一種均勻性的多弧離子鍍膜設備的制造方法
【專利摘要】本實用新型涉及一種均勻性的多弧離子鍍膜設備，包括多弧靶、真空室、設置在真空室內的路軌和架體；所述的架體上設有支撐件、中心軸、回轉盤；用于支撐架體的支撐件移動式地安裝在路軌上，回轉盤套裝在中心軸上，回轉盤上設有相對回轉盤轉動的自轉軸，自轉軸上設有夾具，安裝在真空室上的多弧靶朝向夾具。鍍膜設備還包括直線驅動機構，真空室上設有第二密封裝置，所述的直線驅動機構穿過第二密封裝置與架體相接。所述的液壓缸穿過第二密封裝置連接在伸出臂上，液壓缸的活塞桿的端部設有用于抓緊伸出臂的抓爪。本實用新型能實現工件鍍膜均勻度的修正，提高了產品整體的品質，屬于真空鍍膜的技術領域。
【專利說明】
一種均勻性的多弧離子鍍膜設備
技術領域
[0001]本實用新型涉及鍍膜的技術領域，尤其涉及一種均勻性的多弧離子鍍膜設備。
【背景技術】
[0002]現有技術的鍍膜方法和設備，采用多個多弧靶為分組排列，多弧靶的靶材與靶材之間錯位安裝，有一定距離，導致多弧靶的靶材正對工件的位置比旁邊位置的工件膜層的厚度不一致，且厚度差距較大，即使采用工件偏壓來增強厚度的均勻性，但實際效果不理想，只能采用由多弧靶鍍膜打底的方式，再采用磁控濺射靶來鍍膜，從而確保均勻度，但這樣導致生產效率低，生產成本高，產品市場的競爭力不強。
【實用新型內容】
[0003]針對現有技術中存在的技術問題，本實用新型的目的是:提供一種均勻性的多弧離子鍍膜設備，能實現工件鍍膜均勻度的修正，提高了產品整體的品質。
[0004]為了達到上述目的，本實用新型采用如下技術方案:
[0005]—種均勻性的多弧離子鍍膜設備，包括多弧靶、真空室、設置在真空室內的路軌和架體;所述的架體上設有支撐件、中心軸、回轉盤;用于支撐架體的支撐件移動式地安裝在路軌上，回轉盤套裝在中心軸上，回轉盤上設有相對回轉盤轉動的自轉軸，自轉軸上設有夾具，安裝在真空室上的多弧靶朝向夾具。在回轉盤的轉動、自轉軸相對回轉盤的轉動、架體的前后移動，這三種運動使得多弧靶能對夾具上的工件進行均勻地鍍膜，且工件上鍍的膜層均勻性好。
[0006]進一步的是:鍍膜設備還包括直線驅動機構，真空室上設有第二密封裝置，所述的直線驅動機構穿過第二密封裝置與架體相接。可讓架體沿著路軌前后移動。
[0007]進一步的是:所述的直線驅動機構為液壓缸，所述的架體上設有伸出臂，所述的液壓缸穿過第二密封裝置連接在伸出臂上，液壓缸的活塞桿的端部設有用于抓緊伸出臂的抓爪。液壓缸通過伸出臂推動架體前后移動。
[0008]進一步的是:鍍膜設備還包括回轉驅動機構，所述的回轉驅動機構通過公轉組件驅動回轉盤轉動，回轉驅動機構通過自轉組件驅動自轉軸相對回轉盤轉動。回轉驅動機構通過公轉組件和自轉組件實現回轉盤的轉動和自轉軸相對回轉盤轉動。
[0009]進一步的是:所述的回轉驅動機構包括傳動軸、用于驅動傳動軸轉動的電機、轉動軸;所述的傳動軸上設有咬合凹盤，隨架體移動的轉動軸上設有與咬合凹盤相適應的咬合凸盤，所述的轉動軸通過公轉組件驅動回轉盤轉動，所述的轉動軸通過自轉組件驅動自轉軸相對回轉盤轉動。
[0010]進一步的是:所述的傳動軸上設有彈簧，套裝在傳動軸上的彈簧的一端固定在咬合凹盤上，另一端固定在傳動軸上;所述的咬合凹盤滑動式地安裝在傳動軸上。可保證咬合凸盤和咬合凹盤始終相互咬合。
[0011]進一步的是:所述的傳動軸上設有鍵槽，咬合凹盤通過鍵滑動式安裝在傳動軸上。咬合凹盤可在傳動軸上滑動。
[0012]進一步的是:所述的真空室內設有用于支撐轉動軸的定位板。定位板可以使轉動軸保持在應有位置，使轉動軸的軸線保持不變，轉動軸不會上下晃動。
[0013]進一步的是:所述的電機和傳動軸之間設有第一密封裝置。由于回轉盤等為帶電體，設置了第一密封裝置后，可以使得真空室不帶電。
[0014]進一步的是:所述的自轉軸設有多個，多個自轉軸沿著回轉盤的圓周方向均勻布置。
[0015]總的說來，本實用新型具有如下優點:
[0016]1.本實用新型的多弧離子鍍膜設備，因能大幅度提升多弧離子鍍膜的均勻性，減少了膜層斑馬條紋等缺陷。
[0017]2.本實用新型不需要采用多弧靶鍍膜打底，再用磁控濺射靶來鍍膜，能大幅節省鍍膜時間，提高生產效率。
[0018]3.本實用新型鍍膜設備簡單，不用多弧靶與磁控靶合并使用，生產周期短，節約生廣成本，提尚廣品性價比。
[0019]4.本實用新型設置的直線驅動機構，能實現架體的前后移動。
[0020]5.本實用新型設置的回轉驅動機構，能實現回轉盤的轉動和自轉軸相對回轉盤轉動。
【附圖說明】
[0021]圖1是本實用新型的結構示意圖。
[0022]圖2是圖1A處的放大圖。
[0023]圖3是圖1B處的放大圖。
[0024]其中，I為抽真空機組，2為多弧靶，3為真空室，4為電機，5為第一密封裝置，6為傳動軸，7為轉動軸，8為定位板，9為液壓缸，10為第二密封裝置，11為液壓缸的活塞桿，12為抓爪，13為伸出臂，14為行走輪，15為絕緣支撐裝置，16為路軌，17為支撐件，18為中心軸，19為回轉盤，20為自轉軸，21為夾具，22為自轉主動齒輪，23為自轉被動齒輪，24公轉主動齒輪，25為彈簧，26為咬合凹盤上的孔，27為咬合凹盤，28為咬合凸盤，29為咬合凸盤上的桿，30為傳動軸上的鍵槽。
【具體實施方式】
[0025]下面將結合附圖和【具體實施方式】來對本實用新型做進一步詳細的說明。
[0026]圖1為從前視方向(這里說的前視方向為投影時的方位)投影得到的圖，為敘述方便，下文所說的上下前后方向與圖1本身的上下右左方向一致，下文所說的左右方向與圖1投影關系的后前方向一致，。
[0027]結合圖1所示，一種均勻性的多弧離子鍍膜設備，包括多弧靶、真空室、抽真空機組、設置在真空室內的路軌和架體;抽真空機組安裝在真空室的上端，多弧靶有多個，多弧靶安裝在真空室的上端。所述的架體(圖中未示出)上設有支撐件、中心軸、回轉盤;支撐件、中心軸、回轉盤均安裝在架體上，中心軸設置在架體的中心位置。用于支撐架體的支撐件移動式地安裝在路軌上，支撐件有4個，兩個支撐件安裝在架體后部的左右兩側，其余兩個支撐件安裝在架體前部的左右兩側;支撐件的下端設有行走輪，行走輪在路軌上前后移動;行走輪的上方安裝有絕緣支撐裝置，絕緣支撐裝置可以將回轉盤等帶電體和行走輪絕緣起來，回轉盤、中心軸、自轉軸等為帶電體，行走輪和路軌不帶電。回轉盤套裝在中心軸上，回轉盤有兩個，一個回轉盤套裝在中心軸的前部，另一個回轉盤套裝在中心軸的后部。回轉盤上設有相對回轉盤轉動的自轉軸，自轉軸的前端連接在前邊的回轉盤上，自轉軸的后部連接在后邊的回轉盤上。自轉軸上設有夾具，工件安裝在夾具的圓周表面上，安裝在真空室上的多弧靶的靶材朝向夾具，工件安裝在夾具上。
[0028]鍍膜設備還包括直線驅動機構，真空室上設有第二密封裝置，第二密封裝置安裝在真空室后部的下方，第二密封裝置的一部分位于真空室內，一部分位于真空室外，所述的直線驅動機構穿過第二密封裝置與架體相接。
[0029]所述的直線驅動機構為液壓缸，所述的架體上設有伸出臂，伸出臂設置在架體后部的中間位置，且伸出臂設置在架體的下部，所述的液壓缸穿過第二密封裝置連接在伸出臂上，即液壓缸的一部分位于第二密封裝置的內部，結合圖3所示，液壓缸的活塞桿的端部設有用于抓緊伸出臂的抓爪，即液壓缸的活塞桿的前端設有抓爪。由于伸出臂位于架體后部左右居中的位置，液壓缸通過伸出臂推動架體前后運動時，架體能平穩移動。當伸出臂向后運動，伸出臂碰觸到抓爪時，抓爪能抓緊伸出臂，從而液壓缸的活塞桿可以推動架體前后運動。直線驅動機構也可以為氣動缸，相應的，活塞桿應為氣動桿。
[0030]鍍膜設備還包括回轉驅動機構，所述的回轉驅動機構通過公轉組件驅動回轉盤轉動，回轉驅動機構通過自轉組件驅動自轉軸相對回轉盤轉動。
[0031 ]所述的回轉驅動機構包括傳動軸、用于驅動傳動軸轉動的電機、轉動軸;所述的傳動軸上設有咬合凹盤，隨架體移動的轉動軸上設有與咬合凹盤相適應的咬合凸盤，咬合凸盤設置在轉動軸的后端，轉動軸可以轉動式安裝在架體上，咬合凹盤和咬合凸盤相互咬合時，傳動軸的轉動可以帶動轉動軸的轉動，咬合凹盤上設有多個孔，咬合凸盤上設有多根桿，咬合凸盤上的桿可以插入咬合凹盤上的孔內。所述的轉動軸通過公轉組件驅動回轉盤轉動，所述的轉動軸通過自轉組件驅動自轉軸相對回轉盤轉動。一種公轉組件和自轉組件的實現方式是:公轉組件包括公轉主動齒輪和公轉被動齒輪，公轉主動齒輪設置在轉動軸的前端，公轉被動齒輪(圖中未標出)設置在回轉盤上，公轉主動齒輪和公轉被動齒輪的相互嚙合可以驅動回轉盤轉動。自轉組件包括自轉主動齒輪和自轉被動齒輪，自轉主動齒輪設置在轉動軸上，自轉主動齒輪位于公轉主動齒輪的后面，自轉被動齒輪設置在自轉軸的后端，自轉主動齒輪和自轉被動齒輪的相互嚙合可以驅動自轉軸相對回轉盤轉動。當然也可以通過其他方式實現回轉盤的轉動和自轉軸相對回轉盤轉動。轉動軸作為動力源，用于驅動回轉盤轉動(公轉)和自轉軸相對回轉盤轉動(自轉)，自轉組件和公轉組件可以是其他相應的鏈傳動機構或者皮帶輪轉動機構等。
[0032]所述的傳動軸上設有彈簧，套裝在傳動軸上的彈簧的一端固定在咬合凹盤上，另一端固定在傳動軸上;所述的咬合凹盤滑動式地安裝在傳動軸上。
[0033]結合圖2所示，所述的傳動軸上設有鍵槽，咬合凹盤通過鍵滑動式安裝在傳動軸上。傳動軸上的鍵槽的長度應合理設置，咬合凹盤通過鍵安裝在傳動軸上，咬合凹盤可沿著鍵槽滑動。
[0034]所述的真空室內設有用于支撐轉動軸的定位板。由于轉動軸比較長，定位板可以使轉動軸保持在應有位置，使轉動軸的軸線保持不變，轉動軸不會上下晃動。
[0035]所述的電機和傳動軸之間設有第一密封裝置。第一密封裝置為絕緣密封裝置，第一密封裝置和電機均位于真空室的外部，由于回轉盤等為帶電體，設置了第一密封裝置后，可以使得真空室不帶電。
[0036]所述的自轉軸設有多個，多個自轉軸沿著回轉盤的圓周方向均勻布置。同時，每個自轉軸上均設有夾具。為方便起見，圖1中只繪制出一個自轉軸。當有多個自轉軸時，自轉主動齒輪應能與每個自轉被動齒輪很好的相互嚙合。
[0037]使用該多弧離子鍍膜設備的方法是:架體沿著路軌向后運動，當架體上的伸出臂碰觸到液壓缸的活塞桿上的抓爪后，抓爪將伸出臂抓緊，此時，液壓缸通過伸出臂推動架體前后運動。當架體向后運動時，當咬合凸盤和咬合凹盤相互咬合后，電機通過傳動軸帶動轉動軸轉動，轉動軸的轉動實現回轉盤的轉動和自轉軸相對回轉盤的轉動；當架體向前運動時，由于此時，彈簧處于壓縮狀態，彈簧推動咬合凹盤向前滑動，從而使咬合凹盤和咬合凸盤始終處于相互咬合狀態，從而保證轉動軸轉動。在回轉盤的轉動、自轉軸相對回轉盤的轉動、架體的前后移動，這三種運動使得多弧靶能對夾具上的工件進行均勻地鍍膜，且工件上鍍的膜層均勻性好，能實現工件鍍膜均勻度的修正。
[0038]本實用新型的鍍膜設備適用于鍍制高級裝飾膜、合金膜或功能膜，廣泛用于建筑五金材料、手機或數碼產品、刀具或工具、陶瓷等行業。
[0039]上述實施例為本實用新型較佳的實施方式，但本實用新型的實施方式并不受上述實施例的限制，其他的任何未背離本實用新型的精神實質與原理下所作的改變、修飾、替代、組合、簡化，均應為等效的置換方式，都包含在本實用新型的保護范圍之內。
【主權項】
1.一種均勻性的多弧離子鍍膜設備，其特征在于:包括多弧靶、真空室、設置在真空室內的路軌和架體;所述的架體上設有支撐件、中心軸、回轉盤；用于支撐架體的支撐件移動式地安裝在路軌上，回轉盤套裝在中心軸上，回轉盤上設有相對回轉盤轉動的自轉軸，自轉軸上設有夾具，安裝在真空室上的多弧靶朝向夾具。2.按照權利要求1所述的一種均勻性的多弧離子鍍膜設備，其特征在于:鍍膜設備還包括直線驅動機構，真空室上設有第二密封裝置，所述的直線驅動機構穿過第二密封裝置與架體相接。3.按照權利要求2所述的一種均勻性的多弧離子鍍膜設備，其特征在于:所述的直線驅動機構為液壓缸，所述的架體上設有伸出臂，所述的液壓缸穿過第二密封裝置連接在伸出臂上，液壓缸的活塞桿的端部設有用于抓緊伸出臂的抓爪。4.按照權利要求1所述的一種均勻性的多弧離子鍍膜設備，其特征在于:鍍膜設備還包括回轉驅動機構，所述的回轉驅動機構通過公轉組件驅動回轉盤轉動，回轉驅動機構通過自轉組件驅動自轉軸相對回轉盤轉動。5.按照權利要求4所述的一種均勻性的多弧離子鍍膜設備，其特征在于:所述的回轉驅動機構包括傳動軸、用于驅動傳動軸轉動的電機、轉動軸;所述的傳動軸上設有咬合凹盤，隨架體移動的轉動軸上設有與咬合凹盤相適應的咬合凸盤，所述的轉動軸通過公轉組件驅動回轉盤轉動，所述的轉動軸通過自轉組件驅動自轉軸相對回轉盤轉動。6.按照權利要求5所述的一種均勻性的多弧離子鍍膜設備，其特征在于:所述的傳動軸上設有彈簧，套裝在傳動軸上的彈簧的一端固定在咬合凹盤上，另一端固定在傳動軸上;所述的咬合凹盤滑動式地安裝在傳動軸上。7.按照權利要求6所述的一種均勻性的多弧離子鍍膜設備，其特征在于:所述的傳動軸上設有鍵槽，咬合凹盤通過鍵滑動式安裝在傳動軸上。8.按照權利要求5所述的一種均勻性的多弧離子鍍膜設備，其特征在于:所述的真空室內設有用于支撐轉動軸的定位板。9.按照權利要求5所述的一種均勻性的多弧離子鍍膜設備，其特征在于:所述的電機和傳動軸之間設有第一密封裝置。10.按照權利要求1所述的一種均勻性的多弧離子鍍膜設備，其特征在于:所述的自轉軸設有多個，多個自轉軸沿著回轉盤的圓周方向均勻布置。
【文檔編號】C23C14/50GK205710894SQ201620667913
【公開日】2016年11月23日
【申請日】2016年6月27日
【發明人】朱文廓, 朱剛勁, 朱剛毅
【申請人】廣東騰勝真空技術工程有限公司