一種有機蒸鍍mask的清洗工藝的制作方法
【技術領域】
[0001]本發明屬于OLED加工領域，具體涉及一種有機蒸鍍MASK的清洗工藝。
【背景技術】
[0002]目前，有機蒸鍍MASK是有機發光器件制造工藝中所必須使用的工裝。加工中，一般采用SUS304TA薄板材料通過刻蝕制作圖形孔，再用激光焊接固定在不易變形的方形或圓形框架上。
[0003]現有技術中，有機鍍膜過程是將有機材料熱蒸發形成有機蒸汽，有機蒸氣通過MASK上的圖形孔，理論上可在基底上沉積與圖形孔形狀一致的有機膜層。有機熱蒸汽同時也會沉積在MASK上，逐漸改變圖形孔形狀，甚至堵塞圖形孔。所以必須定期清洗有機蒸鍍MASK。因此提供一種防堵塞、MASK可以反復使用，同時也保證了再次使用MASK的鍍膜精確性能的有機蒸鍍MASK的清洗工藝，成為目前OLED加工領域中刻不容緩的事情。
【發明內容】
[0004]為此，本發明所要解決的技術問題在于克服現有技術有機蒸鍍MASK容易沉積塞孔的、圖形容易變形的技術瓶頸，從而提出提供一種防堵塞、MASK可以反復使用，同時也保證了再次使用MASK的鍍膜精確性能的有機蒸鍍MASK的清洗工藝。
[0005]為解決上述技術問題，本發明的技術方案為:
[0006]本發明公開了一種有機蒸鍍MASK的清洗工藝，所述工藝包括如下步驟:
[0007]將有機蒸鍍MASK框架固定在清洗架上，放入N-甲基吡咯烷酮液體中，流動循環加熱浸泡后，取出MASK框架，然后用去混有異丙醇的去離子水浸泡并進行兆聲清洗，最后進行去離子水沖洗。
[0008]優選的，所述的有機蒸鍍MASK的清洗工藝，其中，所述有機蒸鍍MASK框架是通過有機MASK四周固定框上的預制螺孔將其與清洗架用特氟龍螺栓連接的。
[0009]更為優選的，所述的有機蒸鍍MASK的清洗工藝，其中，所述清洗架為特氟龍材質。
[0010]優選的，所述的有機蒸鍍MASK的清洗工藝，其中，所述流動循環加熱浸泡的加熱溫度為60°C。
[0011]更為優選的，所述的有機蒸鍍MASK的清洗工藝，其中，所述流動循環加熱浸泡的浸泡時間30分鐘。
[0012]進步一步的，所述的有機蒸鍍MASK的清洗工藝，其中，所述混有異丙醇的去離子中，去離子水和異丙醇的體積比例10:1。
[0013]更為進一步的，所述的有機蒸鍍MASK的清洗工藝，其中，所述兆聲清洗的兆聲頻率850KHz。
[0014]優選的，所述的有機蒸鍍MASK的清洗工藝，其中，所述兆聲清洗的清洗時間2min。
[0015]更為優選的，所述的有機蒸鍍MASK的清洗工藝，其中，所述去離子水沖洗后還需對所述有機蒸鍍MASK框架進行氮氣保護烘干。
[0016]本發明的上述技術方案相比現有技術具有以下優點，本發明主要在于通過化學溶解和物理振動清洗的方式去除OLED蒸鍍MASK上的有機工藝殘留物，可避免整個清洗過程中MASK直接與其它固體接觸造成損壞，在清洗過程中不會影響MASK的精細結構，使得MASK可以反復使用，同時也保證了再次使用MASK的鍍膜精確性能。使用兆聲波清洗不僅保存了超聲清洗的優點，還能夠去除0.1微米級的固體附著顆粒，具有極大的市場價值和應用前景。
【具體實施方式】
[0017]實施例
[0018]本實施例公開了一種有機蒸鍍MASK的清洗工藝，所述工藝包括如下步驟:
[0019]1.MASK裝架:通過有機MASK四周固定框上的預制螺孔將其與特氟龍清洗架用特氟龍螺栓連接，將有機蒸鍍MASK框架固定在特氟龍材質的清洗架上，可避免整個清洗過程中MASK直接與其它固體接觸造成損壞。
[0020]2.加熱溶劑浸泡:清洗架連同有機MASK放入N-甲基吡咯烷酮液體中，將溶液流動循環加熱到60°C，浸泡時間30分鐘。N-甲基吡咯烷酮為無色透明液體，沸點203°C，閃點95°C，能與水混溶，溶于乙醚，丙酮，化學性能穩定，對鋼、鋁不腐蝕。具有粘度低，化學穩定性和熱穩定性好，極性高，揮發性低，能與水及許多有機溶劑無限混溶。
[0021]3.兆聲化學清洗:清洗架連同有機MASK—起放入兆聲清洗機，用去離子水加異丙醇浸泡進行兆聲清洗，溶劑體積比例10:1，兆聲頻率8501(取，清洗時間2min。兆聲波清洗不僅保存了超聲清洗的優點，能夠去除0.1微米級的固體附著顆粒，由高頻振效應并結合化學清洗劑的化學反應對MASK進行清洗。
[0022]4.沖洗烘干:清洗架連同有機MASK —起放入清洗濕臺，用去離子水沖洗I分鐘，并用高壓潔凈氮氣吹干，最后放入氮氣保護烘箱，70°C烘烤Ih。
[0023]顯然，上述實施例僅僅是為清楚地說明所作的舉例，而并非對實施方式的限定。對于所屬領域的普通技術人員來說，在上述說明的基礎上還可以做出其它不同形式的變化或變動。這里無需也無法對所有的實施方式予以窮舉。而由此所引伸出的顯而易見的變化或變動仍處于本發明創造的保護范圍之中。
【主權項】
1.一種有機蒸鍍MASK的清洗工藝，其特征在于，所述工藝包括如下步驟: 將有機蒸鍍MASK框架固定在清洗架上，放入N-甲基吡咯烷酮液體中，流動循環加熱浸泡后，取出MASK框架，然后用去混有異丙醇的去離子水浸泡并進行兆聲清洗，最后進行去離子水沖洗。2.如權利要求1所述的有機蒸鍍MASK的清洗工藝，其特征在于，所述有機蒸鍍MASK框架是通過有機MASK四周固定框上的預制螺孔將其與清洗架用特氟龍螺栓連接的。3.如權利要求2所述的有機蒸鍍MASK的清洗工藝，其特征在于，所述清洗架為特氟龍材質。4.如權利要求3所述的有機蒸鍍MASK的清洗工藝，其特征在于，所述流動循環加熱浸泡的加熱溫度為60°C。5.如權利要求4所述的有機蒸鍍MASK的清洗工藝，其特征在于，所述流動循環加熱浸泡的浸泡時間30分鐘。6.如權利要求5所述的有機蒸鍍MASK的清洗工藝，其特征在于，所述混有異丙醇的去離子中，去離子水和異丙醇的體積比例10:1。7.如權利要求6所述的有機蒸鍍MASK的清洗工藝，其特征在于，所述兆聲清洗的兆聲頻率 850KHz。8.如權利要求7所述的有機蒸鍍MASK的清洗工藝，其特征在于，所述兆聲清洗的清洗時間2min。9.如權利要求1-8任一項所述的有機蒸鍍MASK的清洗工藝，其特征在于，所述去離子水沖洗后還需對所述有機蒸鍍MASK框架進行氮氣保護烘干。
【專利摘要】本發明屬于OLED加工領域，具體涉及一種有機蒸鍍MASK的清洗工藝。本發明所述工藝將有機蒸鍍MASK框架固定在清洗架上，放入N-甲基吡咯烷酮液體中，流動循環加熱浸泡后，取出MASK框架，然后用去混有異丙醇的去離子水浸泡并進行兆聲清洗，最后進行去離子水沖洗。通過化學溶解和物理振動清洗的方式去除OLED蒸鍍MASK上的有機工藝殘留物，在清洗過程中不會影響MASK的精細結構，使得MASK可以反復使用，同時也保證了再次使用MASK的鍍膜精確性能，具有極大的市場價值和應用前景。
【IPC分類】C23C14/04
【公開號】CN105154821
【申請號】CN201510464112
【發明人】譚高杰
【申請人】深圳市星火輝煌系統工程有限公司
【公開日】2015年12月16日
【申請日】2015年7月31日