專利名稱：回轉式平面研磨機的制作方法
技術領域：
本實用新型屬于研磨設備，主要涉及回轉式行星擺動的平面研磨裝置。
現有技術對閥門、閥板或閥芯密封面的研磨，主要是采用低頻振動式，行星多盤轉動式兩種研磨機，這兩種機械均存在機構復雜、生產效率低、勞動強度大、以及使用一段時間后研磨精度下降等問題。
本實用新型的目的是提供一種結構簡單、運動平穩、研磨精度高、研磨自修正、勞動強度低、生產效率高的回轉式平面研磨機。
本實用新型是由機架、底盤、固定在機架上的電機、變速箱、聯接盤及聯接盤支撐的研磨平盤組成，滾輪架固定在底盤上，修磨環放置在研磨平盤上，修磨環的側面有滾輪架支撐。
滾輪架與修磨環接觸面的滾輪架上安裝有滾動體。底盤上可固定沿圓周均勻布置的2個以上的滾輪架及與其對應的放置在研磨平盤上的修磨環。
本實用新型具有結構簡單、運轉平穩，由于修磨環靠自重放置在研磨平盤上，因此研磨平盤能夠實現自修正，且工件放取方便。可廣泛用于閥門、閥板、閥芯密封面及其他平面要求精度較高的研磨等，生產效率高、勞動強度底。
以下結合附圖對本實用新型作進一步說明。
圖1是本實用新型結構示意圖。
圖2是本實用新型的俯視圖。
圖中1機架、2排液管、3底盤、4滾輪架、5變速箱、6聯接盤、7研磨平盤、8排液導管、9電機、10修磨環當固定在機架1上的電機9接通電源后，通過皮帶和皮帶輪帶動與變速箱5同軸連接的聯接盤6旋轉，由于研磨平盤7由聯接盤6支撐，所以研磨平盤7隨之旋轉。滾輪架4固定在底盤3上，修磨環10放置在研磨平盤上，一側由滾輪架4支撐，因為研磨平盤7的轉動，使修磨環10與之形成無規則相對運動。把需研磨的工件放入修磨環10內，需研磨工件表面與研磨平盤7間的無規則相對運動，把工件表面研磨達到要求。研磨時加入的研磨液通過排液導管8和排液管2流出，經處理后回收利用。由于修磨環10與研磨平盤7間的無規則相對運動，可保證研磨平盤表面平整，以保證研磨工件的精度。
權利要求1.一種回轉式平面研磨機，包括機架(1)、底盤(3)、電機(9)變速箱(5)固定在機架(1)上，聯接盤(6)支撐研磨平盤(7)，變速箱(5)通過主軸與聯接盤(6)和研磨平盤(7)相連，其特征在于滾輪架(4)固定在底盤3上，修磨環(10)放置在研磨平盤(7)上，其側面有滾輪架(4)支撐。
2.根據權利要求1所述的回轉式平面研磨機，其特征在于滾輪架(4)與修磨環(10)接觸面的滾輪架(4)上安裝有滾動體。
3.根據權利要求1所述的回轉式平面研磨機，其特征在于底盤(3)上可固定沿圓周均勻布置的2個以上的滾輪架(4)及與其對應的放置在研磨平盤(7)上的修磨環(10)。
專利摘要本實用新型主要涉及回轉式行星擺動的平面研磨裝置。其是由機架、底盤、固定在機架上的電機、變速箱、聯接盤、和聯接盤支撐的研磨平盤組成，滾輪架固定在底盤上，修磨環放置在研磨平盤上，修磨環的側面有滾輪架支撐。本實用新型結構簡單，運轉平穩，研磨平盤能夠實現自修正，工件取放方便，生產效率高，可廣泛用于閥門的閥板、閥芯密封面等平面要求精度高的研磨等。
文檔編號B24B37/07GK2243956SQ9523549
公開日1997年1月1日 申請日期1995年12月29日 優先權日1995年12月29日
發明者孫啟峰 申請人:孫啟峰