蒸鍍裝置的制作方法

本發明涉及使來自真空蒸鍍源的蒸鍍材料蒸鍍于配置于基板保持器的基板的蒸鍍裝置。

背景技術：

1、已知一種蒸鍍裝置，其使蒸鍍材料蒸鍍于基板而成膜，從而在基板上形成規定的膜，作為在三維基板上沉積功能性多層膜的方法，提出了一種行星轉子機構。

2、在這樣的蒸鍍裝置中，要求增加每一批的基板搭載數量。

3、作為這樣的蒸鍍裝置，提出了如下方案：在真空室內設置基板保持器(行星轉子)，該基板保持器一邊公轉一邊在其公轉軌道上通過行星齒輪、傳動帶等自轉單元自轉，在該基板保持器上設置多個基板，一邊使基板保持器自轉/公轉，一邊將由真空蒸鍍源加熱汽化的蒸鍍材料沉積在基板上而成膜(例如，參照文獻1、文獻2)。

4、現有技術文獻

5、專利文獻

6、專利文獻1：日本特開2017－110260號公報

7、專利文獻2：wo2022/040240號公報

8、在這樣的現有的蒸鍍裝置中，為了提升運轉效率并提高生產率，存在想要增加每一批的基板裝載數量的需求。

9、為了滿足該需求，可以想到增大設置基板的基板保持器的尺寸、增加基板保持器的數量等對策。

10、然而，若增大基板保持器的尺寸或增加基板保持器的數量，則會出現以下那樣的技術問題。

11、若增大基板保持器的尺寸，則為了確保膜厚的均勻性，必須延長基板保持器與蒸鍍源的距離，導致蒸鍍速度降低，腔室也必須構成得較高且較大。

12、若增大基板保持器的尺寸，則基板保持器的重量會變大，因此基板保持器的旋轉部的軸承、驅動部的消耗加劇，容易發生故障。

13、若增加基板保持器的數量，則基板保持器的旋轉機構會變得更復雜，容易發生故障。

14、若增大基板保持器的尺寸而重量增加，則會有在基板保持器的驅動部產生的磨耗粉末混入膜中的風險。

15、若增大基板保持器的尺寸，則原料原子會以大角度斜入射，在膜形成中容易產生成為被遮住的部分，膜厚會變得不均勻而形成島狀結構。由此，相鄰的島彼此合并時會產生拉伸應力，難以制作壓縮應力的膜。

技術實現思路

1、本發明是著眼于如上所述的現有的問題點而完成的，其目的在于，得到能在增加基板保持器的基板搭載數量的同時提高蒸鍍速度，并能實現更高的生產率的蒸鍍裝置。

2、本發明的其他目的在于，得到能在確保膜厚的均勻性的同時實現成膜速度高的成膜處理的蒸鍍裝置。

3、為了實現所述目的，本發明的蒸鍍裝置的特征在于，具有：真空室，其內部能減壓至規定的壓力；一個圓形的基板保持器，旋轉自如地設于所述真空室內；多個基板，保持于所述基板保持器的下表面；以及多個真空蒸鍍源，噴出蒸鍍材料的蒸氣，所述基板保持器設為以所述基板的膜形成面朝向所述真空蒸鍍源的噴出蒸鍍材料的蒸氣的方向的方式保持所述多個基板，所述基板保持器以所述多個基板與所述真空蒸鍍源的距離和角度相對于各個所述真空蒸鍍源成為最佳的方式保持所述基板。

4、本發明的其他特征在于，蒸鍍裝置具有：真空室，其內部能減壓至規定的壓力；一個圓形的基板保持器，經由保持器支承部旋轉自如地設于所述真空室內，在成膜處理中，該基板保持器由驅動馬達旋轉驅動；多個基板，保持于所述基板保持器的下表面；以及多個真空蒸鍍源，噴出蒸鍍材料的蒸氣，所述基板保持器的朝向各個所述真空蒸鍍源的下表面呈凹狀，在該下表面排列設置有所述多個基板，在所述基板保持器以單獨地載置各個所述多個基板的方式設有獨立的多個基板載置部，考慮到所述蒸鍍材料的蒸氣的飛翔分布，在所述基板載置部以使所述多個基板與所述真空蒸鍍源的距離和角度相對于各個所述真空蒸鍍源成為最佳的方式保持所述基板。

5、發明效果

6、根據本發明，通過縮短基板保持器與蒸鍍源的距離，能在增加基板保持器的基板搭載數量的同時提高蒸鍍速度，并能實現更高的生產率。

7、而且，根據本發明，能在確保膜厚的均勻性的同時實現成膜速度高的成膜處理。

技術特征：

1.一種蒸鍍裝置，其特征在于，具有：

2.根據權利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于，

3.根據權利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于，

4.根據權利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于，

5.根據權利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于，

6.根據權利要求1至5中任一項所述的蒸鍍裝置，其特征在于，

7.根據權利要求6所述的蒸鍍裝置，其特征在于，

8.根據權利要求7所述的蒸鍍裝置，其特征在于，

9.一種蒸鍍裝置，其特征在于，具有：

技術總結
本發明提供一種蒸鍍裝置，能在增加基板保持器的基板搭載數量的同時提高蒸鍍速度，能實現更高的生產率，并且能在確保膜厚的均勻性的同時實現成膜速度高的成膜處理。蒸鍍裝置具有：真空室，其內部能減壓至規定的壓力；一個圓形的基板保持器，旋轉自如地設于真空室內；多個基板，保持于基板保持器的下表面；以及多個真空蒸鍍源，噴出蒸鍍材料的蒸氣，基板保持器設為以基板的膜形成面朝向真空蒸鍍源的噴出蒸鍍材料的蒸氣的方向的方式保持多個基板，基板保持器采用如下構成：以多個基板與真空蒸鍍源的距離和角度相對于各個真空蒸鍍源成為最佳的方式保持基板。

技術研發人員：黃新偉,吳博尋
受保護的技術使用者：光馳股份有限公司
技術研發日：
技術公布日：2024/10/21