儲水容器4通過一橡膠軟管61與開設在所述轉軸2內的冷卻水通道62相連，所述冷卻水通道62與設置在所述轉軸2外壁上的進水漏斗63相連，所述進水漏斗63側面上設置有支撐桿64，所述支撐桿64上設置有橡膠棒65，橡膠棒為固定化的柔性件，在所述儲水容器4上方還設置有進水管7，所述進水管7上設置有出水開關71和出水部72，所述出水部72位于所述進水漏斗63上方，所述出水開關71位于所述橡膠棒65做圓周運動的運動軌跡上，當所述橡膠棒65推動所述出水開關71后，冷卻水通過所述出水部72流入到所述進水漏斗63內。通過在轉軸旋轉過程中，自動對儲水容器進行加水，不僅能夠避免儲水容器內冷卻水用盡而無法繼續對磨盤進行冷卻散熱，同時，還能夠避免加水量過多導致冷卻水溢出，造成浪費或者使裝置生銹、損傷。
[0017]所述出水部72內開設有梯形空腔721，所述梯形空腔721內壁上設置有若干檔桿722，所述出水部72內設置有橫桿723，所述橫桿723下側面設置有二號彈簧724，所述二號彈簧724連接有球形氣囊725，所述球形氣囊725外側壁上設置有與所述檔桿722配合的連接桿726，所述球形氣囊725下側面設置有拉桿727，出水部72下端開口通過出水開關71控制打開或關閉。球形氣囊與梯形空腔配合，改變球形氣囊的位置也就改變了球形氣囊與出水部內壁之間的間距，通過改變球形氣囊的位置，來改變出水部的出水量，從而使得出水小孔處冷卻水流出的量與進入儲水容器內的冷卻水的量相同，也就是說出水部可以隨著轉軸速度的調整而調整其出水量，避免因出水部的出水量過多導致冷卻水的溢出，溢出的冷卻水流到轉軸或其他工件上，不僅造成浪費，而且長久這樣會使得裝置生銹，減少裝置使用壽命。具體調整操作是通過拉動拉桿來調整球形氣囊的位置，可通過控制拉桿水平移動來將檔桿與連接桿分離，再將拉桿在垂直方向上往上或者往下移動，來調整球形氣囊位置，再通過水平方向上移動，使得對應的檔桿阻擋住連接桿，使球形氣囊位置固定不變。
[0018]所述出水小孔42內設置有與其相匹配的固定塊43，所述固定塊43外壁上開設有若干弧形凹槽44。冷卻水在從出水小孔流出的時候，受弧形凹槽的影響，形成螺旋形水流，使得冷卻水灑的更加均勻，均勻的冷卻磨盤，提升冷卻效果。
[0019]所述弧形凹槽44的上開口441寬度大于其下開口 442寬度。冷卻水通過固定塊時，進的量大于出的量，使得冷卻水從下開口流出時，水流更加細膩均勻，便于冷卻水的分散。
[0020]使用時，隨著轉軸的旋轉，儲水容器受到離心力的影響，上端往外側偏移，下端沿著支撐塊的端部轉動，彈簧對儲水容器提供拉力，轉軸旋轉的速度越快，儲水容器傾斜的幅度越大，最大時出水方向垂直于磨盤，同時，由于水的重力的影響，儲水容器傾斜幅度越大，其出水速度也就越快，而轉軸旋轉速度越快，磨盤的摩擦溫度也就越高，越需要更多的水來進行散熱，因此，儲水容器隨著磨盤摩擦溫度的升高而自動增加出水量，對其進行冷卻散熱。
【主權項】
1.設置有散熱裝置的磨光機，包括磨盤(I)以及與所述磨盤(I)連接的轉軸(2)，其特征在于:所述轉軸(2)外壁上設置有若干個支撐塊(3)，每個所述支撐塊(3)上均設置有儲水容器(4)，所述儲水容器(4)下側面設置有弧形片(41)，所述弧形片(41)轉動連接在所述支撐塊(3)端部上，所述儲水容器(4)與所述轉軸(2)外壁之間設置有彈簧(5)，所述儲水容器(4)外側面開設有若干個出水小孔(42)，所述儲水容器(4)通過一橡膠軟管(61)與開設在所述轉軸(2)內的冷卻水通道(62)相連，所述冷卻水通道(62)與設置在所述轉軸(2)外壁上的進水漏斗(63)相連，所述進水漏斗(63)側面上設置有支撐桿(64)，所述支撐桿(64)上設置有橡膠棒(65)，在所述儲水容器(4)上方還設置有進水管(7)，所述進水管(7)上設置有出水開關(71)和出水部(72)，所述出水部(72)位于所述進水漏斗(63)上方，所述出水開關(71)位于所述橡膠棒(65)做圓周運動的運動軌跡上，當所述橡膠棒(65)推動所述出水開關(71)后，冷卻水通過所述出水部(72)流入到所述進水漏斗(63)內，所述出水部(72)內開設有梯形空腔(721)，所述梯形空腔(721)內壁上設置有若干檔桿(722)，所述出水部(72)內設置有橫桿(723)，所述橫桿(723)下側面設置有二號彈簧(724)，所述二號彈簧(724)連接有球形氣囊(725)，所述球形氣囊(725)外側壁上設置有與所述檔桿(722)配合的連接桿(726)，所述球形氣囊(725)下側面設置有拉桿(727)。2.根據權利要求1所述的設置有散熱裝置的磨光機，其特征在于:所述出水小孔(42)內設置有與其相匹配的固定塊(43)，所述固定塊(43)外壁上開設有若干弧形凹槽(44)。3.根據權利要求2所述的設置有散熱裝置的磨光機，其特征在于:所述弧形凹槽(44)的上開口(441)寬度大于其下開口(442)寬度。
【專利摘要】本發明公開了設置有散熱裝置的磨光機。包括磨盤以及與所述磨盤連接的轉軸，所述轉軸外壁上設置有支撐塊，所述支撐塊上設置有儲水容器，所述儲水容器下側面設置有弧形片，所述弧形片轉動連接在所述支撐塊端部上，所述儲水容器與所述轉軸外壁之間設置有彈簧，所述儲水容器外側面開設有若干個出水小孔，儲水容器通過一橡膠軟管與冷卻水通道相連，冷卻水通道與進水漏斗相連，進水漏斗側面設置支撐桿，支撐桿設置橡膠棒，儲水容器上方設置進水管，進水管上設置出水開關和出水部，出水部位于進水漏斗上方，出水部內設置有調節出水量的球形氣囊。本發明在使用時自動對磨盤進行散熱，延長磨盤使用壽命，保護被打磨物體免受磨盤溫度過高所造成的損傷。
【IPC分類】B24B55/02, B24B23/02
【公開號】CN105598841
【申請號】CN201510988955
【發明人】史波
【申請人】寧波鑫晟工具有限公司
【公開日】2016年5月25日
【申請日】2015年12月28日