一種自動化真空化學鍍設備的制造方法
【專利說明】
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種自動化真空化學鍍設備，尤其涉及一種能夠通過對罐體內部抽真空實現降低鍍液沸點從而使鍍液沸騰產生大量氣泡進行攪拌的化學鍍液設備，并具備自動檢測液位，自動補加純水或鍍液的功能。
【【背景技術】】
[0002]化學鍍鎳等鍍液設備，產生的鍍層由于其具備優異的潤滑、耐腐蝕及高硬度的特性，從而在現代工業中得到極為廣泛的應用。尤其在一些有特殊要求的行業比如光電、石油、造船、航空、醫藥等領域。目前隨著科技的迅猛發展，也對鍍液層品質提出了更高的要求。
[0003]但是現階段國內絕大多數鍍液層的目的用于防腐蝕或裝飾，因此鍍層的厚度正常情況下不超過0.005mm，若再加厚的話就會出現在施鍍過程中鍍液分解、鍍層粗糙有針孔、易剝落等問題，很大程度上限制了該技術的使用范圍。且傳統罐體材質為不銹鋼或者塑料板材，不銹鋼罐體內壁容易析出金屬，每次都要用濃硝酸進行鈍化，不僅效率低還不環保。采用塑料板焊接的罐體不耐高溫，溫度超過90度時會發生明顯的軟化變形，有泄漏鍍液的危險。所以急需一種自動化程度高、性能穩定、并且能夠延長鍍液使用壽命的設備來制備厚度高、孔隙率低、性能優異的鍍層。
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【發明內容】
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[0004]本發明的目的在于克服現有技術的不足，提供一種可以降低鍍液沸點，使鍍液沸騰產生大量氣泡進行攪拌從而降低鍍層孔隙率提高鍍液層壽命，在施鍍前和施鍍后無需進行特殊處理，提高了鍍液效率的自動化真空化學鍍設備。
[0005]本發明的目的是這樣實現的:
[0006]—種自動化真空化學鍍設備，其特征在于其包括不銹鋼密封罐體及蓋合在罐體上的上蓋，所述的罐體內上部設有鍍件懸掛架，所述的罐體內設有電加熱管；所述的罐體連接有純水或鍍液添加裝置，及對罐體進行抽真空的真空發生裝置，及液位檢測裝置；所述的罐體還設有控制器集成面板。
[0007]如上所述的一種自動化真空化學鍍設備，其特征在于所述的罐體內壁設有聚四氟乙如層。
[0008]如上所述的一種自動化真空化學鍍設備，其特征在于所述的罐體與上蓋之間設有硅膠密封圈。
[0009]如上所述的一種自動化真空化學鍍設備，其特征在于所述的純水或鍍液添加裝置包括與罐體連通的輸送管，輸送管上設有電磁閥。
[0010]如上所述的一種自動化真空化學鍍設備，其特征在于所述的電加熱管為盤管。
[0011]本發明的有益效果是:
[0012]1.本發明利用真空發生器或者真空栗對罐體內部進行抽真空，負壓使鍍液沸點降低產生大量氣泡對鍍液進行充分攪拌，避免了傳統的采用壓縮空氣進行攪拌會引入雜質的弊端，所制備的鍍液層孔隙率大幅降低。
[0013]2.本發明使沸點的降低有效的控制了鍍液的溫度，延長了鍍液的使用壽命，原本只能使用2-3個周期的鍍液現在可以使用5個周期左右，再加上可以對鍍液進行補充，更容易實現鍍厚液層。
[0014]3.本發明的罐體采用了不銹鋼材料制成，并在內壁設有加聚四氟乙烯層的結構不僅強度高，且使用方便不需要鈍化處理，解決了傳統罐體使用繁瑣易污染鍍液的難題。
[0015]4.高度的智能化，能夠自動對液位進行檢測和補充，易于實現規模化生產。
【【附圖說明】】
[0016]圖1是本發明的原理結構示意圖。
【【具體實施方式】】
[0017]一種自動化真空化學鍍設備，其包括不銹鋼密封罐體1及蓋合在罐體上的上蓋2，罐體1由不銹鋼材料進行沖壓或焊接工藝進行拼裝成型，所述的罐體1內上部設有鍍件懸掛架3，所述的罐體內設有電加熱管4 ;所述的罐體1連接有純水或鍍液添加裝置6，及對罐體進行抽真空的真空發生裝置7，真空發生裝置7可以是真空栗，也可以是真空發生器，通過PVC-U型塑料管與罐體1內部連接，真空發生裝置優選帶有壓力計的真空發生器配合壓縮空氣制造真空。因為從罐體1中所抽出的氣體為高溫高濕有腐蝕性的氣體，會降低真空栗的壽命，且真空發生器抽出的氣體易于收集方便后期進行無害化處理。
[0018]罐體1還設有液位檢測裝置8，液位檢測裝置8可以是電容式液位傳感器，其設置在不銹鋼罐體1的上方，能夠在負壓、高溫、腐蝕性環境中準確測量液位高度。
[0019]罐體1還設有控制器集成面板9，控制器集成面板9與控制純水或鍍液添加裝置6，液位檢測裝置8和真空發生裝置7連接，使控制器集成面板9可以設定罐體1內的液位高度，罐體1的真空度和鍍液溫度，鍍液溫度必須和罐體1真空度相對應，即設定溫度等于或高于在所設定真空度條件下鍍液沸點1攝氏度。
[0020]罐體1內壁設有聚四氟乙烯層10，聚四氟乙烯層10是將聚四氟乙烯原材料通過專用設備熱熔后噴涂到已經成型的不銹鋼罐體1內部避免鍍液直接與不銹鋼罐體1接觸，解決了傳統罐體使用繁瑣易污染鍍液的難題。
[0021]罐體與上蓋之間設有硅膠密封圈，上蓋自重加上外部大氣壓的壓力，上蓋可以不借助任何螺絲或卡扣的固定就能實現密封的效果。
[0022]純水或鍍液添加裝置6包括與罐體連通的輸送管61，輸送管61上設有電磁閥62。只需將裝有鍍液或純水的水箱與罐體上面的加液預留口連接即可，因為罐體內為負壓，所以需要添加的純水會在電子閥打開后自動吸入罐體內，簡單快捷。
[0023]本發明的電加熱管為盤管，并在盤管表面設有聚四氟乙烯層，避免鍍液直接與電加熱管接觸，解決了易污染鍍液的難題。
[0024]本發明在使用時只用將處理好的工件固定在鍍件懸掛架3上，通過控制器集成面板9設定好液位高度，罐體1真空度，和鍍液溫度，鍍液溫度必須和罐體1真空度相對應，即設定溫度等于或高于在所設定真空度條件下鍍液沸點1攝氏度。待鍍液溫度達到設定值后開啟真空發生裝置7，罐體1內部開始抽真空，由于負壓作用只用將掛有工件的上蓋2放到罐體1上方即可實現對罐體1進行密封。將裝有鍍液或者純水的容器通過PE塑料管與電磁閥62下方的預留連接口連接即可實現自動補充。待工件完成鍍層后只用關閉真空發生裝置7，上蓋自動打開可以實現高效的裝夾。
[0025]本發明可以用于鍍鎳，鍍鉻，鍍銅，鍍金，鍍銀，也可用于制備其他金屬或金屬化合物。
【主權項】
1.一種自動化真空化學鍍設備，其特征在于其包括不銹鋼密封罐體(1)及蓋合在罐體上的上蓋(2)，所述的罐體(1)內上部設有鍍件懸掛架(3)，所述的罐體內設有電加熱管(4);所述的罐體(1)連接有純水或鍍液添加裝置￠)，及對罐體進行抽真空的真空發生裝置(7)，及液位檢測裝置(8);所述的罐體(1)還設有控制器集成面板(9)。2.根據權利要求1所述的一種自動化真空化學鍍設備，其特征在于所述的罐體(1)內壁設有聚四氟乙烯層(10)。3.根據權利要求1所述的一種自動化真空化學鍍設備，其特征在于所述的罐體與上蓋之間設有硅膠密封圈。4.根據權利要求1所述的一種自動化真空化學鍍設備，其特征在于所述的純水或鍍液添加裝置(6)包括與罐體連通的輸送管(61)，輸送管￠1)上設有電磁閥(62)。5.根據權利要求1所述的一種自動化真空化學鍍設備，其特征在于所述的電加熱管為盤管。
【專利摘要】本發明公開了一種自動化真空化學鍍設備，其包括不銹鋼密封罐體及蓋合在罐體上的上蓋，罐體內上部設有鍍件懸掛架，罐體內設有電加熱管；罐體連接有純水或鍍液添加裝置，及對罐體進行抽真空的真空發生裝置，及液位檢測裝置；罐體還設有控制器集成面板。本發明利用真空發生器對罐體內部進行抽真空，負壓使鍍液沸點降低產生大量氣泡對鍍液進行充分攪拌，避免了傳統的采用壓縮空氣進行攪拌會引入雜質的弊端，所制備的鍍液層孔隙率大幅降低。本發明使沸點的降低有效的控制了鍍液的溫度，延長了鍍液的使用壽命，原本只能使用2-3個周期的鍍液現在可以使用5個周期左右，再加上可以對鍍液進行補充，更容易實現鍍厚液層。
【IPC分類】C23C18/16
【公開號】CN105420697
【申請號】CN201510942751
【發明人】謝燕宇, 宋麗華, 李映強, 陳遠財, 黃青, 謝燕均, 彭同山, 鄭文龍, 張鴻宇, 謝晉國, 王世勇
【申請人】中山聯合光電科技股份有限公司
【公開日】2016年3月23日
【申請日】2015年12月16日