專利名稱：搪玻璃制品瓷釉層局部缺陷的修補方法及加熱設備的制作方法
技術領域：
本發明涉及搪玻璃制品的生產工藝及設備。
搪玻璃制品，如搪玻璃反應罐，對瓷釉層要求較高，即使是幾千升的大容量反應罐，也不允許瓷釉層出現針孔的導電點。在生產過程中，一旦發現有小如針孔的瓷釉層缺陷，都要進行修補和回燒，目前的方法是先對缺陷處清潔，如打磨除銹，再用瓷釉修補，如噴涂瓷釉，最后將制品再置于高溫燒成窯中重新燒成。用這種方法修補很小的缺陷，不但能源消耗大，修補工作量大，而且在瓷釉層的再次高溫加熱時，會出現新的缺陷，往往需要反復修補燒成，這樣會使制品質量下降，影響使用壽命。
本發明的目的是提出一種對搪玻璃制品，特別象搪玻璃反應鍋等大件產品，瓷釉層局部缺陷的新的修補方法，及適合于這種方法的加熱設備。這種修補方法，不需將整件制品置于燒成窯中重燒，只對制品修補部位，局部加熱，從而克服了現有技術能耗高，工效低、質量差的缺點。
本發明是這樣構思的。象搪玻璃反應罐這樣龐大的設備在出現了局部缺陷時，整件重燒，實在勞民傷財，是很大的浪費。可否只對缺陷部位進行修燒呢？眾所周知，局部高溫修燒，將導致應力集中，使瓷層產生大量的裂紋，冷爆。因此局部修燒的關鍵是如何使高溫燒成時的應力得到有效釋放。經試驗，本發明在這方面有了重大突破。其關鍵是將一步燒成分為二步燒成，即先對包括修補部位的一個較大范圍，用較低的溫度，如500～600℃加熱，再對修補部位所在的較小區域用850～950℃的高溫燒成。
該范圍應考慮使制品在受熱膨脹和降溫收縮時的應力得以釋放，可為包括修補部位的一個橫的環形區，或一個縱的帶形區，或頂部整個橢球面區。例如當修補部位在制品的圓柱面上時，其低溫加熱區可以為一個橫向圓環，如一次有一個以上修補部位時，該圓環允許不在同一截面上，而有高低起伏，從而對幾個修補點一次完成加熱，但加熱環應連續且應封閉，應力才能有效釋放;當修補部位在制品封頭部位的橢球面上時，可對整個封頭部位的橢球面加熱。當修補部位在任何位置時，都可采用帶形區加熱法，即對自制品頂端封頭中心，經過修補部位至制品下部邊緣的帶形區加熱，這樣也能使應力得以釋放。在使用本發明所述的方法時，其低溫加熱與高溫燒成的發熱源可以都置于制品的內腔，對內壁加熱、燒成，或都置于制品外壁，對外壁加熱、燒成，也可以低溫加熱在外，高溫燒成在內，或者低溫加熱在內，高溫燒成在外。這可以視制品的情況，如在修補開式反應罐時，可以使用內加熱、外保溫法，在修補閉式反應罐時，則使用外加熱法比較方便。
在使用本發明的修補方法時，原來的燒成窯已不適用，必須使用相應的加熱設備。所述加熱設備分為低溫加熱爐與高溫燒成爐兩種。低溫加熱爐由若干個發熱單元依次排列并聯而成，并配有測溫元件與控溫裝置，其溫度在400～700℃范圍內可控，發熱單元包括耐火材料的爐體，置于爐體上的發熱元件，如電熱絲，爐體背面(相對于發熱面)設有保溫層。使用這種組合式低溫加熱爐可根據產品的不同規格、型號、形狀和修補部位進行組合，從而使用比較方便。高溫燒成爐的結構與發熱單元相似，包括爐體、發熱元件、保溫層，還有測溫元件和控溫裝置，溫度在800～1000℃范圍內可控，其發熱面是呈凹或凸的圓弧形，以適應燒成的形狀，提高熱效率。
本發明的效果十分明顯，由于不需要將成噸重的整件制品重燒，而降低了能耗，提高了工效，也提高了產品質量，降低了產品成本，提高了效益。
下面結合附圖與實施例對本發明作進一步的描述。
圖1是內腔加熱式圓環形低溫加熱組合爐與燒成爐。
圖2是圖1的俯視圖;
圖3是發熱單元示意圖;
圖4是外壁式高溫燒成爐;
圖5是高低起伏式圓環形低溫加熱爐示意圖;
圖6是外壁加熱式圓環形低溫加熱組合爐與燒成爐與燒成爐;
圖7是圖6的俯視圖;
圖8是內腔加熱式縱向條形低溫加熱組合爐和外壁加熱式縱向條形低溫加熱組合爐;
圖9是內腔加熱式橢球面低溫加熱爐;
圖10是外壁加熱式橢球面低溫加熱爐與燒成爐。
實施例1對于開式反應罐的修補可以采用內腔加熱式圓環形低溫組合爐，如圖1，圖2，其高溫燒成爐可用內腔加熱式，亦可用外壁加熱式。低溫加熱組合爐1置于開式反應罐2內腔，由若干個發熱單元3排列并聯而成，組成一個橫向的圓環。在組合爐的上下側，均設環狀保溫層帶4，以提高熱效率。圖3中發熱單元3由爐體8，電熱絲9和保溫層10組成。組合爐配有測溫熱電偶5與控溫裝置。
圖4中的高溫燒成爐6與低溫組合爐中的發熱單元3相似，由爐體，發熱元件電熱絲與保溫層組成，亦配有熱電偶與控溫裝置。但其爐體的發熱面隨其位置做成凹或凸的圓弧形，以提高熱效率。燒成爐四周亦設有保溫層7。
圖5是當缺陷不止一處且不在同一截面時，低溫組合爐的發熱單元3可以根據缺陷位置在一定范圍內高低起伏，但加熱帶應連續封閉。
圖6、圖7是外壁加熱式圓環形低溫加熱組合爐及內腔加熱式燒成爐。當修補閉式反應鍋時，可以采用這種形式。
實施例2修補部位在任何位置，均可用縱向條形組合爐加熱。圖8中左面是內腔加熱式，右面是外壁加熱式。當缺陷不止一處且不在同一縱切面時，允許發熱單所組成的帶形區根據缺陷位置在一定范圍內彎曲，但加熱帶應連續。
實施例3當缺陷處于封頭的橢球面上時，可以使用如圖9、圖10所示的橢球面組合爐加熱。加熱爐可以在內腔加熱(適合于開式反應鍋)，也可以在外壁加熱(適合于閉式反應鍋)。
總之，使用這種組合式加熱爐與燒成爐，可以根據各種規格型號的制品的形狀和特點和生產條件任意組合，從而使施工最方便，效果最佳。
權利要求
1.一種搪玻璃制品瓷釉層局部缺陷的修補方法，包括對缺陷處清潔、瓷釉修補與燒成工序，其特征在于其燒成工序分為低溫加熱與高溫燒成二步即先對包括修補部位并能使制品局部受熱膨脹時所產生的應力得以釋放的一個較大的范圍，如環形區、帶形區或球面形區，用較低的溫度加熱，其溫度約500～600℃；再對修補部位所在較小的區域高溫燒成，其溫度約850～950℃。
2.根據權利要求1所述的修補方法，其特征在于當修補部位在制品的圓柱面上時，其低溫加熱范圍為一個包括修補部位的橫向圓環，所述圓環允許有高低起伏，但應連續封閉;當修補部位在制品封頭部位的橢球面上時，加熱范圍為封頭部位的橢球面。
3.根據權利要求1所述的修補方法，其特征在于無論修補部位在任何位置，其低溫加熱范圍均為自制品頂端封頭中心經過修補部位至制品下部邊緣的帶形區，所述帶形允許彎曲，但應連續。
4.根據權利要求1、2或3所述的修補方法，其特征在于所述低溫加熱與高溫燒成的發熱源可同置于制品的內胺或外壁，亦可低溫加熱在外，高溫燒成在內，或者低溫加熱在內，高溫燒成在外。
5.根據權利要求1所述修補方法的加熱設備，其特征在于所述低溫加熱爐由若干個發熱單元根據制品的規格、型號、形狀等特點組合而成，各發熱單元依次排列、并聯，并配有測溫元件與控溫裝置，其溫度在400～700℃范圍內可控;發熱單元由爐體，置于爐體上的發熱元件，如電熱絲及背面(相對于發熱面)的保溫層構成;高溫燒成爐結構與發熱單元相似，包括爐體、包括爐體、發熱元件、保溫層，亦配有測溫元件與控溫裝置，其溫度在800～1000℃范圍內可控。
6.根據權利要求5所述的加熱設備，其特征在于所述低溫加熱組合爐的各發熱單元排列成圓環形，所述圓環可置于制品內腔，發熱面向外;也可以置于外壁，發熱面向內;各發熱單元排列時允許有高低起伏，不處于同一橫截面上。
7.根據權利要求5所述的加熱設備，其特征在于所述低溫加熱爐的各發熱單元排列成橢球面，可以置于制品內腔，發熱面呈凸球面，亦可置于外壁，發熱面呈凹球面。
8.根據權利要求5所述的加熱設備，其特征在于所述低溫加熱爐的各發熱單元自上而下排列成帶形，可置于內腔，發熱面向外，也可置于外壁，發熱面向里。
全文摘要
本發明提出了一種搪玻璃制品瓷釉層局部缺陷的修補方法及使用該方法時的加熱設備，其特征在于修補時將燒成工序分為低溫加熱與高溫燒成二個工步，即先對修補部位所在的較大范圍低溫加熱，使熱應力獲得有效釋放，再對較小范圍高溫燒成。低溫加熱時采用環形、帶形或橢球面組合爐，燒成時采用高溫燒成爐，低溫加熱爐由若干個發熱單元排列并聯而成，每個發熱單元均包括爐體、電熱絲、保溫層。使用這種修補方法能耗低，工效高，質量好、勞動強度低。
文檔編號C23D13/02GK1078753SQ9210843
公開日1993年11月24日 申請日期1992年5月19日 優先權日1992年5月19日
發明者朱文華 申請人:朱文華